PVD鍍膜技術(shù)的原理：PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。PVD鍍膜膜層的特點(diǎn)：采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長(zhǎng)；同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類：PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級(jí)鍍層且無污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。PVD鍍膜膜層的厚度：PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm～1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，鍍后不須再加工。進(jìn)口和國(guó)產(chǎn)真空鍍膜技術(shù)的本質(zhì)有何區(qū)別？廣東玻璃真空鍍膜工藝

PVD鍍膜可以在真空環(huán)境下進(jìn)行，這項(xiàng)技術(shù)稱為PVD真空鍍膜。金屬在真空環(huán)境下與各種氣體產(chǎn)生綜合作用形成等離子體，經(jīng)過加速后，等離子體涌向被鍍工件表面，形成牢固的膜層。這層膜細(xì)密均勻，結(jié)合力強(qiáng)，硬度高，防腐耐磨，具有良好的導(dǎo)電性和自潤(rùn)滑性能，同時(shí)色澤豐富多樣。而且，由于PVD真空鍍膜是在真空環(huán)境下進(jìn)行，而真空中的大物分物質(zhì)已被排出，所以鍍膜的過程受到外界干擾的影響就很小，顏色就不會(huì)雜亂，也沒有膜層脫落的后顧之憂。PVD真空鍍膜能為您帶來多姿的色彩，讓您在這大千世界里盡情展現(xiàn)特別風(fēng)格，快來咨詢中山潤(rùn)溢吧。廣東玻璃真空鍍膜工藝PVD真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)工藝步驟及原理。

表面處理是利用物理學(xué)、化學(xué)、材料學(xué)和制造學(xué)等多學(xué)科的邊緣性新技術(shù)，來改變零部件表面的狀況和性質(zhì)的一種工藝。表面處理應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域，例如人類生產(chǎn)用的工業(yè)用品、生活用的日常用品、消費(fèi)品、工藝品等。不同產(chǎn)品有不同需求，對(duì)應(yīng)的表面處理方式也不同。工業(yè)用品，多以改變表面性能為目的。主要為增強(qiáng)表面剛度、硬度、強(qiáng)度、耐磨性、耐腐蝕性、耐高溫等性能需求。工業(yè)消費(fèi)品，改性滿足功能要求的同時(shí)也注重裝飾性。例如汽車外表面的表面處理，采用靜電噴涂的方式，既有保護(hù)車體的功能需求也有美觀的裝飾屬性。日常用品，重視裝飾，滿足客戶體驗(yàn)感，同時(shí)也需要滿足防腐蝕、耐磨、防酸堿度等性能要求。

真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)具有簡(jiǎn)單便利、操作方便、成膜速度快等特點(diǎn)，是應(yīng)用普遍的鍍膜技術(shù)，主要應(yīng)用于光學(xué)元器件、LED、平板顯示和半導(dǎo)體分立器的鍍膜。真空鍍膜材料按照化學(xué)成分主要可以分為金屬/非金屬顆粒蒸發(fā)料，氧化物蒸發(fā)料，氟化物蒸發(fā)料等。蒸鍍材料種類金屬及非金屬顆粒鋁蒸發(fā)料、鎳蒸發(fā)料、銅蒸發(fā)料、銀蒸發(fā)料、鈦蒸發(fā)料、硅蒸發(fā)料、釩蒸發(fā)料、鎂蒸發(fā)料、錫蒸發(fā)料、鉻蒸發(fā)料、銦蒸發(fā)料、銀銅蒸發(fā)料、金蒸發(fā)料、微晶銀粉等。氧化物鈦鉭合金、鋯鈦合金、硅鋁合金、三氧化二鋁、二氧化鋯、五氧化三鈦、石英環(huán)、石英片、氧化鉺、鈦酸鑭等氟化物氟化鎂、氟化鏑、氟化鑭等。真空鍍膜設(shè)備，主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜。

真空鍍膜設(shè)備真空技術(shù)與電真空工業(yè)有非常緊密的聯(lián)系，電真空器件就是其內(nèi)部為“真空”的電子器件。電光源是電真空器件的一個(gè)分支，它與真空技術(shù)有著特別緊密的聯(lián)系，表現(xiàn)在，幾乎所有的電光源產(chǎn)品在制造過程中都不可缺少“排氣”這一重要工序，而整個(gè)排氣過程涉及到真空技術(shù)的所有基本環(huán)節(jié)；此外，光源內(nèi)部的真空必須長(zhǎng)久保持，光源才能有穩(wěn)定的特性和足夠的壽命。真空手套箱電光源生產(chǎn)對(duì)真空技術(shù)的要求主要在于：將燈內(nèi)部的氣體抽走并長(zhǎng)期保持這種狀態(tài)。真空鍍膜機(jī)真空技術(shù)在很大程度上決定著燈的性能、壽命。這對(duì)于霓虹燈也不例外，在霓虹燈的制造中，真空鍍膜設(shè)備真空技術(shù)是決定霓虹燈質(zhì)量的關(guān)鍵因素之一。因此，對(duì)于霓虹燈制造來說，了解真空鍍膜機(jī)真空技術(shù)的物理內(nèi)容、熟悉真空工藝和材料、熟練掌握真空系統(tǒng)的正確操作是十分必要的。霓虹燈制造中對(duì)于真空鍍膜機(jī)真空技術(shù)的要求與一般電光源制造中對(duì)于真空技術(shù)的要求幾乎相同，即獲得真空與保持真空。淺談?wù)婵斟兡どa(chǎn)中常見問題及解決方法。廣東玻璃真空鍍膜工藝

真空鍍膜設(shè)備使用注意事項(xiàng)。廣東玻璃真空鍍膜工藝

真空鍍膜技術(shù)一般分為PVD技術(shù)和CVD技術(shù)兩大類。PVD技術(shù)是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質(zhì)反應(yīng)膜大多以物PVD相沉積方法制得，它利用某種物理過程，如物質(zhì)的熱蒸發(fā)，或受到離子轟擊時(shí)物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實(shí)現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過程。PVD技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應(yīng)用的靶材普遍、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)。同時(shí)，由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為處理工藝用于高速鋼和硬質(zhì)合金類的薄膜刀具上。由于采用PVD工藝可大幅度提高刀具的切削性能，人們?cè)诟?jìng)相開發(fā)高性能、高可靠性設(shè)備的同時(shí)，也對(duì)其應(yīng)用領(lǐng)域的擴(kuò)展，尤其是在高速鋼、硬質(zhì)合金和陶瓷類刀具中的應(yīng)用進(jìn)行了更加深入的研究。CVD技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng)，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點(diǎn)的等離子化學(xué)氣相沉積等。廣東玻璃真空鍍膜工藝

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