真空不導(dǎo)電電鍍，稱(chēng)NCVM，是一種真空電鍍的高新技術(shù)。也是目前塑膠件外殼普遍采用的物理法表面處理工藝之一。采用新的鍍膜技術(shù)、新的材料，做出普通真空電鍍的不同顏色的金屬外觀效果，起到美化工件表面之功用。真空鍍膜和陽(yáng)極氧化是目前兩種常用的表面處理方法。真空鍍膜法在手機(jī)消費(fèi)電子的表面處理中，物理的氣相沉積（PVD）是主要的真空鍍膜方法。其原理為：在真空條件下，將金屬氣化成原子或分子，或者使其離子化成離子，直接沉積到工件表面，形成涂層，其沉積粒子束來(lái)源于非化學(xué)因素，如蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍等。關(guān)于真空鍍膜，你知道多少？深圳uv真空鍍膜廠

除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn)：(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過(guò)程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng)，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍，無(wú)論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來(lái)的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過(guò)程中，對(duì)其膜厚可進(jìn)行比較精確的測(cè)量和控制，從而保證膜厚的均勻性。(4)每種薄膜都可以通過(guò)微調(diào)閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質(zhì)量分?jǐn)?shù)，防止蒸鍍材料的氧化，把氧的質(zhì)量分?jǐn)?shù)降低到小的程度，還可以充入惰性氣體等，這對(duì)于濕式鍍膜而言是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的。(5)由于鍍膜設(shè)備的不斷改進(jìn)，鍍膜過(guò)程可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)化，從而地提高產(chǎn)品的產(chǎn)量，而且在生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)環(huán)境無(wú)污染。(6)在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高、密實(shí)性好、表面光亮不需要再加工，這就使得薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能比電鍍膜和化學(xué)膜好。杭州陶瓷真空鍍膜應(yīng)用UV真空鍍膜項(xiàng)目利潤(rùn)如何？

真空鍍膜時(shí)，蒸發(fā)料粒子大約只以一個(gè)電子伏特的能量向工件表面蒸鍍，在工件表面與鍍層之間，形成的界面擴(kuò)散深度通常只為幾百個(gè)埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。也就是說(shuō)比一根頭發(fā)絲的百分之一還要小。兩者間可以說(shuō)幾乎沒(méi)有連接的過(guò)渡層，好似截然分開(kāi)。而離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動(dòng)能。如果說(shuō)普通真空鍍膜的粒子相當(dāng)于一個(gè)氣喘吁吁的長(zhǎng)跑運(yùn)動(dòng)員，那么離子鍍的粒子則好似乘坐了高速火箭的乘客，當(dāng)其高速轟擊工件時(shí)，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層，離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米，也就是說(shuō)比普通真空鍍膜的擴(kuò)散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。

真空鍍膜技術(shù)具有以下特點(diǎn)：(1)各種鍍膜技術(shù)都需一個(gè)特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過(guò)程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng)，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。(2)各種鍍膜技術(shù)都需有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍，無(wú)論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來(lái)的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過(guò)程中，對(duì)其膜厚可進(jìn)行比較精確的測(cè)量和控制，從而保證膜厚的均勻性。(4)每種薄膜都可以通過(guò)微調(diào)閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質(zhì)量分?jǐn)?shù)，從而防止蒸鍍材料的氧化，把氧的質(zhì)量分?jǐn)?shù)降低到小的程度，還可以充入惰性氣體等，這對(duì)于濕式鍍膜而言是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的。(5)由于鍍膜設(shè)備的不斷改進(jìn)，鍍膜過(guò)程可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)化，從而提高產(chǎn)品的產(chǎn)量，而且在生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)環(huán)境無(wú)污染。(6)由于在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高、密實(shí)性好、表面光亮不需再加工，這就使得薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能比電鍍膜和化學(xué)膜好。UV真空鍍膜的基本原理。

真空鍍膜機(jī)詳細(xì)鍍膜方法如下：1、檢查真空鍍膜設(shè)備各操作控制開(kāi)關(guān)是否在"關(guān)"位置。2、打開(kāi)總電源開(kāi)關(guān)，真空鍍膜設(shè)備送電。3、低壓閥拉出。開(kāi)充氣閥，聽(tīng)不到氣流聲后，啟動(dòng)升鐘罩閥，鐘罩升起。4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤(pán)上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無(wú)任何雜質(zhì)污物。5、落下鐘罩。6、啟動(dòng)真空鍍膜設(shè)備抽真空機(jī)械泵。7、開(kāi)復(fù)合真空計(jì)電源。1）左旋鈕“1”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。2）低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至110mA時(shí)，左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。8、當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時(shí)針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，低壓閥推入。這時(shí)左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。9、真空鍍膜設(shè)備開(kāi)通冷卻水，啟動(dòng)擴(kuò)散泵，加熱40min。10、低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動(dòng)作程序：左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，開(kāi)高壓閥。等低真空表“2”內(nèi)指針右移動(dòng)至0.1Pa時(shí)，開(kāi)規(guī)管燈絲開(kāi)關(guān)。1）發(fā)射、零點(diǎn)測(cè)量鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向發(fā)射位置。2）左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。真空鍍膜加工產(chǎn)品時(shí)為什么會(huì)發(fā)生掉膜的現(xiàn)象？江門(mén)pvd真空鍍膜加工設(shè)備

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隨著工業(yè)的迅速發(fā)展，塑料電鍍的應(yīng)用日益普遍，成為塑料產(chǎn)品中表面裝飾的重要手段之一。目前國(guó)內(nèi)外已普遍在ABS、聚丙烯、聚砜、聚碳酸酯、尼龍、酚醛玻璃纖維增強(qiáng)塑料、聚苯乙烯等塑料表面上進(jìn)行電鍍，其中尤以ABS塑料電鍍應(yīng)用廣，電鍍效果好。塑料電鍍外觀要求比金屬制品的電鍍面更光潔，光亮度一般都能達(dá)到，但在其程度上就有一定的差別。通常認(rèn)為，較好的塑料電鍍外觀是亮中發(fā)“烏黑”，光亮度視覺(jué)感很“厚實(shí)”。這種宏觀感覺(jué)是由表面的微觀狀態(tài)所決定的，也就是說(shuō)微觀表面必須非常平整。塑料電鍍的鍍層不能有霧狀存在，極輕微的霧狀，在強(qiáng)光下或正視時(shí)是發(fā)現(xiàn)不了的，要在特定的角度和光線下才能發(fā)現(xiàn)，因此易被忽視。至于露塑、脫皮、毛刺、麻點(diǎn)和深鍍差等缺陷，在塑料電鍍中是不允許存在的。某些次要考核部位及反面等各部位都要有鍍層包覆，且色澤鮮亮，不能發(fā)黑、露塑及有夾具拉毛印。深圳uv真空鍍膜廠

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