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目前國(guó)內(nèi)生長(zhǎng)的Ce: YAP晶體仍存在出光率低的問(wèn)題，其機(jī)理應(yīng)該與自吸收有關(guān)，但尚未得到有效解決。為了比較不同退火條件下退火對(duì)自吸收的影響，我們測(cè)量了相同厚度(2mm)和濃度(0.3%)的Ce: YAP晶體在不同溫度和氣氛下退火后的透射光譜、熒光光譜和XEL光譜。從圖4-8可以看出，直拉法生長(zhǎng)的Ce: YAP晶體經(jīng)氫退火后透射邊藍(lán)移，自吸收減弱。當(dāng)進(jìn)行氧退火時(shí)，通過(guò)邊緣紅移增強(qiáng)了自吸收。氫的退火溫度越高，自吸收越弱。氧的退火溫度越高，自吸收越強(qiáng)。然而，退火溫度的上限約為1600。如果溫度太高，晶體容易起霧，導(dǎo)致幾乎不滲透。CeYAP晶體中Ce3離子5d4f躍遷對(duì)應(yīng)的熒光光譜為330~400nm...

除了主要摻雜的鈰元素外，鋯元素占很大比例，其含量超過(guò)10ppm，這應(yīng)該是由于生長(zhǎng)過(guò)程中少量氧化鋯絕緣蓋碎片落入熔體中造成的，但鋯對(duì)YAP: Ce晶體[104]的閃爍特性有一定的積極影響。其他元素的含量太小，不足以引起足夠數(shù)量的吸收中心。但晶體生長(zhǎng)所用原料的純度為5N，測(cè)量結(jié)果表明總雜質(zhì)含量大于1ppm，已經(jīng)超出純度限值一個(gè)數(shù)量級(jí)。過(guò)量的雜質(zhì)可能來(lái)自晶體生長(zhǎng)過(guò)程或配料過(guò)程，因此在未來(lái)的生長(zhǎng)和制備過(guò)程中應(yīng)注意可能的雜質(zhì)污染。CeYAP晶體電子陷阱中捕獲的電子受環(huán)境影響較小。四川生長(zhǎng)CeYAP晶體廠家直供Ce:YAP作為閃爍晶體的真正研究始于T. Takada等人[41](1980)和R. Autr...

可以假設(shè)這種情況存在于NaI: Tl閃爍體中，因?yàn)槠渲蠽k中心的遷移時(shí)間小于10-7s。另一個(gè)模型假設(shè)空穴與Vk中心分離，從價(jià)帶向發(fā)光中心移動(dòng)。由于非局域空穴的高遷移率，這是一種將能量轉(zhuǎn)移到發(fā)光中心的快速方法。閃爍過(guò)程的后面一個(gè)階段，即發(fā)光中心的發(fā)射，已經(jīng)得到了徹底的研究。我們上面已經(jīng)提到了一些啟動(dòng)過(guò)程。目前發(fā)光中心一般分為內(nèi)在和外在兩類。鹵化物和氧化物的本征發(fā)光主要受自陷激子效應(yīng)的制約。非本征發(fā)光主要取決于激發(fā)劑本身的電子躍遷(NaI: Tl，CaF2: Eu)或基質(zhì)與激發(fā)劑之間的躍遷(znse3360te，zns:ag)。而一些所謂的自激閃爍晶體(CeF3，Bi4Ge3O12，CaWO4)...

在吸收伽馬量子后的10-10s內(nèi)，離子晶體包含大量Vk中心和位于導(dǎo)帶中的自由電子。Vk心臟在閃爍過(guò)程中起著重要作用。軸向弛豫也受到價(jià)帶激子和(X22-)*分子中空穴組成的影響。對(duì)于高能激發(fā)，直接形成價(jià)帶激子的概率比較低，而囚禁的激子可以通過(guò)Vk中心俘獲自由電子形成。那么處于激發(fā)態(tài)的被囚禁的激子可以發(fā)射光子，這就是所謂的激子發(fā)光。這種發(fā)光源于導(dǎo)帶中的電子和Vk中心之間的相互作用，一個(gè)Vke配置的自陷激子。這種發(fā)光具有與由晶體中的光致激發(fā)形成的陰離子激子發(fā)光相同的特征。堿金屬鹵化物晶體的本征激子發(fā)光只在低溫下有效，此時(shí)空穴自陷形成的Vk中心是不動(dòng)的。1995年，Tetsuhiko等人總結(jié)并重新研究...

