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遼寧CeYAP晶體廠家直銷

來源: 發(fā)布時間:2022-02-22

鈰離子摻雜的高溫閃爍晶體具有高光輸出和快速衰減等閃爍特性,是無機閃爍晶體的重要發(fā)展方向。Ce:YAP和Ce:YAG高溫閃爍晶體具有良好的物理化學(xué)性質(zhì),在無機閃爍晶體中占有優(yōu)勢,在探測中低能粒子射線方面有很大的潛在應(yīng)用。隨著應(yīng)用要求的變化,閃爍晶體的尺寸越來越大,生長大尺寸的閃爍晶體變得越來越重要。同時,國內(nèi)生長的Ce:YAP晶體的自吸收問題長期存在,導(dǎo)致無法有效提高光產(chǎn)額。因此,解決自吸收問題,生長大尺寸Ce:YAP晶體對閃爍材料的研究和應(yīng)用具有重要意義。四價離子摻雜有助于提高Ce:Yap晶體的部分閃爍性能。遼寧CeYAP晶體廠家直銷

CeYAP晶體一般常規(guī)濃度是多少?無機閃爍晶體的閃爍機理,閃爍體的本質(zhì)是在盡可能短的時間內(nèi)將高能射線或粒子轉(zhuǎn)化為可探測的可見光。高能射線與無機閃爍晶體的相互作用一般有三種方式:光電效應(yīng)、康普頓散射和正負電子對。在光電效應(yīng)中,一個離子吸收光子后,會從它的一個殼層發(fā)射光電子。光電子能量是光子能量和電子結(jié)合能之差。當殼層中的空位被較高能量的電子填滿時,結(jié)合能將以X射線或俄電子的形式釋放出來。產(chǎn)生的X射線將在二次光電過程中被吸收,入射光的所有能量將被閃爍體吸收。 天津科研用CeYAP晶體報價Ce: YAP 晶體中過渡金屬含量均小于 10ppm,對晶體發(fā)光影響可以忽略。

據(jù)報道,F(xiàn)e3和Fe2離子分別在260納米和227納米附近有吸收[98,99],純YAP在260納米附近也有吸收。為了了解255納米附近的吸收峰特性,我們生長并研究了純YAP晶體和濃度為0.2%的YAP:鐵。通過透射率的比較,我們粗略分析了純YAP和YAP: Fe晶體中可能的色心及其對ce3360ap自吸收的影響。 Ce:YAP和Ce:YAG高溫閃爍晶體的區(qū)別?Ce:YAP晶體在弱還原氣氛中生長,發(fā)現(xiàn)晶體的自吸收被有效壓制。與在惰性氣氛中生長的樣品相比,厚度為2mm的樣品的透射邊緣移動了近30納米,發(fā)光強度提高了50%以上。同時,研究了還原氣氛生長對Ce: YAP晶體其他閃爍性能的影響。

從Ce3+ 離子2F7/2和2F5/2 態(tài)能級在YAP 晶體中的能級分裂看,2F7/2能級在晶體場中分裂的子能級寬度對應(yīng)波數(shù)范圍為3250 cm-1到2085cm-1, 2F5/2 態(tài)能級分裂的子能級寬度范圍為500 cm-1左右, 5d比較低能級的對應(yīng)波數(shù)為33000 cm-1??梢缘玫紺e3+ 在YAP基質(zhì)中激發(fā)譜(d-f 躍遷)的比較低能級躍遷的波長為336.1nm(29750 cm-1),因此316nm的激發(fā)峰成分雖然發(fā)光波長比較偏紅光方向,但仍在允許范圍內(nèi)。當激發(fā)波長從294nm(34013cm-1)到316nm(31645 cm-1)變化時,各子能級都有可能被激發(fā),且不同能量激發(fā)時各子能級之間的躍遷強度比可能會有所差別。Ce:YAP晶體在弱還原氣氛中生長,發(fā)現(xiàn)晶體的自吸收被有效壓制。

比較了摻雜不同價離子對Ce: YAP晶體自吸收的影響。發(fā)現(xiàn)二價離子對Ce: YAP晶體的閃爍性能有很強的負面影響,而四價離子有助于提高晶體的閃爍性能。還研究了錳離子摻雜對Ce: YAP晶體性能的影響。利用溫度梯度法,生長了直徑為110毫米的Ce: YAG閃爍晶體,該晶體具有良好的形狀和光學(xué)性質(zhì)。研究了不同溫度和氣氛等退火條件對Ce: YAG(TGT)閃爍晶體發(fā)光效率的影響,發(fā)現(xiàn)1100氧退火對提高晶體發(fā)光強度的效果比較好。在離子晶體中還觀察到了一種新的內(nèi)在發(fā)光:中心帶上部和價帶之間的躍遷,簡稱為中心-價帶躍遷。這種發(fā)光躍遷衰減時間快(子納秒級),但光輸出低。CeYAP晶體發(fā)光波長為360-380nm,可與目前的光電接受裝置有效耦合。天津科研用CeYAP晶體報價

通常高能射線與無機閃爍晶體相互作用存在有三種方式,光電效應(yīng),康普頓散射,正負電子對。遼寧CeYAP晶體廠家直銷

目前國內(nèi)生長的Ce: YAP晶體仍存在出光率低的問題,其機理應(yīng)該與自吸收有關(guān),但尚未得到有效解決。為了比較不同退火條件下退火對自吸收的影響,我們測量了相同厚度(2mm)和濃度(0.3%)的Ce: YAP晶體在不同溫度和氣氛下退火后的透射光譜、熒光光譜和XEL光譜。從圖4-8可以看出,直拉法生長的Ce: YAP晶體經(jīng)氫退火后透射邊藍移,自吸收減弱。當進行氧退火時,通過邊緣紅移增強了自吸收。氫的退火溫度越高,自吸收越弱。氧的退火溫度越高,自吸收越強。然而,退火溫度的上限約為1600。如果溫度太高,晶體容易起霧,導(dǎo)致幾乎不滲透。遼寧CeYAP晶體廠家直銷

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