在塑料表面進(jìn)行真空噴鍍金屬 -----即在真空狀態(tài)下，將金屬融化后，以分子或原子形態(tài)沉積在塑料表面形成 5-10um 的金屬膜。真空噴鍍金屬需要與塑料表面底漆之間良好的配合， 底漆的厚度通常為 10-20um。主要作用是防止塑料中水、 有機(jī)溶劑、 增塑劑等排出影響金屬附著。要涂層硬度高、 底漆具有可以修復(fù)塑料缺陷，提供一個(gè)光滑、平整的平面以利于真空鍍的性能， 并與塑料底材和所鍍金屬附著牢固。通常選用雙組份常溫固化的聚氨酯和環(huán)氧涂料， 低溫烘烤的氨基涂料以及熱塑性丙烯酸酯涂料。金屬鍍膜在空氣中容易氧化變暗， 同時(shí)還存在細(xì)微的針型孔等缺陷， 所以要再涂上一層 5-10um 的保護(hù)面漆。對(duì)面漆的要求是：透明、優(yōu)良的耐水性、耐磨性、耐候性、不操作金屬鍍膜， 對(duì)金屬鍍膜附著牢固，通?？刹捎帽┧狨デ迤?、 聚酯清漆、 聚氨酯清漆等。PVD真空鍍膜的工藝流程。北京UV真空鍍膜材料

真空鍍膜加工過(guò)程中清潔工作的重要性。真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。加工件進(jìn)入鍍膜室前一定要做到認(rèn)真的鍍前清潔處理，表面污染來(lái)自工件在加工、傳輸、包裝過(guò)程所粘附的各種粉塵、潤(rùn)滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物，為了避免加工過(guò)程中造成的不良，真空鍍加工廠家基本上可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。對(duì)經(jīng)過(guò)清洗處理的清潔表面，不能在大氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至更小。因?yàn)檫@些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔铩Ｕ婵斟兡ぜ庸?duì)于高度不穩(wěn)定的、對(duì)水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。北京UV真空鍍膜材料潤(rùn)溢分享：真空鍍膜操作規(guī)程。

真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個(gè)重要分支，它已普遍地應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開(kāi)發(fā)，理化儀器、建筑機(jī)械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相沉積法。如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質(zhì)表面的物理、化學(xué)性能的話(huà)，這一技術(shù)又是真空表面處理技術(shù)中的重要組成部分。在光學(xué)方面，一塊光學(xué)玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質(zhì)的薄膜后，即可成為高反射或無(wú)反射(即增透膜)或者作任何預(yù)期比例的反射或透射材料，也可以作成對(duì)某種波長(zhǎng)的吸收，而對(duì)另一種波長(zhǎng)的透射的濾色的片。高反射膜從大口徑的天文望遠(yuǎn)鏡和各種激光器開(kāi)始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜，都很需要。

UV電鍍噴涂與塑料真空鍍膜的區(qū)別主要概括如下：一，UV電鍍噴涂工藝簡(jiǎn)單、綠色環(huán)保、用途普遍、是一種原料可回收利用的表面處理技術(shù)。各項(xiàng)指標(biāo)都按照電鍍行業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)做了相應(yīng)的檢測(cè)，各種檢測(cè)報(bào)告完全符合國(guó)內(nèi)外電鍍行業(yè)的要求。噴金鍍鉻機(jī)技術(shù)噴涂的制品，具有優(yōu)異的附著力、抗沖擊力、耐氣候性、耐磨性和耐擦傷性，符合國(guó)內(nèi)外大型汽車(chē)生產(chǎn)商和大型電器生產(chǎn)商等精密產(chǎn)品的要求，亦可作為其它行業(yè)的表面裝飾和保護(hù)等噴涂。該技術(shù)填補(bǔ)了目前國(guó)內(nèi)市場(chǎng)環(huán)保電鍍的空白二，塑料真空鍍膜塑料具有質(zhì)輕、性能優(yōu)良，易成型，易加工等特點(diǎn)，應(yīng)用范圍非常廣，是日常生活和國(guó)民經(jīng)濟(jì)各部門(mén)不可缺少的材料。關(guān)于真空鍍膜，你了解多少?

塑料UV真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣體的形式沉積到基材（通常是非金屬材料）表面，因?yàn)殄儗映榻饘俦∧?，故也稱(chēng)真空金屬化，又稱(chēng)真空鍍膜（主要是取代污染嚴(yán)重的傳統(tǒng)水電鍍工藝）。真空鍍膜的主要功能是賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電性能及完美的表面裝飾效果。目前，真空鍍膜的方法有熱蒸發(fā)鍍膜法和磁控濺射鍍膜法兩種工藝，金屬源有鋁、錫、銦、鈷、鎳、銅、鋅、銀、金、鈦、鉻、鉬、鎢等。淺談?wù)婵斟兡ぜ夹g(shù)的優(yōu)點(diǎn)。北京樹(shù)脂真空鍍膜方法

真空鍍膜中五顏六色是怎么形成的？北京UV真空鍍膜材料

真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有下列優(yōu)點(diǎn)：(1)薄膜和基體選材廣，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液，也無(wú)環(huán)境污染。真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有上述一些優(yōu)點(diǎn)。北京UV真空鍍膜材料

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