從Ce3+ 離子2F7/2和2F5/2 態(tài)能級(jí)在YAP 晶體中的能級(jí)分裂看，2F7/2能級(jí)在晶體場(chǎng)中分裂的子能級(jí)寬度對(duì)應(yīng)波數(shù)范圍為3250 cm-1到2085cm-1, 2F5/2 態(tài)能級(jí)分裂的子能級(jí)寬度范圍為500 cm-1左右， 5d比較低能級(jí)的對(duì)應(yīng)波數(shù)為33000 cm-1?？梢缘玫紺e3+ 在YAP基質(zhì)中激發(fā)譜(d-f 躍遷)的比較低能級(jí)躍遷的波長(zhǎng)為336.1nm（29750 cm-1），因此316nm的激發(fā)峰成分雖然發(fā)光波長(zhǎng)比較偏紅光方向，但仍在允許范圍內(nèi)。當(dāng)激發(fā)波長(zhǎng)從294nm（34013cm-1）到316nm（31645 cm-1）變化時(shí)，各子能級(jí)都有可能被激發(fā)，且不同能量激發(fā)時(shí)...

電子元器件行業(yè)規(guī)模不斷增長(zhǎng)，國(guó)內(nèi)市場(chǎng)表現(xiàn)優(yōu)于國(guó)際市場(chǎng)，多個(gè)下游企業(yè)的應(yīng)用前景明朗，電子元器件行業(yè)具備廣闊的發(fā)展空間和增長(zhǎng)潛力。閃爍過(guò)程的第四階段可以稱為遷移階段，因?yàn)檫w移的電子激發(fā)并向發(fā)光中心轉(zhuǎn)移能量。通過(guò)電子空穴對(duì)與激子轉(zhuǎn)移能量是可能的。在第一種情況下，通過(guò)依次捕獲一個(gè)空穴和一個(gè)電子(電子復(fù)合發(fā)光)或者依次捕獲一個(gè)電子和空穴(空穴復(fù)合發(fā)光)來(lái)激發(fā)發(fā)光中心。比如堿鹵晶體中的Tl和Ag主要是通過(guò)電子復(fù)合發(fā)光。不同溫度退火的Fe: YAP樣品的吸收光譜和差分吸收光譜。山西科研用CeYAP晶體研發(fā)電子、空穴和激子的相互作用將導(dǎo)致局域化。許多離子晶體表現(xiàn)出一種有趣的現(xiàn)象，即價(jià)帶空穴位于正常晶格中，這種...

有時(shí)線性吸收系數(shù)被質(zhì)量吸收系數(shù)微米=/d (d袋表密度)代替。因?yàn)橘|(zhì)量吸收系數(shù)與材料的晶體結(jié)構(gòu)和相態(tài)無(wú)關(guān)。與鹵素化合物晶體相比，氧化物晶體具有優(yōu)異的熱力學(xué)性質(zhì)和穩(wěn)定的化學(xué)性質(zhì)。因此，鈰離子摻雜的無(wú)機(jī)氧化物閃爍晶體，包括鋁酸鹽、硅酸鹽、硼酸鹽和磷酸鹽，已經(jīng)引起了極大的關(guān)注和光泛的研究。下表總結(jié)了鈰離子摻雜氧化物和硫化物閃爍晶體的基本閃爍特性。由表可知，大多數(shù)摻鈰離子的氧化物閃爍晶體具有高光輸出和快速衰減的特性，尤其是摻鈰離子的鋁酸鹽和硅酸鹽閃爍晶體具有誘人的閃爍特性，如Ce:YAP、Ce3360YAG、Ce:LSO和Ce3360Lyso，被認(rèn)為是新一代高性能無(wú)機(jī)閃爍晶體。Ce:YAP晶體在弱還...

根據(jù)發(fā)生的順序，閃光過(guò)程可分為以下五個(gè)階段：1.電離輻射的吸收和初級(jí)電子及空穴；2.一次電子和空穴，的弛豫即產(chǎn)生大量二次電子、空穴，光子、基本激子等電子激發(fā)；3.低能二次電子和空穴，的弛豫(熱化)，即形成能隙寬度約為Eg的熱化電子空穴對(duì)；4.熱化電子空穴將能量轉(zhuǎn)移到發(fā)光中心并激發(fā)發(fā)光中心；5.激發(fā)態(tài)的發(fā)光中心發(fā)出紫外或可見(jiàn)熒光，即閃爍光。對(duì)于任何凝聚態(tài)物質(zhì)，每個(gè)階段是相似的。因此，為了便于討論，我們將閃爍體中的物理過(guò)程分為兩部分：(1)熱化電子空穴對(duì)的產(chǎn)生(各個(gè)階段)；(2)發(fā)光中心的激發(fā)和發(fā)射。實(shí)際應(yīng)用中，國(guó)產(chǎn)Ce: YAP晶體存在嚴(yán)重的自吸收問(wèn)題，直接影響晶體的發(fā)光效率。浙江白光LED用C...

