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杭州銅鈦蝕刻液剝離液供應(yīng)商

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-05-07

    能夠增強(qiáng)親水性,使得剝離液親水性良好,能快速高效地剝離溶解光刻膠。潤濕劑含有羥基,為聚乙二醇、甘油中的任意一種。下面通過具體實(shí)施例對(duì)本申請(qǐng)作進(jìn)一步詳細(xì)說明。以下實(shí)施例對(duì)本申請(qǐng)進(jìn)行進(jìn)一步說明,不應(yīng)理解為對(duì)本申請(qǐng)的限制。表一:兩種不同組分的剝離液配方一和配方二所采用的基礎(chǔ)組分基本相同,不同的是配方二中加入有潤濕劑,上述所描述的潤濕劑是用于增強(qiáng)親水性的,滴液與產(chǎn)品表面間的夾角為接觸角,接觸角可用來衡量潤濕程度,水滴角測(cè)試儀可測(cè)量接觸角,從潤濕角度考慮,接觸角<90°,且接觸角越小潤濕效果越好加入潤濕劑后的配方二所制得的剝離液,在滴落在高世代面板后,通過水滴角測(cè)試儀測(cè)接觸角,檢測(cè)圖如圖1所示,三次測(cè)試的接觸角如下表二:上述兩種不同組分的剝離液作接觸角測(cè)試接觸角配方一配方二測(cè)試一,加入潤濕劑后的配方二所制得的剝離液,其滴落在高世代面板后,其接觸角比未加入潤濕劑的配方一的剝離液潤濕效果更好;請(qǐng)參閱圖2所示,將配方一所制得的剝離液以及配方二所制得的剝離液進(jìn)行光刻膠剝離,圖2中的陰影圓點(diǎn)為浸泡時(shí)間t1后光刻膠殘留,明顯地,可以看出配方二中t1時(shí)間后光刻膠殘留量小,而配方一中產(chǎn)品邊緣處光刻膠的殘留量大。上海和輝光電用的哪家的剝離液?杭州銅鈦蝕刻液剝離液供應(yīng)商

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    IC去除剝離液MSDS1.產(chǎn)品屬性產(chǎn)品形式:混合溶液產(chǎn)品名稱:ANS-908產(chǎn)品功能描述:用于COG重工,使IC與玻璃無損傷分離2.組成成份化學(xué)名稱CASNo含量%(v)1-METHYL-2-PYRROLIDINONE872-50-445~90N,N-DIMETHYLACETAMIDE127-19-510~58Other12~45SurfactantThickener3.危險(xiǎn)識(shí)別可燃性液體和蒸汽警示標(biāo)識(shí)外觀:透明或微黃氣味:類氨對(duì)人類和環(huán)境的危害:對(duì)眼睛和皮膚有刺激性吸入:會(huì)引起呼吸道受刺激,肝臟、腎受傷害,對(duì)系統(tǒng)有影響攝?。簳?huì)引起呼吸道和消化道刺激長(zhǎng)期接觸:會(huì)引起皮膚傷害4.緊急處理吸入:移至空氣新鮮處,呼吸困難時(shí)輸氧、看醫(yī)生攝?。貉杆賴I吐或者看醫(yī)生皮膚接觸:用大量水沖洗15分鐘以上,更換衣服、鞋,或者看醫(yī)生眼睛接觸:用大量水沖洗15分鐘以上,嚴(yán)重時(shí)看醫(yī)生5.防火措施合適的滅火裝置:水槍、泡沫滅火器、干粉滅火器、CO2滅火器特別防護(hù)措施:穿戴防護(hù)面罩閃點(diǎn):>110℃自燃溫度:>340℃6.意外泄漏注意事項(xiàng)人員:避免吸入,避免皮膚、眼睛、衣物的接觸,霧狀時(shí)戴防護(hù)面罩環(huán)境:迅速移除火源,避免吸入和接觸清潔方法:大量泄漏應(yīng)截流并泵入容器,用吸附材料吸掉殘余物;少量泄漏用水沖洗7.存儲(chǔ)和搬運(yùn)搬運(yùn):遠(yuǎn)離火源、煙霧;不要吸入蒸汽。嘉興格林達(dá)剝離液費(fèi)用剝離液的技術(shù)指標(biāo)哪家比較好?

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    按照玻璃基板傳送方向從當(dāng)前腔室101開始逐級(jí)由各腔室10向玻璃基板供給剝離液以進(jìn)行剝離制程。剝離液從當(dāng)前腔室101進(jìn)入相應(yīng)的存儲(chǔ)箱20,在剝離液的水平面超過預(yù)設(shè)高度后流入過濾器30,再經(jīng)過過濾器30的過濾將過濾后的剝離液傳送至下一級(jí)腔室102內(nèi)。其中,薄膜碎屑70一般為金屬碎屑或ito碎屑。其中,如圖2所示,圖2為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)100的第二種結(jié)構(gòu)示意圖。閥門開關(guān)60設(shè)置在管道40及第二管道50上。在過濾器30被阻塞時(shí),關(guān)閉位于過濾器30兩側(cè)的管道40及第二管道50上的閥門開關(guān)60,可以保證當(dāng)前級(jí)腔室101對(duì)應(yīng)的存儲(chǔ)箱20內(nèi)剝離液不會(huì)流出,同時(shí)下一級(jí)腔室102內(nèi)的剝離液也不會(huì)流出。在一些實(shí)施例中,請(qǐng)參閱圖3,圖3為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)100的第三種結(jié)構(gòu)示意圖。過濾器30包括多個(gè)并列排布的子過濾器301,所述管道40包括多個(gè)子管道401,每一所述子管道401與一子過濾器301連通,且所述多個(gè)子管道401與當(dāng)前級(jí)腔室101對(duì)應(yīng)的存儲(chǔ)箱20連通。在一些實(shí)施例中,第二管道50包括公共子管道501及多個(gè)第二子管道502,每一所述第二子管道502與一子過濾器301連通,每一所述第二子管道502與所述公共子管道501連通,所述公共子管道501與所述下一級(jí)腔室102連通。其中。

