在電池制造流程里,電解液的注入環(huán)節(jié)堪稱重中之重,其對溫濕度的要求近乎嚴苛。哪怕是極其細微的溫度波動,都可能引發(fā)電解液的密度與黏度發(fā)生改變。這看似不起眼的變化,卻會直接干擾注液量的控制。一旦注液量出現(xiàn)偏差,電池內部的電化學反應便無法在正常狀態(tài)下進行,導致電池容量大打折扣,使用壽命也大幅縮短。而當濕度攀升過高,空氣中游離的水分便會趁機混入電解液之中。這些水分會與電解液的成分發(fā)生化學反應,生成一系列有害雜質。這些雜質會無情地腐蝕電池內部結構,嚴重破壞電池的穩(wěn)定性與安全性,給電池的使用埋下諸多隱患。精密環(huán)境控制設備依托自主研發(fā)的高精密控溫技術,實現(xiàn)了 0.1% 的超高輸出精度。0.5℃恒溫恒濕均勻性
在科研與工業(yè)制造等眾多領域,光學儀器如激光干涉儀、光學顯微鏡、電子顯微鏡等,發(fā)揮著無可替代的關鍵作用,而它們對運行環(huán)境的要求極為苛刻,尤其是溫濕度、潔凈度以及抗微震性能。精密環(huán)控柜的出現(xiàn),為這些精密儀器提供了理想的運行環(huán)境。以激光干涉儀為例,其憑借納米級別的高精度測量能力,在諸多精密領域不可或缺。但它對溫度極度敏感,哪怕有 0.01℃的溫度波動,由于儀器主體與測量目標熱脹冷縮程度的差異,會造成測量基線改變,致使測量位移結果出現(xiàn)偏差。精密環(huán)控柜憑借超高精度溫度控制,將溫度波動控制在極小范圍,有力保障了激光干涉儀測量的準確性。遼寧恒溫恒濕方案該系統(tǒng)集成暖通通風、環(huán)境潔凈、照明安防及實驗室管理系統(tǒng),能夠實時記錄查詢數(shù)據(jù)。
超高水準潔凈度控制使精密環(huán)控柜在眾多領域發(fā)揮著無可替代的作用。該系統(tǒng)可輕松實現(xiàn)百級以上潔凈度控制,內部潔凈度可優(yōu)于 ISO class3 (設備工作區(qū)) 。這一特性得益于其先進的空氣過濾系統(tǒng),多層高效過濾器能夠有效攔截空氣中的塵埃顆粒、微生物等污染物。在對潔凈度要求極高的半導體制造領域,微小的塵埃顆粒都可能導致芯片出現(xiàn)瑕疵,影響性能和良品率。精密環(huán)控柜提供的超潔凈環(huán)境,能極大降低塵埃對芯片制造過程的干擾,確保芯片的高質量生產。在生物制藥領域,藥品的生產過程必須保證無菌無塵,防止微生物污染。其超高的潔凈度控制能力,為藥品的研發(fā)和生產提供了符合標準的潔凈空間,保障了藥品的安全性和有效性。
高精密恒溫恒濕技術憑借其無可比擬控制系統(tