隨著人們對(duì)閃爍晶體材料進(jìn)一步深入的研究和科技的發(fā)展,閃爍晶體材料一般可用于X射線、γ射線、中子及其他高能粒子的探測(cè)。經(jīng)過(guò)100多年的發(fā)展,以閃爍晶體為關(guān)鍵的探測(cè)和成像技術(shù)已經(jīng)在核醫(yī)學(xué)、高能物理、安全檢查、工業(yè)無(wú)損探傷、空間物理及核探礦等方面得到了很多的應(yīng)用。閃爍晶體可以發(fā)出透明的熒光,在高能射線或其他放射性粒子通過(guò)時(shí),會(huì)發(fā)出閃爍光,該種材料可以應(yīng)用在射線、中子、高能粒子的探測(cè)中,經(jīng)過(guò)了百年的發(fā)展,閃爍晶體材料已經(jīng)在安全檢查、高能物理、核醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域得到推廣。通常應(yīng)用的閃爍晶體材料都是用人工方法培育出來(lái)的。河南雙摻CeYAG晶體性能
發(fā)光中心分布在晶體中分布不均勻?qū)?huì)導(dǎo)致探測(cè)元件閃爍性能的差異,在一定程度上降低了閃爍探測(cè)器的整機(jī)性能。研究表明,Ce:YAG晶體的閃爍性能對(duì)Ce3+離子濃度有較強(qiáng)的依賴關(guān)系。下列圖表分別表示了Ce:YAG閃爍晶體的光輸出和衰減常數(shù)(快成分與慢成分)隨Ce離子的濃度的變化關(guān)系。從表1-12中可以看出隨著濃度的增加(0.012%-0.21%),Ce:YAG晶體的光輸出增大(1000-1420phe/Mev),當(dāng)濃度繼續(xù)增加到1.08%時(shí),其光輸出又減小為1270phe/Mev。 結(jié)果表明溫梯法生長(zhǎng)的Ce: YAG 晶體在高能射線和中子探測(cè)方面具有較大的應(yīng)用價(jià)值。安徽雙摻CeYAG晶體制造以CeYAG單晶取代傳統(tǒng)CeYAG熒光粉用于制備白光發(fā)光二極管。
CeYAG是一種重要的具有優(yōu)良閃爍性能的閃爍晶體,具有高的發(fā)光效率和寬的光脈沖,較大優(yōu)點(diǎn)是其發(fā)光中心波長(zhǎng)為550nm,可以與硅光二極管等探測(cè)設(shè)備有效耦合。同CsI閃爍晶體相比,CeYAG閃爍晶體具有快衰減時(shí)間(約70ns,而CsI衰減時(shí)間約為300ns),而且CeYAG閃爍晶體不潮解、耐高溫、熱力學(xué)性能穩(wěn)定,主要應(yīng)用在輕粒子探測(cè)、α粒子探測(cè)、gamma射線探測(cè)等領(lǐng)域,另外它還可以應(yīng)用于電子探測(cè)成像(SEM)、高分辨率顯微成像熒光屏等領(lǐng)域。由于Ce離子在YAG基質(zhì)中的分凝系數(shù)?。s為0.1),使Ce離子很難摻入YAG晶體中,而且隨著晶體直徑的增大,晶體生長(zhǎng)難度急劇增加。
在Ce:YAG晶體中,Ce3離子以D2對(duì)稱(chēng)性取代Y3位。在晶體場(chǎng)的作用下,4f1電子構(gòu)型的Ce3離子基態(tài)分裂為2F5/2和2F7/2雙態(tài),其5d能級(jí)分裂為5個(gè)子能級(jí),比較低5d子能級(jí)離基態(tài)約22 000波。在Ce:YAG閃爍晶體中,其吸收熒光光譜也屬于F-D躍遷,具有寬帶、衰減快的特點(diǎn)。在可見(jiàn)光范圍內(nèi)可以觀察到4個(gè)特征吸收峰,峰值波長(zhǎng)分別為223nm、340nm、372nm和460nm,對(duì)應(yīng)于Ce3離子從4f到5d的亞能級(jí)躍遷。在室溫下,其熒光光譜為500納米至700納米的寬帶光譜,峰值約為525納米,對(duì)應(yīng)比較低5d子能級(jí)至2F5/2基態(tài)能級(jí)。如果高能射線入射,其熒光光譜向紅色移動(dòng),發(fā)射波長(zhǎng)為550納米,可以很好地與硅光二極管耦合。CeYAG作為閃爍晶體,具有高的發(fā)光效率和寬的光脈沖。
鈰離子摻雜高溫?zé)o機(jī)閃爍晶體具有高光輸出快衰減的閃爍性能及優(yōu)良的物化特性,但是要將高溫閃爍晶體廣泛應(yīng)用于各種閃爍探測(cè)領(lǐng)域中尚需時(shí)日。一方面,高溫閃爍晶體屬于非本征閃爍晶體,人為引入的激發(fā)中心在晶體中的分布對(duì)閃爍性能影響較大,同時(shí)激發(fā)中心與晶體中的各種缺陷的相互作用機(jī)制也比較復(fù)雜,使得晶體的閃爍性能更加依賴于生長(zhǎng)方法以及后處理工藝等;另一方面,高溫閃爍晶體具有較高的熔點(diǎn)使得大尺寸高質(zhì)量閃爍晶體的生長(zhǎng)較為困難。鈰離子摻雜無(wú)機(jī)閃爍晶體的研究現(xiàn)狀,由于鈰離子摻雜的無(wú)機(jī)閃爍體通常具有高光輸出和快速衰減的特點(diǎn),因此從20世紀(jì)80年代末和90年代初開(kāi)始。閃爍晶體是在高能射線的前提下形成的。河南雙摻CeYAG晶體性能
CeYAG晶體和透明陶瓷的光學(xué)和閃爍性能,采用溫梯法制備。河南雙摻CeYAG晶體性能
物質(zhì)的有效原子序數(shù)可由公式計(jì)算:式中,Wi為構(gòu)成晶體的原子I的重量百分比,Zi為構(gòu)成晶體的原子I的有效原子數(shù)。從公式中可以看出,大的有效原子序數(shù)往往與重密度不一致。此外,在許多場(chǎng)合下,經(jīng)常使用吸收系數(shù)()、輻射長(zhǎng)度(X0)和摩爾半徑(RM)來(lái)代替晶體的有效原子序數(shù)或密度來(lái)表征無(wú)機(jī)閃爍晶體的性能。這些性能參數(shù)與晶體的密度()和有效原子序數(shù)(z)之間的關(guān)系如下[14][24]。,RMX0 (Z 1.2)/37.74(1.12)(ne是晶體中的電子密度和吸收截面,a是原子量)當(dāng)I (t)=i0/e時(shí),t=就是所謂的光衰減常數(shù)。河南雙摻CeYAG晶體性能
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