    該方法包括:步驟110、將多級(jí)腔室順序排列,按照處于剝離制程的剝離基板的傳送方向逐級(jí)向剝離基板提供剝離液;步驟120、將來自于當(dāng)前級(jí)腔室經(jīng)歷剝離制程的剝離液收集和存儲(chǔ)于當(dāng)前級(jí)腔室相應(yīng)的存儲(chǔ)箱中,所述剝離液中夾雜有薄膜碎屑;步驟130、使用當(dāng)前級(jí)腔室相應(yīng)的過濾器過濾來自當(dāng)前級(jí)腔室的剝離液并將過濾后的剝離液傳輸至下一級(jí)腔室;步驟140、若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān);步驟150、取出被阻塞的所述過濾器。若過濾器包括多個(gè)并列排布的子過濾器,則可以關(guān)閉被阻塞的子過濾器的閥門,因此,步驟140還可以包括:若所述過濾器包括多個(gè)并列排布的子過濾器,則關(guān)閉連接被阻塞的所述子過濾器的管道上的閥門開關(guān)。在上述實(shí)施例中,對(duì)各個(gè)實(shí)施例的描述都各有側(cè)重,某個(gè)實(shí)施例中沒有詳述的部分,可以參見其他實(shí)施例的相關(guān)描述。以上對(duì)本申請(qǐng)實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)介紹,本文中應(yīng)用了具體個(gè)例對(duì)本申請(qǐng)的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述,以上實(shí)施例的說明只是用于幫助理解本申請(qǐng)的技術(shù)方案及其思想;本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解:其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改,或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換。天馬微電子用的哪家的剝離液?

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    本實(shí)用新型涉及光刻膠生產(chǎn)設(shè)備,具體是一種光刻膠廢剝離液回收裝置。背景技術(shù):光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一,其是由溶劑、感光樹脂、光引發(fā)劑和添加劑四種成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下,進(jìn)行光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影等過程,將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移至待加工的襯底上,然后進(jìn)行蝕刻等工藝加工,終得到所需圖像。其中,溶劑使光刻膠具有流動(dòng)性,易揮發(fā),對(duì)于光刻膠的化學(xué)性質(zhì)幾乎沒有影響。感光樹脂是惰性的聚合物,用于把光刻膠中的不同材料聚在一起的粘合劑,給予光刻膠其機(jī)械和化學(xué)性質(zhì)。光引發(fā)劑是光刻膠中的光敏成分,對(duì)光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)。添加劑是控制光刻膠材料特殊方面的化學(xué)物質(zhì),用來控制和改變光刻膠材料的特定化學(xué)性質(zhì)或響應(yīng)特性。在光刻工藝中,一般步驟為勻膠—干燥—前烘--曝光—顯影—后烘—蝕刻—?jiǎng)冸x。在光刻膠剝離工序中會(huì)產(chǎn)生剝離廢液,光刻膠價(jià)格昂貴,如不對(duì)廢液中的光刻膠成分回收利用,會(huì)造成較大的資源浪費(fèi),因此企業(yè)通常將剝離廢液中的光刻膠樹脂進(jìn)行有效回收并應(yīng)用于再生產(chǎn)中。蘇州口碑好的剝離液公司。廣州配方剝離液銷售電話

剝離液應(yīng)用于什么樣的場(chǎng)合?杭州銅鈦蝕刻液剝離液供應(yīng)商

    本發(fā)明涉及剝離液技術(shù)領(lǐng)域:,更具體的說是涉及一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。背景技術(shù)::電子行業(yè)飛速發(fā)展,光刻膠應(yīng)用也越來越。在半導(dǎo)體元器件制造過程中,經(jīng)過涂敷-顯影-蝕刻過程,在底層金屬材料上蝕刻出所需線條之后,必須在除去殘余光刻膠的同時(shí)不能損傷任何基材,才能再進(jìn)行下道工序。因此,光刻膠的剝離質(zhì)量也有直接影響著產(chǎn)品的質(zhì)量。但是傳統(tǒng)光刻膠剝離液雖然能剝離絕大部分光阻,但對(duì)于高世代面板(高世代面板是代指大尺寸的液晶面板),傳統(tǒng)剝離液親水性不夠,水置換能力較差,容易造成面板邊緣光刻膠殘留。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明的目的是提供一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:本申請(qǐng)公開了一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液,包括以下質(zhì)量組分:酰胺:50-60%;醇醚:35-45%;環(huán)胺與鏈胺:3-7%;緩蝕劑:%%;潤濕劑:%%。的技術(shù)方案中,所述的酰胺為n-甲基甲酰胺、n-甲基乙酰胺、n,n-二甲基甲酰胺中的任意一種或多種。的技術(shù)方案中,所述的醇醚為二乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚中的任意一種或多種。的技術(shù)方案中。杭州銅鈦蝕刻液剝離液供應(yīng)商