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湖北輪廓儀研發(fā)生產(chǎn)

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-02-07

輪廓儀在晶圓的IC封裝中的應(yīng)用:

晶圓的IC制造過程可簡(jiǎn)單看作是將光罩上的電路圖通過UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過程,其中由于光罩中電路結(jié)構(gòu)尺寸極小,任何微小的黏附異物和下次均會(huì)導(dǎo)致制造的晶圓IC表面存在缺 陷,因此必須對(duì)光罩和晶圓的表面輪廓進(jìn)行檢測(cè),檢測(cè)相應(yīng)的輪廓尺寸。



白光輪廓儀的典型應(yīng)用:

對(duì)各種產(chǎn)品,不見和材料表面的平面度,粗糙度,波溫度,面型輪廓,表面缺 陷,磨損情況,腐蝕情況,孔隙間隙,臺(tái)階高度,完全變形情況,加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測(cè)量和分析。


視場(chǎng)范圍:560×750um(10×物鏡) 具體視場(chǎng)范圍取決于所配物鏡及 CCD 相機(jī) 。湖北輪廓儀研發(fā)生產(chǎn)

    超納輪廓儀的主設(shè)計(jì)簡(jiǎn)介:

中組部第十一批“****”****,美國KLA-Tencor(集成電路行業(yè)檢測(cè)設(shè)備市場(chǎng)的**企業(yè))***研發(fā)總監(jiān),干涉測(cè)量技術(shù)**美國上市公司ADE-Phaseift的總研發(fā)工程師,創(chuàng)造多項(xiàng)干涉測(cè)量數(shù)字化所需的關(guān)鍵算法,在光測(cè)領(lǐng)域發(fā)表23個(gè)美國專利和35篇學(xué)術(shù)論文3個(gè)研發(fā)的產(chǎn)品獲得大獎(jiǎng),國家教育部***批公派研究生,83年留學(xué)美國。光學(xué)輪廓儀可廣泛應(yīng)用于各類精密工件表面質(zhì)量要求極高的如:半導(dǎo)體、微機(jī)電、納米材料、生物醫(yī)療、精密涂層、科研院所、航空航天等領(lǐng)域??梢哉f只要是微型范圍內(nèi)重點(diǎn)部位的納米級(jí)粗糙度、輪廓等參數(shù)的測(cè)量,除了三維光學(xué)輪廓儀,沒有其它的儀器設(shè)備可以達(dá)到其精度要求。(網(wǎng)絡(luò))。 太陽能電池輪廓儀優(yōu)惠價(jià)格在結(jié)構(gòu)上,輪廓儀基本上都是臺(tái)式的,而粗糙度儀以手持式的居多,當(dāng)然也有臺(tái)式的。

關(guān)于三坐標(biāo)測(cè)量輪廓度及粗糙度

  三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)是不能測(cè)量粗糙度的,至于測(cè)量零件的表面輪廓 ,要視三坐標(biāo)的測(cè)量精度及零件表面輪廓度的要求了,如果你的三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)精度比較高,但零件輪廓度要求不可,是可以用三坐標(biāo)來代替的。一般三坐標(biāo)精度都在2-3um左右,而輪廓儀都在2um以內(nèi),還有就是三坐標(biāo)可以測(cè)量大尺寸零件的輪廓,因?yàn)樗旋堥T式三坐標(biāo)和關(guān)節(jié)臂三坐標(biāo),而輪廓儀主要是用來測(cè)量一些小的精密零件輪廓尺寸的,加上粗糙度模塊也可以測(cè)量粗糙度。

強(qiáng)大的輪廓儀光電一體軟件


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通過光學(xué)表面三維輪廓儀的掃描檢測(cè),得出物件的誤差和超差參數(shù),**提高物件在生產(chǎn)加工時(shí)的精確度。

輪廓儀對(duì)所測(cè)樣品的尺寸有何要求?

答:輪廓儀對(duì)載物臺(tái)xy行程為140*110mm(可擴(kuò)展),Z向測(cè)量范圍比較大可達(dá)10mm,但由于白光干涉儀單次測(cè)量區(qū)域比較?。ㄒ?0X鏡頭為例,在1mm左右),因而在測(cè)量大尺寸的樣品時(shí),全檢的方式需要進(jìn)行拼接測(cè)量,檢測(cè)效率會(huì)比較低,建議尋找樣品表 面的特征位置或抽取若干區(qū)域進(jìn)行抽點(diǎn)檢測(cè),以單點(diǎn)或多點(diǎn)反映整個(gè)面的粗糙度參數(shù);

4.測(cè)量的**小尺寸是否可以達(dá)到12mm,或者能夠測(cè)到更小的尺寸?


如果需要了解更多,請(qǐng)?jiān)L問官網(wǎng)。 輪廓儀廣泛應(yīng)用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加 工、表面工程技術(shù)、材料、太陽能電池技術(shù)等領(lǐng)域。Nano X-3000輪廓儀推薦廠家

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2)共聚焦顯微鏡方法 

共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉(zhuǎn)多***盤、帶有壓電驅(qū)動(dòng)器的物鏡和CCD相機(jī)。LED光源通過多***盤(MPD)和物鏡聚焦到樣品表面上,從而反射光。反射光通過MPD的***減小到聚焦的部分落在CCD相機(jī)上。傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細(xì)節(jié),但是在共焦圖像中,通過多***盤的操作濾除模糊細(xì)節(jié)(未聚焦),只有來自聚焦平面的光到達(dá)CCD相機(jī)。因此,共聚焦顯微鏡能夠在納米范圍內(nèi)獲得高 分辨率。 每個(gè)共焦圖像是通過樣品的形貌的水平切片,在不同的焦點(diǎn)高度捕獲圖像產(chǎn)生這樣的圖像的堆疊,共焦顯微鏡通過壓電驅(qū)動(dòng)器和物鏡的精確垂直位移來實(shí)現(xiàn)。200到400個(gè)共焦圖像通常在幾秒內(nèi)被捕獲,之后軟件從共焦圖像的堆棧重建精確的三維高度圖像。 湖北輪廓儀研發(fā)生產(chǎn)

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