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真空鍍膜時(shí)，蒸發(fā)料粒子大約只以一個(gè)電子伏特的能量向工件表面蒸鍍，在工件表面與鍍層之間，形成的界面擴(kuò)散深度通常只為幾百個(gè)埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。也就是說(shuō)比一根頭發(fā)絲的百分之一還要小。兩者間可以說(shuō)幾乎沒(méi)有連接的過(guò)渡層，好似截然分開(kāi)。而離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動(dòng)能。如果說(shuō)普通真空鍍膜的粒子相當(dāng)于一個(gè)氣喘吁吁的長(zhǎng)跑運(yùn)動(dòng)員，那么離子鍍的粒子則好似乘坐了高速火箭的乘客，當(dāng)其高速轟擊工件時(shí)，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層，離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米，也就是說(shuō)比普通真空鍍膜的擴(kuò)散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附...

真空鍍膜方法很多，主要有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過(guò)惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積：通過(guò)熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物，獲得沉積薄膜的過(guò)程。(4)離子鍍：實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼有兩者的工藝特點(diǎn)。塑料真空鍍膜機(jī)已經(jīng)普遍應(yīng)用...

真空鍍膜的優(yōu)缺點(diǎn)：真空鍍膜的優(yōu)點(diǎn)。表面有較好的金屬質(zhì)感且細(xì)膩。顏色較水電鍍可解決七彩色的問(wèn)題如魔幻藍(lán)、閃銀燈；水電鍍顏色較單調(diào)，一般只有亮銀、亞銀等少數(shù)幾種?；牟馁|(zhì)選用范圍廣，如PC、ABS、PMMA，（水鍍只能選擇ABS、ABS+PC）。通過(guò)鍍銦錫可做成半透的效果，燈光可以從產(chǎn)品中發(fā)出來(lái)。不污染環(huán)境。2.真空鍍膜的優(yōu)點(diǎn)。蒸鍍靶材受熔點(diǎn)限制，太高熔點(diǎn)的不易采用。真空蒸鍍不過(guò)UV油，其附著力較差，要保證真空蒸鍍的附著力，均需后續(xù)進(jìn)行特殊的噴涂處理。常見(jiàn)的塑料件產(chǎn)品電鍍工藝有兩種:水電鍍和真空離子鍍。江門(mén)樹(shù)脂真空鍍膜師傅下面潤(rùn)溢真空鍍膜小編就來(lái)和大家分享一下真空鍍膜的工藝流程。1、按鍍膜機(jī)操作規(guī)...

真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。加工件進(jìn)入鍍膜室前一定要做到認(rèn)真的鍍前清潔處理，表面污染來(lái)自工件在加工、傳輸、包裝過(guò)程所粘附的各種粉塵、潤(rùn)滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物，為了避免加工過(guò)程中造成的不良，真空鍍加工廠家基本上可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。對(duì)經(jīng)過(guò)清洗處理的清潔表面，不能在大氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至更小。因?yàn)檫@些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔铩Ｕ婵斟兡ぜ庸?duì)于高度不穩(wěn)定的、對(duì)水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。UV真空鍍膜簡(jiǎn)單理解就是產(chǎn)品要用UV油做環(huán)保鍍膜...

真空鍍膜的應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個(gè)大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣的應(yīng)用。為了讓大家更詳細(xì)的了解真空鍍膜的應(yīng)用，下面中山潤(rùn)溢小編詳細(xì)為大家介紹真空鍍膜應(yīng)用的主要幾種方法，希望對(duì)大家有用！真空鍍膜應(yīng)用，簡(jiǎn)單地理解就是在真空環(huán)境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對(duì)于傳統(tǒng)鍍膜方式，真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜，它的主要方法包括以下幾種。塑料真空鍍膜機(jī)給物件鍍膜,為什么要在真空狀態(tài)下進(jìn)行?惠州塑料真空鍍膜加工廠家真空鍍膜機(jī)操作方法。①檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開(kāi)關(guān)是否在"關(guān)"位置。②...