由于晶體放肩階段屬?gòu)?qiáng)迫限制晶體直徑增大的過(guò)程，晶體尺寸的變化率比較大，如果程序段過(guò)少，容易在晶體表面出現(xiàn)明顯的分段現(xiàn)象，從而影響晶體的內(nèi)部質(zhì)量。在確?？刂凭鹊那疤嵯拢瑸榱诵Э刂凭w外形尺寸，需要考慮增加晶體的生長(zhǎng)程序。在生長(zhǎng)大尺寸Ce: YAP晶體時(shí)我們使用300個(gè)程序段放肩（3504歐路控制器程序段共500段），而采用818歐陸控制器的放肩程序分為30段。結(jié)果表明，增加程序段后，晶體放肩部分的外形控制得到明顯改善 北京生長(zhǎng)CeYAP晶體不同厚度Ce:YAP晶體自吸收比較。獲得大尺寸(直徑為2英寸至3英寸)晶體的生長(zhǎng)工藝，使CeYAP晶體可應(yīng)用于更多的領(lǐng)域。四川雙摻CeYAP晶體元件Mn: ...

對(duì)于摻Ce3的無(wú)機(jī)閃爍晶體，高能射線作用下的閃爍機(jī)制一般認(rèn)為如下[16，17]:晶體吸收高能射線后，晶體內(nèi)部產(chǎn)生大量的熱化電子空穴對(duì)。由于鈰元素的四階電離能是所有稀土元素中比較低的(如圖1-6所示)，晶體發(fā)光中心的Ce3離子首先俘獲一個(gè)空穴形成Ce4離子。然后一個(gè)電子被捕獲，變成Ce3。此時(shí)，電子和空穴被鈰離子重組。復(fù)合產(chǎn)生的能量將Ce3離子從4f基態(tài)激發(fā)到5d激發(fā)態(tài)，然后Ce3離子從5d激發(fā)態(tài)輻射弛豫到4f基態(tài)發(fā)光由于摻雜鈰離子的無(wú)機(jī)閃爍體通常具有高光輸出和快速衰減的特點(diǎn)。發(fā)現(xiàn)YAP基質(zhì)中Ce，Mn之間存在明顯的能量轉(zhuǎn)移過(guò)程。上海國(guó)產(chǎn)CeYAP晶體公司為了研究過(guò)渡金屬可能對(duì)Ce: YAP晶體...

鈰釔鋁石榴石(TGT)閃爍晶體的缺陷及其對(duì)晶體發(fā)光性能和閃爍時(shí)間的影響。生長(zhǎng)CeYAP晶體推薦貨源閃爍材料的發(fā)展歷史可以大致分為幾個(gè)階段？首先，用提拉法生長(zhǎng)大尺寸Ce: YAP晶體，包括改進(jìn)生長(zhǎng)設(shè)備和調(diào)整生長(zhǎng)工藝。因?yàn)橐郧暗纳L(zhǎng)工藝不適合生長(zhǎng)大尺寸的Ce: YAP晶體，尤其是晶體形狀、肩部和等徑部分不能得到有效控制，影響晶體質(zhì)量。為了解決存在的問(wèn)題，我們改進(jìn)了晶體生長(zhǎng)爐的功率控制系統(tǒng)和重量傳感系統(tǒng)，重新設(shè)計(jì)了坩堝和保溫罩，并對(duì)溫度場(chǎng)過(guò)程進(jìn)行了適當(dāng)?shù)奶剿?。由于YAP晶體熱膨脹系數(shù)和熱導(dǎo)率的軸向差異，除了選擇合適的籽晶外，選擇合適的溫度場(chǎng)環(huán)境更為重要。吉林白光LED用CeYAP晶體定制紫外線照射對(duì)...

