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玻璃真空鍍膜市場

來源: 發(fā)布時間:2022-01-29

真空鍍膜技術通常分為PVD技術和CVD技術兩大類。PVD技術是指在真空條件下,利用各種物理方法,將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子,直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質(zhì)反應膜大多以物PVD相沉積方法制得,它利用某種物理過程,如物質(zhì)的熱蒸發(fā),或受到離子轟擊時物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象,實現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過程。PVD技術具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應用的靶材普遍、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復性好等優(yōu)點。同時,由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下,因此可作為處理工藝用于高速鋼和硬質(zhì)合金類的薄膜刀具上。由于采用PVD工藝可大幅度提高刀具的切削性能,人們在競相開發(fā)高性能、高可靠性設備的同時,也對其應用領域的擴展,尤其是在高速鋼、硬質(zhì)合金和陶瓷類刀具中的應用進行了更加深入的研究。PVD真空鍍膜機鍍膜技術工藝步驟及原理!玻璃真空鍍膜市場

真空鍍膜與蒸發(fā)鍍膜機、濺射鍍膜機相比,主要有如下幾點:①膜/基結(jié)合力(附著力)強,膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產(chǎn)生的濺射作用,使基體受到清洗,jihuo及加熱,既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層,也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強擴散效應。既提高了基體表面層組織結(jié)晶性能,也提供了合金相形成的條件。而且,較高能量的離子轟擊,還可以產(chǎn)生一定的離子注入和離子束混合效應。②離子鍍膜機由于產(chǎn)生良好的繞射性。在壓力較高的情況下(≧1Pa)被電離的蒸汽的離子或分子在到達基體前的路程上將會遇到氣體分子的多次碰撞。因此,可使膜材粒子散射在基體的周圍。從而改善了膜層的覆蓋性。而且,被電離的膜材離子,還會在電廠的作用下沉積在具有負電壓基體表面的任意位置上。因此,這一點蒸發(fā)鍍是無法達到的。玻璃真空鍍膜市場真空鍍膜機工作原理及結(jié)構(gòu)介紹。

真空鍍膜加工過程中清潔工作的重要性。真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要,直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。加工件進入鍍膜室前一定要做到認真的鍍前清潔處理,表面污染來自工件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物,為了避免加工過程中造成的不良,真空鍍加工廠家基本上可采用去油或化學清冼方法將其去掉。對經(jīng)過清洗處理的清潔表面,不能在大氣環(huán)境中存放,要用封閉容器或保潔柜貯存,以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底,可使碳氫化合物蒸氣的吸附減至更小。因為這些容器優(yōu)先吸附碳氫化合物。真空鍍膜加工對于高度不穩(wěn)定的、對水蒸氣敏感的表面,一般應貯存在真空干燥箱中。

UV鍍膜生產(chǎn)工藝的流程及參數(shù):一:檢查線體,確認各系統(tǒng)(除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化)運轉(zhuǎn)正常;二:清洗基材表面,去除油污(用干凈無塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面,并立即干燥);三:基材靜電除塵;四:噴涂底漆,膜厚:10~30微米,可根據(jù)具體基材和要求調(diào)整;五:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;六:UV固化,曝光能量:600~1200mJ/cm2;七:下線,稍冷卻,真空鍍膜(銦、銦-錫、鋁等);八:鍍膜完畢靜置冷卻(一般≥5分鐘,不超過4小時),再上中漆線體,或直接上面漆線體;九:噴涂中漆,膜厚:4~12微米,可根據(jù)需要添加色漿;十:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;十一:UV固化,曝光能量:300~800mJ/cm2;十二:噴涂面漆,膜厚:10~30微米,可根據(jù)需要添加色漿或啞漿;十三:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;十四:UV固化,曝光能量:800~1500mJ/cm2(顏色越深,所需能量越高);十五:下線檢測。真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件表面而形成薄膜的一種方法。

真空鍍膜方法很多,主要有:(1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面,凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi),保持壓強約1.33~13.3Pa,然后將陰極接上2000V的直流電源,便激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學氣相沉積:通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物,獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍:實質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結(jié)合,兼有兩者的工藝特點。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射,結(jié)合差工效低光澤差。玻璃真空鍍膜市場

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由于底漆位于基材和鍍膜的中間,其性能應當滿足基材和真空鍍層兩方面的要求,具體包括以下幾個方面:(1)與塑料基材、真空鍍層均有較好的粘附性,這是作為真空鍍膜底漆應具備的Z基本性能;(2)應具有良好的流平性,這是決定真空鍍層是否具有高光澤和鏡面效果的關鍵;(3)不應含有揮發(fā)性小分子,主要是指殘留單體、揮發(fā)性添加劑、揮發(fā)性雜質(zhì)和高沸點溶劑等,其在真空升溫環(huán)境下會逐漸逸出,從多方面破壞鍍膜質(zhì)量和性能;(4)應具有一定的耐熱性,其熱膨脹性要和真空鍍層的熱脹冷縮性能相適應,抗熱形變和熱分解性能應滿足真空鍍膜工藝的要求;(5)對于柔性基材,底涂應具有足夠的柔韌性,否則易造成鍍層連帶開裂,甚至崩脫玻璃真空鍍膜市場

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