真空鍍膜的方法其實(shí)很多，主要有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過(guò)惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積：通過(guò)熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物，獲得沉積薄膜的過(guò)程。(4)離子鍍：實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼有兩者的工藝特點(diǎn)。真空鍍膜設(shè)備是鍍膜工...

塑料真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱(chēng)基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱(chēng)為真空鍍膜。真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類(lèi)，即物理汽相沉積（PVD）技術(shù)和化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)。真空鍍膜,以其高硬度、低磨損率、低磨擦系數(shù)、強(qiáng)抗腐蝕性、抗黏著性等優(yōu)越的使用性能應(yīng)用于模具工業(yè)中。廣州噴油真空鍍膜工藝流程真空鍍膜技術(shù)是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積...

真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有下列優(yōu)點(diǎn)：(1)薄膜和基體選材廣，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液，也無(wú)環(huán)境污染。真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有上述一些優(yōu)點(diǎn)。PVD真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)工藝步驟及原理！珠海陶瓷真空鍍膜企業(yè)在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個(gè)重要因素。因此，當(dāng)評(píng)價(jià)某薄膜樣品的性...

真空鍍膜有幾種方式？潤(rùn)溢真空鍍膜給大家解答。1：真空蒸發(fā)鍍膜在真空室中加熱蒸發(fā)容器中的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到待鍍產(chǎn)品表面，凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。2：離子鍍膜蒸發(fā)源的加熱和蒸發(fā)鍍膜相同。由于系統(tǒng)為等離子狀態(tài)，使金屬離子在產(chǎn)品表面吸附成膜，金屬離子具有高能量，鍍膜時(shí)離子結(jié)晶性佳、膜層的密著性高等3：磁控濺射鍍膜給靶材施加高電壓（形成等離子狀態(tài)），使正荷電氣體離子撞擊靶材、金屬原子飛彈，而在產(chǎn)品表面形成金屬膜層的方法。 PVD真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)工藝步驟及原理。惠州燈飾真空鍍膜市場(chǎng)真空鍍膜底漆底涂處于基材和真空鍍層之間，其作用主要有：（1）通過(guò)底涂封閉基材，防止...

UV鍍膜生產(chǎn)工藝的流程及參數(shù)：一：檢查線(xiàn)體，確認(rèn)各系統(tǒng)（除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化）運(yùn)轉(zhuǎn)正常；二：清洗基材表面，去除油污（用干凈無(wú)塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面，并立即干燥）；三：基材靜電除塵；四：噴涂底漆，膜厚：10～30微米，可根據(jù)具體基材和要求調(diào)整；五：在30℃～70℃的紅外環(huán)境下的流平5～15分鐘；六：UV固化，曝光能量：600～1200mJ/cm2；七：下線(xiàn)，稍冷卻，真空鍍膜（銦、銦-錫、鋁等）；八：鍍膜完畢靜置冷卻（一般≥5分鐘，不超過(guò)4小時(shí)），再上中漆線(xiàn)體，或直接上面漆線(xiàn)體；九：噴涂中漆，膜厚：4～12微米，可根據(jù)需要添加色漿；十：在30℃～70℃的紅外環(huán)境下的流平5...

除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn)：(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過(guò)程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng)，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍，無(wú)論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來(lái)的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過(guò)程中，對(duì)其膜厚可進(jìn)行比較精確的測(cè)量和控制，從而保證膜厚的均勻性。(...

UV真空鍍膜技術(shù)除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下特點(diǎn)：(1)各種鍍膜技術(shù)都需一個(gè)特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過(guò)程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng)，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。(2)各種鍍膜技術(shù)都需有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍，無(wú)論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來(lái)的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過(guò)程中，對(duì)其膜厚可進(jìn)行比較精確的測(cè)量和控制，從而保證膜厚的均勻性。...

