電鍍前處理廢氣設(shè)備有哪些？

集氣罩：根據(jù)前處理設(shè)備形狀、廢氣散發(fā)特點定制，如槽邊側(cè)向集氣罩等，可高效收集廢氣，常見材質(zhì)有 PP 等耐腐蝕材料 。

通風(fēng)管道：多選用耐腐蝕的 PP 材質(zhì)，用于連接抽風(fēng)設(shè)備各部件，將廢氣輸送至處理設(shè)備，其設(shè)計需考慮廢氣流量、阻力等因素 。

引風(fēng)機：常安裝在輸送通道出風(fēng)口處，為廢氣的抽取和輸送提供動力 ，可根據(jù)實際需求選擇不同規(guī)格和性能的引風(fēng)機。 

此外，一些抽風(fēng)裝置還可能配備過濾處理箱、活性炭吸附網(wǎng)板等，用于對廢氣進行初步過濾、吸附，減少大顆粒雜質(zhì)等對風(fēng)機的損害 。 安全防護設(shè)備包括防腐內(nèi)襯、漏電保護裝置及應(yīng)急沖洗設(shè)施，降低藥液泄漏與觸電風(fēng)險。深圳國產(chǎn)電鍍設(shè)備

半導(dǎo)體滾鍍設(shè)備

是一種于半導(dǎo)體制造中金屬化工藝的精密設(shè)備，主要用于在半導(dǎo)體晶圓、芯片或微型元件表面沉積均勻的金屬鍍層。其在于通過可控的電化學(xué)或化學(xué)鍍工藝，實現(xiàn)高精度、高一致性的金屬覆蓋，滿足集成電路封裝、先進封裝及微機電系統(tǒng)等領(lǐng)域的特定需求

與傳統(tǒng)滾鍍不同，半導(dǎo)體滾鍍更注重工藝潔凈度、鍍層精度及與半導(dǎo)體材料的兼容性。

二、功能

1.金屬互連：在晶圓上形成銅導(dǎo)線。

2.凸塊制備：沉積錫、銅、金等材料，用于芯片與基板的電氣連接。

3.阻擋層/種子層鍍覆：鍍鈦、鉭等材料，防止金屬擴散并增強附著力。

三、設(shè)備組成

1.電鍍槽：

材質(zhì)：耐腐蝕材料，避免污染鍍液

鍍液循環(huán)系統(tǒng)：維持鍍液成分均勻，過濾顆粒雜質(zhì)

2.旋轉(zhuǎn)載具：

晶圓固定裝置：真空吸附或機械夾持，確保晶圓平穩(wěn)旋轉(zhuǎn)

轉(zhuǎn)速控制：通過伺服電機調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速，優(yōu)化鍍層均勻性

3.陽極系統(tǒng)：

可溶性/不溶性陽極：銅、鉑等材料，依鍍層需求選擇

陽極位置調(diào)節(jié)：控制電場分布，減少邊緣效應(yīng)

4.供液與噴淋系統(tǒng)：

多點噴淋頭：均勻分配鍍液至晶圓表面，避免氣泡滯留

流量控制：精確調(diào)節(jié)鍍液流速，匹配不同工藝需求

5.控制系統(tǒng)：

PLC/工控機：集成溫度、pH值、電流密度等參數(shù)監(jiān)測與反饋。

配方管理：存儲不同鍍層的工藝參數(shù) 深圳國產(chǎn)電鍍設(shè)備鍍鉻設(shè)備需配置鉛合金陽極與陽極袋，防止雜質(zhì)污染電解液，確保硬鉻鍍層的高硬度與耐磨性。

電鍍自動線是通過自動化設(shè)備實現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)的電鍍系統(tǒng)，主要類型及特點如下：

主流自動線類型

1.龍門式自動線

結(jié)構(gòu)：多工位龍門機械手驅(qū)動，PLC控制

特點：精度高（±0.1mm），適用于精密件（如汽車部件、電子接插件）

產(chǎn)能：單線日處理量可達5000-10000件

2.環(huán)形垂直升降線

結(jié)構(gòu)：環(huán)形軌道+升降機，連續(xù)循環(huán)作業(yè)