這里來(lái)為大家介紹下，不同厚度Ce:YAP晶體自吸收比較。ce : YaP晶體生長(zhǎng)的溫場(chǎng)調(diào)整，在晶體生長(zhǎng)過(guò)程中，除了控制部分，坩堝形狀和位置、保溫罩結(jié)構(gòu)、轉(zhuǎn)速、拉速、氣氛等因素都會(huì)對(duì)晶體質(zhì)量產(chǎn)生影響。為了生長(zhǎng)大尺寸晶體，有效改變晶體生長(zhǎng)的溫場(chǎng)和熔體對(duì)流狀態(tài)，我們采用大直徑銥坩堝進(jìn)行生長(zhǎng)，并設(shè)計(jì)了相應(yīng)的保溫罩系統(tǒng)。同時(shí)，在生長(zhǎng)過(guò)程基本穩(wěn)定后，我們通過(guò)適當(dāng)改變氧化鋯體系的結(jié)構(gòu)和調(diào)整晶體生長(zhǎng)的溫場(chǎng)來(lái)尋求比較好的生長(zhǎng)條件。CeYAP高溫閃爍晶體具有優(yōu)異的閃爍性能和獨(dú)特的物理化學(xué)性質(zhì)。四川大尺寸CeYAP晶體報(bào)價(jià)YAP晶體的生長(zhǎng)過(guò)程：(1)籽晶：的選擇籽晶的走向和質(zhì)量直接影響直拉晶體的質(zhì)量。對(duì)于YAP單...

兩項(xiàng)一般性意見(jiàn)如下：如上所述，快電子在非彈性散射過(guò)程中會(huì)損失能量。這是文學(xué)中常見(jiàn)的表達(dá)。但是，能量實(shí)際上并沒(méi)有損失，而是分布到了二次電子激發(fā)。閃爍體中真正的能量損失是由以下與閃爍競(jìng)爭(zhēng)的過(guò)程引起的：點(diǎn)缺陷的形成、聲子，的產(chǎn)生、二次電子和光子從晶體中逃逸以及長(zhǎng)期磷光發(fā)射。 過(guò)渡金屬摻雜對(duì)YAP晶體透過(guò)邊有哪些影響？CeYAG晶體脈沖X射線激發(fā)衰減時(shí)間？Ce: YAP晶體在弱還原氣氛中生長(zhǎng)，發(fā)現(xiàn)自吸收得到有效0，熒光激發(fā)的發(fā)光強(qiáng)度突出提高。同時(shí)，研究了還原氣氛中生長(zhǎng)對(duì)Ce: YAP晶體其他閃爍性能的影響。CeYAP是一種有吸引力的閃爍體。陜西專業(yè)CeYAP晶體生產(chǎn)廠家除了主要摻雜的鈰元素外，鋯元素占...

在吸收伽馬量子后的10-10s內(nèi)，離子晶體包含大量Vk中心和位于導(dǎo)帶中的自由電子。Vk心臟在閃爍過(guò)程中起著重要作用。軸向弛豫也受到價(jià)帶激子和(X22-)*分子中空穴組成的影響。對(duì)于高能激發(fā)，直接形成價(jià)帶激子的概率比較低，而囚禁的激子可以通過(guò)Vk中心俘獲自由電子形成。那么處于激發(fā)態(tài)的被囚禁的激子可以發(fā)射光子，這就是所謂的激子發(fā)光。這種發(fā)光源于導(dǎo)帶中的電子和Vk中心之間的相互作用，一個(gè)Vke配置的自陷激子。這種發(fā)光具有與由晶體中的光致激發(fā)形成的陰離子激子發(fā)光相同的特征。堿金屬鹵化物晶體的本征激子發(fā)光只在低溫下有效，此時(shí)空穴自陷形成的Vk中心是不動(dòng)的。隨著Ce3+ 離子濃度增加，CeYAP晶體的吸收...

晶體中e3的電子結(jié)構(gòu)、能級(jí)結(jié)構(gòu)和發(fā)光特性，給出了鑭系元素的電子殼層結(jié)構(gòu)和離子半徑。從表中可以看出，Ce元素的電子結(jié)構(gòu)為[Xe]4f15d16s2，所以Ce3的電子結(jié)構(gòu)以[Xe]4f1為特征，Ce3的內(nèi)部電子結(jié)構(gòu)為惰性原子結(jié)構(gòu)，0外層只有一個(gè)電子結(jié)構(gòu)，所以Ce3在晶體中具有獨(dú)特的能級(jí)結(jié)構(gòu)和發(fā)光特性:Ce3離子的一個(gè)電子在4f能級(jí)上L=3，在5d能級(jí)上L=2，它們的宇稱不同，所以Ce3離子的5d-4f躍遷是允許的電偶極子躍遷。在這個(gè)允許的5d-4f躍遷中，電子在5d能級(jí)的壽命很短，一般在低5d能級(jí)的30~100ns，所以作為閃爍晶體的發(fā)光中心，它的衰變時(shí)間很短。由于晶體放肩階段屬?gòu)?qiáng)迫限制晶體直徑增...