真空鍍膜技術(shù)通常分為PVD技術(shù)和CVD技術(shù)兩大類(lèi)。PVD技術(shù)是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質(zhì)反應(yīng)膜大多以物PVD相沉積方法制得，它利用某種物理過(guò)程，如物質(zhì)的熱蒸發(fā)，或受到離子轟擊時(shí)物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實(shí)現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過(guò)程。PVD技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應(yīng)用的靶材普遍、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)。同時(shí)，由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為處理工藝用于高速鋼和硬質(zhì)合金類(lèi)的薄膜刀具上。由于采用PVD工藝可大幅度提高...

真空鍍膜也就是真空電鍍,就是將塑膠、薄膜等制品置于高真空爐內(nèi)。對(duì)鋁，錫，銦等金屬加熱，使之蒸發(fā)形成金屬氣體，金屬氣體在高真空條件下自由散發(fā)，冷卻后附著于被蒸鍍物表面上，形成金屬薄膜。 真空鍍膜為什么要噴底漆和面漆?真空鍍膜前噴底漆能增加金屬層和塑材之間的附著度，使塑材表面平坦光滑。電鍍后光澤度好。-真空鍍膜后噴面漆起保護(hù)鍍層，防止氧化，污染。增強(qiáng)表面耐磨。耐刮性能。通過(guò)增加染料等物質(zhì)達(dá)到表面美觀多樣化的目的。-真空不導(dǎo)電電鍍和普通真空電鍍有何區(qū)別?真空不導(dǎo)電電鍍，又稱(chēng)NCVM。普通真空電鍍習(xí)慣稱(chēng)PVD。真空不導(dǎo)電電鍍的加工工藝緣于普通真空電鍍，卻比其制程復(fù)雜的多，主要區(qū)別是其電鍍區(qū)域不導(dǎo)電，從...

真空鍍膜涂料面漆。真空鍍層通常較薄(不超過(guò)0.2μm)，耐磨性等力學(xué)性能較差。面漆不但起到保護(hù)鍍層的作用，還可賦予真空鍍膜制品良好的硬度、耐磨性等力學(xué)性能。面漆的主要性能要求包括：（1）對(duì)鍍層有較高的附著力，這是涂層起保護(hù)作用的基礎(chǔ);（2）應(yīng)具有足夠的耐磨性，以保護(hù)極薄的真空鍍層免受機(jī)械擦傷;（3）具有較高的阻隔性，即本身要具有較好的耐水、耐腐蝕性及耐候性，阻止氧氣等對(duì)鍍膜有腐蝕性的物質(zhì)直接接觸真空鍍層，保護(hù)鍍層免受腐蝕;（4）面漆組成本身不能含有可能腐蝕鍍層的組分或雜質(zhì);（5）對(duì)于需要突出光亮度的真空鍍膜場(chǎng)合，面漆也應(yīng)保證有較高的透明性和表面光澤。某些真空鍍膜工藝無(wú)需面漆，如鍍膜材料為鉻、不...

UV真空鍍膜系列產(chǎn)品是我公司將光固化涂料應(yīng)用于真空鍍膜技術(shù)中的成功實(shí)踐，適用于ABS、AS、PS、PC、PET、PA、PP、BMC等塑料表面的真空鍍膜工藝，經(jīng)過(guò)噴涂方法涂裝，UV快速固化，操作簡(jiǎn)單、施工方便。具有對(duì)基材及鍍膜層附著好、干燥快、耐化學(xué)性能好等特性。底面涂配套成型后，表面硬度高、耐磨性能佳、平整光滑、金屬質(zhì)感好，普遍應(yīng)用于化妝品、手機(jī)、數(shù)碼相機(jī)、電腦、電視機(jī)、汽車(chē)零配件及光電產(chǎn)業(yè)等外殼、按鍵及其它電子裝飾件表面的真空鍍膜工藝。UV真空鍍膜產(chǎn)品的優(yōu)異性低溫紫外光固化，對(duì)基材損傷小固化速度快，適合流水線(xiàn)生產(chǎn)、鍍膜美觀、綜合性能優(yōu)異減少環(huán)境及空氣污染，節(jié)約能源不含有毒重金屬物質(zhì)，符合歐盟...