特點：節(jié)拍快（20-40秒/掛），適合中小型工件（如五金件、衛(wèi)浴配件）

優(yōu)勢：占地小，能耗低（節(jié)電30%以上）

3.滾鍍自動線

結(jié)構(gòu)：六角滾筒+變頻驅(qū)動，批量處理小型零件（螺絲、紐扣）

參數(shù)：滾筒轉(zhuǎn)速3-10rpm，裝載量50-200kg/批

鍍層均勻性：±15%，效率達8㎡/h

4.連續(xù)電鍍線

類型：帶材/線材電鍍（如PCB銅箔、銅線）

技術(shù)：張力控制+多槽串聯(lián)，速度可達10-30m/min

精度：鍍層厚度偏差＜5%

5.機器人電鍍線

配置：六軸機器人+視覺定位

系統(tǒng)應(yīng)用：復(fù)雜曲面工件（汽車輪轂、航空部件）

優(yōu)勢：柔性生產(chǎn)，支持多品種切換

應(yīng)用領(lǐng)域

汽車：鍍鋅螺栓、輪轂鍍鉻

電子：PCB微孔鍍銅、連接器鍍金

五金：衛(wèi)浴配件鍍鎳、鎖具鍍鋅

志成達設(shè)計研發(fā)的滾掛一體電鍍實驗設(shè)備鍍液的選擇：

1.鍍銅液方面

酸性鍍銅液導(dǎo)電性強、分散性佳，能快速鍍厚銅，常用于電子元件底層鍍銅；

堿性鍍銅液穩(wěn)定性好，腐蝕性小，所得銅層結(jié)晶細(xì)、結(jié)合力強，適用于鋼鐵基體打底。

2.鍍鎳液

瓦特鎳鍍液成分簡單、易維護，鍍層光亮耐磨，在防護裝飾性電鍍中廣泛應(yīng)用；

氨基磺酸鎳鍍液分散與深鍍能力優(yōu)，鍍層內(nèi)應(yīng)力低、延展性好，多用于對鍍層質(zhì)量要求高的電子、航天領(lǐng)域。

3.鍍鋅液里

堿性鍍鋅液陰極極化作用強，鋅層耐腐蝕性好；

酸性鍍鋅液電流效率高、沉積快，外觀光亮，不過腐蝕性強。

4.鍍金液

有物鍍金液，鍍層均勻光亮、硬度高；

無氰鍍金液則更環(huán)保。

5.鍍銀液

物鍍銀液電鍍性能好，鍍層導(dǎo)電導(dǎo)熱優(yōu)；

硫代硫酸鹽鍍銀液毒性小、更環(huán)保。選擇鍍液要綜合零件材質(zhì)、形狀、使用環(huán)境及實驗?zāi)康牡?，兼顧成本與環(huán)保。

總結(jié)：

在選擇鍍液時，需要根據(jù)待鍍零件的材質(zhì)、形狀、尺寸、使用環(huán)境以及實驗?zāi)康牡纫蛩剡M行綜合考慮，同時還需考慮鍍液的成本、環(huán)保性和操作難度等因素。 模塊化電鍍設(shè)備支持槽體自由組合，可快速切換掛鍍、滾鍍模式，靈活適配多品種小批量生產(chǎn)需求。

廢氣處理設(shè)備和電鍍設(shè)備的關(guān)系

廢氣處理設(shè)備是電鍍設(shè)備不可或缺的配套設(shè)施，在電鍍生產(chǎn)過程中發(fā)揮著重要作用，具體關(guān)系如下：

保障環(huán)境與人員安全：

電鍍過程中會產(chǎn)生如酸霧、堿霧、物氣體等有害廢氣。若不進行處理，這些廢氣會彌漫在車間內(nèi)，不僅會對操作人員的身體健康造成嚴(yán)重危害。廢氣處理設(shè)備通過收集和凈化這些有害廢氣，能將車間內(nèi)的空氣質(zhì)量維持在安全標(biāo)準(zhǔn)范圍內(nèi)，同時確保排放到大氣中的廢氣符合環(huán)保要求，從而保護環(huán)境和人員健康。

保護電鍍設(shè)備：

電鍍車間內(nèi)的酸性或堿性廢氣具有腐蝕性，長期暴露在這些廢氣中，電鍍設(shè)備如鍍槽、整流器、加熱裝置等的金屬部件會被腐蝕，導(dǎo)致設(shè)備的使用壽命縮短，維修成本增加。

廢氣處理設(shè)備有效去除有害廢氣，減少對電鍍設(shè)備的腐蝕，保障電鍍生產(chǎn)的穩(wěn)定進行。

提升電鍍產(chǎn)品質(zhì)量：

如果車間內(nèi)廢氣彌漫，空氣中的灰塵、雜質(zhì)等容易吸附在待鍍工件表面，影響鍍層與工件的結(jié)合力，導(dǎo)致鍍層出現(xiàn)麻點、、起皮等缺陷，降低電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量和良品率。廢氣處理設(shè)備有助于保持車間內(nèi)空氣的清潔，減少空氣中雜質(zhì)對鍍件的污染

滿足環(huán)保合規(guī)要求：

隨著環(huán)保法規(guī)的日益嚴(yán)格，電鍍企業(yè)必須確保其生產(chǎn)過程中的廢氣排放達到國家和地方的環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。

鍍鉻設(shè)備配置鉛銻合金陽極與陽極袋，過濾陽極泥渣，防止雜質(zhì)污染鍍液，維持硬鉻鍍層高硬度。深圳國產(chǎn)電鍍設(shè)備

攪拌設(shè)備通過空氣鼓泡或機械槳葉驅(qū)動電解液流動，避免濃度分層，提升鍍層均勻性與沉積效率。深圳國產(chǎn)電鍍設(shè)備

半導(dǎo)體滾鍍與傳統(tǒng)滾鍍的區(qū)別：

 對比項                              傳統(tǒng)滾鍍                                          半導(dǎo)體滾鍍                                                對象                     小型金屬零件（螺絲、紐扣等）               晶圓、芯片、微型半導(dǎo)體元件                               精度                               微米級                                             納米級（≤100nm）                                       潔凈度                          普通工業(yè)環(huán)境                                         無塵室（Class100~1000）                         工藝控制                    電流/時間粗調(diào)                                       實時閉環(huán)控制（電流、流量、溫度）               鍍液類型                      酸性/堿性鍍液                                      高純度鍍液（低雜質(zhì)）

發(fā)展趨勢：

大尺寸晶圓兼容：適配12英寸（300mm）晶圓，向18英寸過渡。環(huán)保鍍液：無物、低毒配方，減少廢水處理壓力。智能化集成：AI工藝優(yōu)化：通過機器學(xué)習(xí)預(yù)測鍍層缺陷。與CMP（化學(xué)機械拋光）、PVD設(shè)備聯(lián)動，形成全自動金屬化產(chǎn)線

總結(jié)：

半導(dǎo)體滾鍍設(shè)備是封裝與芯片制造的關(guān)鍵裝備，通過精密旋轉(zhuǎn)與鍍液控制，實現(xiàn)納米級金屬鍍層的均勻沉積。其技術(shù)在于潔凈環(huán)境下的高精度工藝控制 深圳國產(chǎn)電鍍設(shè)備