一般來(lái)說(shuō)，閃爍體可以分為有機(jī)閃爍體(如萘和蒽)和無(wú)機(jī)閃爍體。Ce:YAP作為閃爍晶體的真正研究始于T. Takada等人(1980)和R. Autrata等人(1983)的提議以及YAP晶體作為掃描電鏡電子射線和紫外光子檢測(cè)的研究。1991年，Baryshevky等人用水平區(qū)熔法生長(zhǎng)了Ce:YAP閃爍晶體，然后研究了不同方法生長(zhǎng)的Ce:YAP晶體的光學(xué)和閃爍性質(zhì)。1995年，Tetsuhiko等人總結(jié)并重新研究了Ce:YAP晶體的光學(xué)特性。此后，大量文獻(xiàn)報(bào)道了Ce:YAP晶體的閃爍性質(zhì)和應(yīng)用，并對(duì)其閃爍機(jī)理進(jìn)行了大量深入的研究工作。由于Ce:YAP高溫閃爍晶體具有優(yōu)異的閃爍性能和獨(dú)特的物理化學(xué)...

在40k，由在X-ray激發(fā)的純CsI晶體的能量效率為30%；然而，它的發(fā)光效率在室溫下非常低，這就是為什么純CsI晶體難以用于閃爍過(guò)程的原因。堿土金屬氟化物，如氟化鈣、氟化鍶等。在室溫下，激子發(fā)光仍然保持高產(chǎn)率。在這種情況下，我們可以討論Vk中心在上述反應(yīng)中亞穩(wěn)態(tài)的作用。因此，離子晶體表現(xiàn)出一種非常有趣的性質(zhì)，即純晶體或沒(méi)有發(fā)光中心的晶體可以產(chǎn)生有效的發(fā)光。這是因?yàn)樵谳椪者^(guò)程中，晶體中會(huì)產(chǎn)生大量的Vk發(fā)光中心。在維克激子發(fā)光后，VK中心消失了，水晶恢復(fù)了原來(lái)的屬性。由于晶體放肩階段屬?gòu)?qiáng)迫限制晶體直徑增大的過(guò)程，晶體尺寸的變化率比較大。浙江雙折射CeYAP晶體作用近年來(lái)，Ce:YAG單晶薄膜和...

為了了解過(guò)渡金屬摻雜對(duì)Ce: YAP自吸收可能產(chǎn)生的影響，我們對(duì)比了Cu(0.5%), Fe(0.5%)，Mn(0.5%) 等過(guò)渡金屬摻雜的純YAP晶體的透過(guò)譜。由此可見(jiàn)，Mn摻雜YAP在480nm處有明顯吸收峰，Cu 摻雜則在370nm左右存在吸收峰，F(xiàn)e摻雜YAP并將在下節(jié)討論。我們生長(zhǎng)的Ce: YAP 在350nm到500nm范圍內(nèi)不存在額外吸收峰，少量過(guò)渡金屬離子的存在對(duì)吸收只會(huì)造成線性疊加影響, 且低濃度吸收并不足以造成Ce: YAP晶體的自吸收，因此過(guò)渡金屬離子污染造成Ce: YAP吸收帶紅移可能性不大。CeYAP晶體具有良好的物化性能，是無(wú)機(jī)閃爍晶體中較有優(yōu)勢(shì)的晶體。江西雙摻Ce...

無(wú)機(jī)閃爍晶體的性能表征？電子元器件是構(gòu)成電子信息系統(tǒng)的基本功能單元，是各種電子元件、器件、模塊、部件、組件的統(tǒng)稱，同時(shí)還涵蓋與上述電子元器件結(jié)構(gòu)與性能密切相關(guān)的封裝外殼、電子功能材料等。回顧過(guò)去一年國(guó)內(nèi)激光晶體，閃爍晶體，光學(xué)晶體，光學(xué)元件及生產(chǎn)加工產(chǎn)業(yè)運(yùn)行情況，上半年市場(chǎng)低迷、部分外資企業(yè)產(chǎn)線轉(zhuǎn)移、中小企業(yè)經(jīng)營(yíng)困難，開(kāi)工不足等都是顯而易見(jiàn)的消極影響。但隨著激光晶體，閃爍晶體，光學(xué)晶體，光學(xué)元件及生產(chǎn)加工產(chǎn)業(yè)受到相關(guān)部門高度重視、下游企業(yè)與元器件產(chǎn)業(yè)的黏性增強(qiáng)、下游 5G 產(chǎn)業(yè)發(fā)展前景明朗等利好因素的驅(qū)使下，我國(guó)電子元器件行業(yè)下半年形勢(shì)逐漸好轉(zhuǎn)。CeYAP晶體在對(duì)閃爍晶體CeYAP的研究過(guò)程中...