PVD技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應(yīng)用的靶材普遍、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)。同時(shí)，由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為處理工藝用于高速鋼和硬質(zhì)合金類(lèi)的薄膜刀具上。由于采用PVD工藝可大幅度提高刀具的切削性能，人們?cè)诟?jìng)相開(kāi)發(fā)高性能、高可靠性設(shè)備的同時(shí)，也對(duì)其應(yīng)用領(lǐng)域的擴(kuò)展，尤其是在高速鋼、硬質(zhì)合金和陶瓷類(lèi)刀具中的應(yīng)用進(jìn)行了更加深入的研究。CVD技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng)，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積和兼有CV...

真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn)：(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過(guò)程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng)，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍，無(wú)論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來(lái)的制膜材料，...

由于電鍍企業(yè)經(jīng)歷近幾年行業(yè)低迷，經(jīng)濟(jì)蕭條的影響后，使得很多企業(yè)背負(fù)沉重的訂單壓力，成本壓力，資金壓力等等;由于電鍍企業(yè)下游客戶(hù)單位效益不景氣，直接影響到電鍍企業(yè)之前業(yè)務(wù)效益;處于非常被動(dòng)的狀態(tài);一邊是生產(chǎn)需要大量的人力，物力，財(cái)力;一邊是貨款收不回來(lái)，導(dǎo)致一些生產(chǎn)企業(yè)被迫停產(chǎn)，消耗庫(kù)存;縱觀電鍍行業(yè)市場(chǎng)前景由于處于整個(gè)行業(yè)的比較低端，多年來(lái)積累了一定的問(wèn)題，解決并有效的處理好自己的問(wèn)題才是企業(yè)的生存之根本，很多企業(yè)想開(kāi)工但是不知道未來(lái)的路有多么難走，有些企業(yè)在考慮轉(zhuǎn)型但是又不知道轉(zhuǎn)型后能否成功，更甚至有大部分企業(yè)直接就停產(chǎn)不做了，保持觀望的態(tài)度;開(kāi)工經(jīng)營(yíng)難，不開(kāi)工等待難，這就是目前電鍍行業(yè)處于...

真空鍍膜工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍?nèi)N。真空蒸鍍，簡(jiǎn)稱(chēng)蒸鍍，是指在真空條件下，采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料（或稱(chēng)膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。離子鍍是真空鍍膜工藝的一項(xiàng)新發(fā)展。普通真空鍍膜（亦稱(chēng)真空蒸鍍）時(shí)，工件夾固在真空罩內(nèi)，當(dāng)高溫蒸發(fā)源通電加熱后，促使待鍍材料——蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。為什么需要進(jìn)行真空鍍膜呢？這項(xiàng)工藝已經(jīng)成為了電子元器件制造中的一項(xiàng)不可或缺的技術(shù)，主要是為了使產(chǎn)品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優(yōu)于產(chǎn)品本身的性能，從而提高產(chǎn)品的質(zhì)量，延長(zhǎng)加工產(chǎn)品的使用壽命，不只如此，還可以節(jié)約能源，獲得更為明顯的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益。實(shí)際應(yīng)用中，我們往往會(huì)根...

UV鍍膜生產(chǎn)工藝的流程及參數(shù)：一：檢查線(xiàn)體，確認(rèn)各系統(tǒng)（除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化）運(yùn)轉(zhuǎn)正常；二：清洗基材表面，去除油污（用干凈無(wú)塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面，并立即干燥）；三：基材靜電除塵；四：噴涂底漆，膜厚：10～30微米，可根據(jù)具體基材和要求調(diào)整；五：在30℃～70℃的紅外環(huán)境下的流平5～15分鐘；六：UV固化，曝光能量：600～1200mJ/cm2；七：下線(xiàn)，稍冷卻，真空鍍膜（銦、銦-錫、鋁等）；八：鍍膜完畢靜置冷卻（一般≥5分鐘，不超過(guò)4小時(shí)），再上中漆線(xiàn)體，或直接上面漆線(xiàn)體；九：噴涂中漆，膜厚：4～12微米，可根據(jù)需要添加色漿；十：在30℃～70℃的紅外環(huán)境下的流平5...

