真空鍍膜工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍?nèi)N。真空蒸鍍，簡稱蒸鍍，是指在真空條件下，采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料（或稱膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。離子鍍是真空鍍膜工藝的一項新發(fā)展。普通真空鍍膜（亦稱真空蒸鍍）時，工件夾固在真空罩內(nèi)，當高溫蒸發(fā)源通電加熱后，促使待鍍材料——蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。為什么需要進行真空鍍膜呢？這項工藝已經(jīng)成為了電子元器件制造中的一項不可或缺的技術，主要是為了使產(chǎn)品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優(yōu)于產(chǎn)品本身的性能，從而提高產(chǎn)品的質量，延長加工產(chǎn)品的使用壽命，不只如此，還可以節(jié)約能源，獲得更為明顯的技術經(jīng)濟效益。實際應用中，我們往往會根據(jù)產(chǎn)品的性質來決定選用哪種真空鍍膜工藝。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。陶瓷真空鍍膜流程

真空鍍膜主要有兩個大種類：蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等。一、對于蒸發(fā)鍍膜：一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。厚度均勻性主要取決于：1。基片材料與靶材的晶格匹配程度2、基片表面溫度3.蒸發(fā)功率，速率4.真空度5.鍍膜時間，厚度大小。組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。杭州工藝品真空鍍膜廠真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面。

真空噴鍍金屬需要與塑料表面底漆之間良好的配合， 底漆的厚度通常為 10-20um。主要作用是防止塑料中水、 有機溶劑、 增塑劑等排出影響金屬附著。要涂層硬度高、 底漆具有可以修復塑料缺陷，提供一個光滑、平整的平面以利于真空鍍的性能， 并與塑料底材和所鍍金屬附著牢固。通常選用雙組份常溫固化的聚氨酯和環(huán)氧涂料， 低溫烘烤的氨基涂料以及熱塑性丙烯酸酯涂料。金屬鍍膜在空氣中容易氧化變暗， 同時還存在細微的針型孔等缺陷， 所以要再涂上一層 5-10um 的保護面漆。對面漆的要求是：透明、優(yōu)良的耐水性、耐磨性、耐候性、不操作金屬鍍膜， 對金屬鍍膜附著牢固，通?？刹捎帽┧狨デ迤?、 聚酯清漆、 聚氨酯清漆等。

真空鍍膜涂料之底漆。底涂預處理是真空鍍膜前處理的一種，可有效提高鍍層的附著力、平整度等性能，如等離子處理改善了鍍層與基材的附著力。底涂處于基材和真空鍍層之間，其作用主要有：（1）通過底涂封閉基材，防止真空鍍膜時基材中的揮發(fā)性雜質逸出，影響鍍膜質量;（2）塑料表面較粗糙，底涂預處理后，可通過涂層獲得光滑平整的鏡面效果;（3）在薄膜材料上預涂底漆可進一步加強薄膜的阻隔性;（4）預涂底漆有利于獲得更厚的真空鍍層，展現(xiàn)出更高的反射效果和力學性能;（5）某些表面極性較低的基材如PP等與鍍層的附著力較差，通過底漆可獲得較好的鍍層附著性;（6）對某些耐熱性較差的塑料基材，底涂可以起到一定的熱緩沖作用，保護基材免遭熱致形變。真空鍍膜加工產(chǎn)品時為什么會發(fā)生掉膜的現(xiàn)象？

真空鍍膜技術是真空應用技術的一個重要分支，它已普遍地應用于光學、電子學、能源開發(fā)，理化儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學以及科學研究等領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學氣相沉積法。如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質表面的物理、化學性能的話，這一技術又是真空表面處理技術中的重要組成部分。在光學方面，一塊光學玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質的薄膜后，即可成為高反射或無反射(即增透膜)或者作任何預期比例的反射或透射材料，也可以作成對某種波長的吸收，而對另一種波長的透射的濾色的片。高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各種激光器開始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜，都很需要。關于塑料真空鍍膜，你了解多少？杭州工藝品真空鍍膜廠

PVD真空鍍膜知識簡介！陶瓷真空鍍膜流程

塑料UV真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣體的形式沉積到基材（通常是非金屬材料）表面，因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化，又稱真空鍍膜（主要是取代污染嚴重的傳統(tǒng)水電鍍工藝）。真空鍍膜的主要功能是賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導電性能及完美的表面裝飾效果。目前，真空鍍膜的方法有熱蒸發(fā)鍍膜法和磁控濺射鍍膜法兩種工藝，金屬源有鋁、錫、銦、鈷、鎳、銅、鋅、銀、金、鈦、鉻、鉬、鎢等。陶瓷真空鍍膜流程

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