真空鍍膜工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍三種。真空蒸鍍，簡稱蒸鍍，是指在真空條件下，采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料（或稱膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。離子鍍是真空鍍膜工藝的一項新發(fā)展。普通真空鍍膜（亦稱真空蒸鍍）時，工件夾固在真空罩內，當高溫蒸發(fā)源通電加熱后，促使待鍍材料——蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。為什么需要進行真空鍍膜呢？這項工藝已經成為了電子元器件制造中的一項不可或缺的技術，主要是為了使產品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優(yōu)于產品本身的性能，從而提高產品的質量，延長加工產品的使用壽命，不只如此，還可以節(jié)約能源，獲得更為明顯的技術經濟效益。實際應用中，我們往往會根據產品的性質來決定選用哪種真空鍍膜工藝。真空離子鍍膜的鍍層材料是在真空的環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，解決了化學鍍膜中的溶液污染問題。深圳uv真空鍍膜廠家

真空電鍍主要部件有哪些功能？現在真空電鍍設備是做的越來越好，從一開始功能較單一的真空電鍍到如今的多功能結合的真空電鍍，其中經歷了較長時間。真空電鍍設備的真空室能用不銹鋼或者碳鋼組合使用制作，真空電鍍設備做成單開門或者又開門。真空電鍍設備能通過利用電阻加熱，若電阻要加熱，真空電鍍設備所使用的材料包括石墨、鎢、鉭、鉬、鎳鉻等，真空電鍍設備加熱后要進行保溫，真空電鍍設備設置了保溫層就可以提高加熱的效率，以免真空電鍍設備的熱量快速散失，一般有金屬保溫層和復合保溫層兩種形式。真空電鍍設備為更好的進行測試、測定室內溫度，真空電鍍設備使用測溫儀器和控溫儀器，避免溫度過高或不達標真空電鍍設備，抽氣系統(tǒng)由各種真空泵及附件按其各自功能組裝使用。佛山金屬表面真空鍍膜機真空鍍膜面漆掉落怎么解決？

真空鍍膜設備主要指需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括多弧離子真空鍍膜設備，真空離子蒸發(fā)，光學鍍膜機，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。真空鍍膜的工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會產生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結晶體細密光亮，如果真空度不高結晶體就會失去光澤結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射，結合差工效低光澤差?，F在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。

由于底漆位于基材和鍍膜的中間，其性能應當滿足基材和真空鍍層兩方面的要求，具體包括以下幾個方面：（1）與塑料基材、真空鍍層均有較好的粘附性，這是作為真空鍍膜底漆應具備的Z基本性能;（2）應具有良好的流平性，這是決定真空鍍層是否具有高光澤和鏡面效果的關鍵;（3）不應含有揮發(fā)性小分子，主要是指殘留單體、揮發(fā)性添加劑、揮發(fā)性雜質和高沸點溶劑等，其在真空升溫環(huán)境下會逐漸逸出，從多方面破壞鍍膜質量和性能;（4）應具有一定的耐熱性，其熱膨脹性要和真空鍍層的熱脹冷縮性能相適應，抗熱形變和熱分解性能應滿足真空鍍膜工藝的要求;（5）對于柔性基材，底涂應具有足夠的柔韌性，否則易造成鍍層連帶開裂，甚至崩脫真空鍍膜的工藝流程。

塑料電鍍的鍍件容易漂浮，在和掛具接觸的地方容易被燒焦，因為塑料的比重小，所以在溶液中易浮起。燈罩外形就象一個小盤一樣，內表面凹進去，邊上有兩個小孔，開始只用一根銅絲卡著兩個小孔進行電鍍。塑料電鍍的過程分為：清潔、溶劑處理、調節(jié)處理、敏感化、成核這五個步驟。(1)清潔：去除塑料成型過程中留下的污物及指紋，可用堿劑洗凈再用酸浸中和及水洗干凈。(2)溶劑處理：使塑料表面能濕潤(wetting)以便與下一步驟的調節(jié)劑(conditioner)作用。(3)調節(jié)處理：將塑料表面粗化成內鎖的凹洞以使鍍層密著住不易剝離，也稱為化學粗化。(4)敏感化：將還原劑吸附在表面，常用(stannouschloride)或其它錫化合物，就是sn^++離子吸附于塑料表面具有還原性表面。(5)成核：將具有催化性物質如金、吸附于敏感化(還原性)的表面，經還原作用結核成具有催化性的金屬種子(seed)然后可以用無電鍍上金屬。真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面。深圳uv真空鍍膜廠家

為什么真空鍍膜是非常有前途的技術之一？深圳uv真空鍍膜廠家

真空鍍膜的方法很多，主要有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內，保持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍：實質上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合，兼有兩者的工藝特點。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點。深圳uv真空鍍膜廠家

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