在某些材料的表面上只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。20世紀(jì)70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過(guò)通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導(dǎo)體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應(yīng)，這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強(qiáng)度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時(shí)還會(huì)產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴(yán)重的污染。因此，這兩種被人們稱(chēng)之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。真空鍍膜則是相對(duì)于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來(lái)的一種新型鍍膜技術(shù)，通常稱(chēng)為干式鍍膜技...

表面處理應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域，例如人類(lèi)生產(chǎn)用的工業(yè)用品、生活用的日常用品、消費(fèi)品、工藝品等。不同產(chǎn)品有不同需求，對(duì)應(yīng)的表面處理方式也不同。工業(yè)用品，多以改變表面性能為目的。主要為增強(qiáng)表面剛度、硬度、強(qiáng)度、耐磨性、耐腐蝕性、耐高溫等性能需求。工業(yè)消費(fèi)品，改性滿(mǎn)足功能要求的同時(shí)也注重裝飾性。例如汽車(chē)外表面的表面處理，采用靜電噴涂的方式，既有保護(hù)車(chē)體的功能需求也有美觀的裝飾屬性。日常用品，重視裝飾，滿(mǎn)足客戶(hù)體驗(yàn)感，同時(shí)也需要滿(mǎn)足防腐蝕、耐磨、防酸堿度等性能要求。真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面。中山市區(qū)玩具真空鍍膜模具由于光固化體系的固化過(guò)程是由光引發(fā)的，因此光固化體系也有如下缺點(diǎn)：固化深 度受限；在...

由于底漆位于基材和鍍膜的中間，其性能應(yīng)當(dāng)滿(mǎn)足基材和真空鍍層兩方面的要求，具體包括以下幾個(gè)方面：（1）與塑料基材、真空鍍層均有較好的粘附性，這是作為真空鍍膜底漆應(yīng)具備的Z基本性能;（2）應(yīng)具有良好的流平性，這是決定真空鍍層是否具有高光澤和鏡面效果的關(guān)鍵;（3）不應(yīng)含有揮發(fā)性小分子，主要是指殘留單體、揮發(fā)性添加劑、揮發(fā)性雜質(zhì)和高沸點(diǎn)溶劑等，其在真空升溫環(huán)境下會(huì)逐漸逸出，從多方面破壞鍍膜質(zhì)量和性能;（4）應(yīng)具有一定的耐熱性，其熱膨脹性要和真空鍍層的熱脹冷縮性能相適應(yīng)，抗熱形變和熱分解性能應(yīng)滿(mǎn)足真空鍍膜工藝的要求;（5）對(duì)于柔性基材，底涂應(yīng)具有足夠的柔韌性，否則易造成鍍層連帶開(kāi)裂，甚至崩脫在ABS真空...

塑料UV真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣體的形式沉積到基材（通常是非金屬材料）表面，因?yàn)殄儗映榻饘俦∧?，故也稱(chēng)真空金屬化，又稱(chēng)真空鍍膜（主要是取代污染嚴(yán)重的傳統(tǒng)水電鍍工藝）。真空鍍膜的主要功能是賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電性能及完美的表面裝飾效果。目前，真空鍍膜的方法有熱蒸發(fā)鍍膜法和磁控濺射鍍膜法兩種工藝，金屬源有鋁、錫、銦、鈷、鎳、銅、鋅、銀、金、鈦、鉻、鉬、鎢等。真空鍍膜機(jī)參數(shù)怎么調(diào)？深圳塑料真空鍍膜平臺(tái)辨別一家好的真空鍍膜加工廠，可以大概從如下五個(gè)方面加以衡量。1.車(chē)間環(huán)境是否具有三級(jí)凈化供風(fēng)系...

