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山東UV真空鍍膜設(shè)備

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-11-25

UV鍍膜生產(chǎn)工藝流程及參數(shù):一:檢查線體,確認(rèn)各系統(tǒng)(除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化)運(yùn)轉(zhuǎn)正常;二:清洗基材表面,去除油污(用干凈無塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面,并立即干燥);三:基材靜電除塵;四:噴涂底漆,膜厚:10~30微米,可根據(jù)具體基材和要求調(diào)整;五:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;六:UV固化,曝光能量:600~1200mJ/cm2;七:下線,稍冷卻,真空鍍膜(銦、銦-錫、鋁等);八:鍍膜完畢靜置冷卻(一般≥5分鐘,不超過4小時(shí)),再上中漆線體,或直接上面漆線體;九:噴涂中漆,膜厚:4~12微米,可根據(jù)需要添加色漿;十:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;十一:UV固化,曝光能量:300~800mJ/cm2;十二:噴涂面漆,膜厚:10~30微米,可根據(jù)需要添加色漿或啞漿;十三:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;十四:UV固化,曝光能量:800~1500mJ/cm2(顏色越深,所需能量越高);十五:下線檢測(cè)。常見的塑料件產(chǎn)品電鍍工藝有兩種:水電鍍和真空離子鍍。山東UV真空鍍膜設(shè)備

真空鍍膜的方法很多,主要有:(1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達(dá)到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面,凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi),保持壓強(qiáng)約1.33~13.3Pa,然后將陰極接上2000V的直流電源,便激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積:通過熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物,獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍:實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合,兼有兩者的工藝特點(diǎn)。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點(diǎn)。浙江塑膠真空鍍膜操作真空鍍膜的成本大約是多少?

真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。除化學(xué)氣相沉積法外,其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn):(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境,以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng),不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾,并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子,以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn),擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍,無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì),都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜,而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來的制膜材料,在與待鍍的工件生成薄膜的過程中,對(duì)其膜厚可進(jìn)行比較精確的測(cè)量和控制,從而保證膜厚的均勻性。

真空鍍膜設(shè)備主要指需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括多弧離子真空鍍膜設(shè)備,真空離子蒸發(fā),光學(xué)鍍膜機(jī),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。真空鍍膜的工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對(duì)蒸發(fā)的膜體分子會(huì)產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無光,所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮,如果真空度不高結(jié)晶體就會(huì)失去光澤結(jié)合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射,結(jié)合差工效低光澤差?,F(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等等。什么是UV噴涂真空鍍膜工藝流程?

pvd真空電鍍具備沉積速度更快和表層清理的特性,尤其具備膜層粘合力強(qiáng)、繞性好、可鍍?cè)牧掀毡榈葍?yōu)勢(shì)。選用全世界優(yōu)良的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝技術(shù),及在這個(gè)基礎(chǔ)以上與國(guó)際性quán wēi**的加工工藝自主創(chuàng)新。憑著在裝飾設(shè)計(jì)鍍領(lǐng)域十多年的珍貴工作經(jīng)驗(yàn),為顧客出示合適的鍍層生產(chǎn)加工計(jì)劃方案。pvd真空電鍍抗氧化性,耐腐蝕,抗腐蝕,有機(jī)化學(xué)特性平穩(wěn),抑酸。手機(jī)殼PVD鍍膜抵抗能力,鍍膜機(jī)殼非常容易消除漆料和指紋識(shí)別。在明顯的太陽(yáng),咸的濕地公園和大城市自然環(huán)境下,也不無光澤,不空氣氧化,不退色,不掉下來。高寬比抗磨損,耐刮擦,不容易刮傷??慑?cè)牧掀毡椋c基材結(jié)合性強(qiáng)。為什么UV真空鍍膜噴涂生產(chǎn)線會(huì)引起火災(zāi)?杭州玩具真空鍍膜

真空鍍膜的UV代表什么材料?山東UV真空鍍膜設(shè)備

真空鍍膜法在手機(jī)消費(fèi)電子的表面處理中,物li氣相沉積(PVD)是主要的真空鍍膜方法。其原理為:在真空條件下,將金屬氣化成原子或分子,或者使其離子化成離子,直接沉積到工件表面,形成涂層,其沉積粒子束來源于非化學(xué)因素,如蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍等。真空不導(dǎo)電電鍍,稱NCVM,是一種真空電鍍的高新技術(shù)。也是目前塑膠件外殼普遍采用的物理法表面處理工藝之一。采用新的鍍膜技術(shù)、新的材料,做出普通真空電鍍的不同顏色的金屬外觀效果,起到美化工件表面之功用。山東UV真空鍍膜設(shè)備

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