不同厚度Ce:YAP晶體自吸收比較。當(dāng)強(qiáng)度為J0的入射輻射穿過(guò)厚度為為x,的材料時(shí)，出射輻射的強(qiáng)度可以近似表示為：J=J0exp(-x) (1.8)其中為線性吸收系數(shù)。就伽馬射線而言，它們主要與固體中的電子相互作用。此時(shí)主要取決于固體中的電子密度ne和一個(gè)電子的吸收截面e，所以線性吸收系數(shù)也可以表示為：==(1.9)上式中的z袋表閃爍體的有效原子序數(shù)。閃爍晶體通常要求對(duì)入射輻射有較大的吸收系數(shù)。例如，對(duì)于層析成像技術(shù)，使用吸收系數(shù)大的材料不只可以使探測(cè)器尺寸緊湊，還可以提高其空間分辨率。空間分辨率對(duì)于核物理和高能物理實(shí)驗(yàn)中使用的探測(cè)器尤為重要。晶體生長(zhǎng)過(guò)程中大的溫度梯度以及快的降溫速率等是Ce...

這里來(lái)為大家介紹下，不同厚度Ce:YAP晶體自吸收比較。ce : YaP晶體生長(zhǎng)的溫場(chǎng)調(diào)整，在晶體生長(zhǎng)過(guò)程中，除了控制部分，坩堝形狀和位置、保溫罩結(jié)構(gòu)、轉(zhuǎn)速、拉速、氣氛等因素都會(huì)對(duì)晶體質(zhì)量產(chǎn)生影響。為了生長(zhǎng)大尺寸晶體，有效改變晶體生長(zhǎng)的溫場(chǎng)和熔體對(duì)流狀態(tài)，我們采用大直徑銥坩堝進(jìn)行生長(zhǎng)，并設(shè)計(jì)了相應(yīng)的保溫罩系統(tǒng)。同時(shí)，在生長(zhǎng)過(guò)程基本穩(wěn)定后，我們通過(guò)適當(dāng)改變氧化鋯體系的結(jié)構(gòu)和調(diào)整晶體生長(zhǎng)的溫場(chǎng)來(lái)尋求比較好的生長(zhǎng)條件。結(jié)果發(fā)現(xiàn)兩價(jià)離子對(duì)Ce:YAP晶體閃爍性能有很強(qiáng)的負(fù)面影響，四價(jià)離子則有于助提高晶體的部分閃爍性能。福建生長(zhǎng)CeYAP晶體報(bào)價(jià)由于晶體放肩階段屬?gòu)?qiáng)迫限制晶體直徑增大的過(guò)程，晶體尺寸的...

一個(gè)類似于輻射長(zhǎng)度的物理量叫做摩爾半徑(RM):RMX0 (Z 1.2)/37.74(1.13)，小摩爾半徑有利于減少其他粒子對(duì)能量測(cè)量的污染。吸收系數(shù)、輻射長(zhǎng)度和摩爾半徑與晶體密度直接或間接成反比。因此，尋找高密度閃爍晶體已成為未來(lái)閃爍晶體的一個(gè)重要研究方向。為了減小探測(cè)器的尺寸和成本，希望探測(cè)器越緊湊越好。因此，要求閃爍晶體在防止輻射方面盡可能強(qiáng)，表現(xiàn)為晶體的吸收系數(shù)大、輻射長(zhǎng)度短、摩爾半徑小。Ce:YAP晶體的吸收光譜和熒光光譜受不同的生長(zhǎng)方法和不同的后熱處理工藝的影響很大。Ce:YAP高溫閃爍晶體可廣泛應(yīng)用于相機(jī)、動(dòng)物PET、SEM等檢測(cè)領(lǐng)域。河北白光LED用CeYAP晶體直供電子、...