真空鍍膜法在手機(jī)消費(fèi)電子的表面處理中，物li氣相沉積（PVD）是主要的真空鍍膜方法。其原理為：在真空條件下，將金屬氣化成原子或分子，或者使其離子化成離子，直接沉積到工件表面，形成涂層，其沉積粒子束來(lái)源于非化學(xué)因素，如蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍等。真空不導(dǎo)電電鍍，稱(chēng)NCVM，是一種真空電鍍的高新技術(shù)。也是目前塑膠件外殼普遍采用的物理法表面處理工藝之一。采用新的鍍膜技術(shù)、新的材料，做出普通真空電鍍的不同顏色的金屬外觀效果，起到美化工件表面之功用。真空鍍膜設(shè)備作業(yè)時(shí)的應(yīng)急預(yù)案。噴油真空鍍膜廠家真空鍍膜前需要在塑料基材表面進(jìn)行UV涂裝的主要目的有以下幾點(diǎn):一，通過(guò)UV涂層來(lái)封閉基材，防止真空鍍膜時(shí)或工件使...

真空鍍膜的方法主要有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過(guò)惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積：通過(guò)熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物，獲得沉積薄膜的過(guò)程。(4)離子鍍：實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼有兩者的工藝特點(diǎn)。進(jìn)口和國(guó)產(chǎn)真空鍍膜技術(shù)的本質(zhì)有...

真空鍍膜前要在塑料基材表面進(jìn)行UV涂裝的主要目的有以下幾點(diǎn):一，通過(guò)UV涂層來(lái)封閉基材，防止真空鍍膜時(shí)或工件使用時(shí)基材中的揮發(fā)性雜質(zhì)逸出，影響鍍膜質(zhì)量。像在車(chē)燈反射罩應(yīng)用時(shí)，由于在使用過(guò)程中溫度會(huì)升到100℃以上，基材中如有揮發(fā)性雜質(zhì)釋放會(huì)使鍍鋁層發(fā)彩、變色、影響反射效果。二，提高基材表面平整度，確保獲得鏡面的鍍膜效果。一般來(lái)說(shuō)塑料表面本身具有0.51nn左右的粗糙度，真空鍍膜的厚度不超過(guò)0.2μm，無(wú)法填平基材表面的凹凸不平，得不到理想的鏡面效果，UV涂層厚度達(dá)到10-20μm，表面平整度在0.1μm以下，可填平基材缺陷并得到理想的鍍膜效果。三，獲得更厚的真空電鍍層.用底漆過(guò)渡,有利于獲得更...

真空鍍膜與蒸發(fā)鍍膜機(jī)、濺射鍍膜機(jī)相比，主要有如下幾點(diǎn)：①膜/基結(jié)合力（附著力）強(qiáng)，膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產(chǎn)生的濺射作用，使基體受到清洗，jihuo及加熱，既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層，也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時(shí)鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強(qiáng)擴(kuò)散效應(yīng)。既提高了基體表面層組織結(jié)晶性能，也提供了合金相形成的條件。而且，較高能量的離子轟擊，還可以產(chǎn)生一定的離子注入和離子束混合效應(yīng)。②離子鍍膜機(jī)由于產(chǎn)生良好的繞射性。在壓力較高的情況下（≧1Pa）被電離的蒸汽的離子或分子在到達(dá)基體前的路程上將會(huì)遇到氣體分子的多次碰撞。因此，可使膜材粒子散射在基體的周?chē)?。從而改善了膜層的覆蓋性...

真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。加工件進(jìn)入鍍膜室前一定要做到認(rèn)真的鍍前清潔處理，表面污染來(lái)自工件在加工、傳輸、包裝過(guò)程所粘附的各種粉塵、潤(rùn)滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物，為了避免加工過(guò)程中造成的不良，真空鍍加工廠家基本上可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。對(duì)經(jīng)過(guò)清洗處理的清潔表面，不能在大氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至更小。因?yàn)檫@些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔?。真空鍍膜加工?duì)于高度不穩(wěn)定的、對(duì)水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。真空鍍膜機(jī)參數(shù)怎么調(diào)？汕頭五金型材真空鍍膜技術(shù)表...