上式(1.10)中的Wi是構(gòu)成晶體的原子I的重量百分比，Zi是構(gòu)成晶體的原子I的原子序數(shù)。入射到晶體中的光子和電子(或正電子)在晶體中經(jīng)過(guò)一定距離后能量下降到1/e。這個(gè)距離稱為晶體的輻射長(zhǎng)度(通常表示為X0)。它袋表閃爍體對(duì)輻射的截止能力。從上面的定義可以得出結(jié)論：X0=1/ (1.11)可以看出，輻射長(zhǎng)度(X0)與吸收系數(shù)()成反比，所以吸收系數(shù)越大。輻射長(zhǎng)度越短。輻射長(zhǎng)度可由以下公式近似表示：X0=180A/(Z2) (1.12)其中a為原子量，z為有效原子數(shù)，為密度。從這個(gè)公式可以看出，有效原子序數(shù)和密度越高，晶體的輻射長(zhǎng)度越短。由于電磁量熱儀用閃爍晶體的長(zhǎng)度一般為20 X0，因此使用...

Ce: YAP閃爍晶體的性能研究，摻鈰釔鋁石榴石(Ce: YAP)作為一種性能優(yōu)越的高溫閃爍晶體，在高能核物理和核醫(yī)學(xué)領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。然而，在實(shí)際應(yīng)用中，我國(guó)生長(zhǎng)的Ce: YAP晶體存在嚴(yán)重的自吸收問(wèn)題，直接影響晶體的發(fā)光效率。為了提高Ce: YAP晶體的閃爍性能，特別是發(fā)光強(qiáng)度，有必要深入分析晶體的自吸收機(jī)制，盡量減小自吸收對(duì)發(fā)光的影響。本章主要研究?jī)?nèi)容如下：采用中頻感應(yīng)直拉法生長(zhǎng)了不同摻雜濃度的Ce: YAP閃爍晶體，比較了不同厚度、退火溫度和氣氛、不同摻雜和輻照對(duì)自吸收的影響。同時(shí)，分析了不同摻雜對(duì)衰減時(shí)間等其他閃爍特性的影響。CeYAP晶體，摻鈰YAP晶體兼有高光輸出和快衰減時(shí)...

Ce: YAP晶體的退火，剛出爐的Ce:YAP單晶由于內(nèi)部熱應(yīng)力較大，在加工過(guò)程中容易開(kāi)裂，提拉法生長(zhǎng)的晶體明顯，同時(shí)由于鈰離子的價(jià)態(tài)(Ce2、Ce3、Ce4)不同，高溫閃爍晶體中只有三價(jià)鈰離子(Ce3)作為發(fā)光中心，因此不同的退火工藝條件對(duì)高溫閃爍晶體的閃爍性能有重要影響。對(duì)于空氣退火，退火溫度為1000 ~ 1600，恒溫時(shí)間為20 ~ 30小時(shí)，1200以下升溫/降溫速率為50 ~ 100，1200時(shí)升溫/降溫速率為30 ~ 50。使用的設(shè)備是硅碳或硅鉬棒馬弗爐流動(dòng)氫退火，退火溫度1200-1600，恒溫時(shí)間20-36小時(shí)，1200以下升溫/降溫速率50-100/小時(shí)，1200升溫/降溫...

Ce: YAP晶體的退火，剛出爐的Ce:YAP單晶由于內(nèi)部熱應(yīng)力較大，在加工過(guò)程中容易開(kāi)裂，提拉法生長(zhǎng)的晶體明顯，同時(shí)由于鈰離子的價(jià)態(tài)(Ce2、Ce3、Ce4)不同，高溫閃爍晶體中只有三價(jià)鈰離子(Ce3)作為發(fā)光中心，因此不同的退火工藝條件對(duì)高溫閃爍晶體的閃爍性能有重要影響。對(duì)于空氣退火，退火溫度為1000 ~ 1600，恒溫時(shí)間為20 ~ 30小時(shí)，1200以下升溫/降溫速率為50 ~ 100，1200時(shí)升溫/降溫速率為30 ~ 50。使用的設(shè)備是硅碳或硅鉬棒馬弗爐流動(dòng)氫退火，退火溫度1200-1600，恒溫時(shí)間20-36小時(shí)，1200以下升溫/降溫速率50-100/小時(shí)，1200升溫/降溫...

由于過(guò)渡金屬離子d層電子能級(jí)較多，且易受晶場(chǎng)影響，在YAP晶體中可能存在較多吸收帶。GDMS分析結(jié)果也說(shuō)明我們生長(zhǎng)的Ce: YAP 晶體中過(guò)渡金屬含量均小于 10ppm，對(duì)晶體發(fā)光影響可以忽略。YAP會(huì)出現(xiàn)著色現(xiàn)象嗎？上式中X 為傳感器受到的重量，重量間隔為10克；Y 為3504歐路顯示的過(guò)程值，R為相關(guān)系數(shù)，A為截距，B為斜率。測(cè)試結(jié)果表明新系統(tǒng)的相關(guān)系數(shù)為-0.99998，標(biāo)準(zhǔn)差為0.062（原系統(tǒng)為-0.99992，標(biāo)準(zhǔn)差為0.117）, 具有很好的線性，確保了在晶體生長(zhǎng)過(guò)程中控制系統(tǒng)能精確地得到晶體重量信息，從而有效控制晶體生長(zhǎng)。少量過(guò)渡金屬離子的存在對(duì)吸收只會(huì)造成線性疊加影響, 且低...

兩項(xiàng)一般性意見(jiàn)如下：如上所述，快電子在非彈性散射過(guò)程中會(huì)損失能量。這是文學(xué)中常見(jiàn)的表達(dá)。但是，能量實(shí)際上并沒(méi)有損失，而是分布到了二次電子激發(fā)。閃爍體中真正的能量損失是由以下與閃爍競(jìng)爭(zhēng)的過(guò)程引起的：點(diǎn)缺陷的形成、聲子，的產(chǎn)生、二次電子和光子從晶體中逃逸以及長(zhǎng)期磷光發(fā)射。 過(guò)渡金屬摻雜對(duì)YAP晶體透過(guò)邊有哪些影響？CeYAG晶體脈沖X射線激發(fā)衰減時(shí)間？Ce: YAP晶體在弱還原氣氛中生長(zhǎng)，發(fā)現(xiàn)自吸收得到有效0，熒光激發(fā)的發(fā)光強(qiáng)度突出提高。同時(shí)，研究了還原氣氛中生長(zhǎng)對(duì)Ce: YAP晶體其他閃爍性能的影響。晶體生長(zhǎng)過(guò)程中大的溫度梯度以及快的降溫速率等是CeYAP晶體產(chǎn)生開(kāi)裂的主要原因。廣西品質(zhì)CeYA...

由于過(guò)渡金屬離子d層電子能級(jí)較多，且易受晶場(chǎng)影響，在YAP晶體中可能存在較多吸收帶。GDMS分析結(jié)果也說(shuō)明我們生長(zhǎng)的Ce: YAP 晶體中過(guò)渡金屬含量均小于 10ppm，對(duì)晶體發(fā)光影響可以忽略。YAP會(huì)出現(xiàn)著色現(xiàn)象嗎？上式中X 為傳感器受到的重量，重量間隔為10克；Y 為3504歐路顯示的過(guò)程值，R為相關(guān)系數(shù)，A為截距，B為斜率。測(cè)試結(jié)果表明新系統(tǒng)的相關(guān)系數(shù)為-0.99998，標(biāo)準(zhǔn)差為0.062（原系統(tǒng)為-0.99992，標(biāo)準(zhǔn)差為0.117）, 具有很好的線性，確保了在晶體生長(zhǎng)過(guò)程中控制系統(tǒng)能精確地得到晶體重量信息，從而有效控制晶體生長(zhǎng)。CeYAP晶體具有良好的物化性能，是無(wú)機(jī)閃爍晶體中較有優(yōu)...

電子元器件行業(yè)規(guī)模不斷增長(zhǎng)，國(guó)內(nèi)市場(chǎng)表現(xiàn)優(yōu)于國(guó)際市場(chǎng)，多個(gè)下游企業(yè)的應(yīng)用前景明朗，電子元器件行業(yè)具備廣闊的發(fā)展空間和增長(zhǎng)潛力。閃爍過(guò)程的第四階段可以稱為遷移階段，因?yàn)檫w移的電子激發(fā)并向發(fā)光中心轉(zhuǎn)移能量。通過(guò)電子空穴對(duì)與激子轉(zhuǎn)移能量是可能的。在第一種情況下，通過(guò)依次捕獲一個(gè)空穴和一個(gè)電子(電子復(fù)合發(fā)光)或者依次捕獲一個(gè)電子和空穴(空穴復(fù)合發(fā)光)來(lái)激發(fā)發(fā)光中心。比如堿鹵晶體中的Tl和Ag主要是通過(guò)電子復(fù)合發(fā)光。鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的YAP晶體的孿晶習(xí)性很容易揭示。山西白光LED用CeYAP晶體好不好這里來(lái)為大家介紹下，不同厚度Ce:YAP晶體自吸收比較。ce : YaP晶體生長(zhǎng)的溫場(chǎng)調(diào)整，在晶體生長(zhǎng)過(guò)程中...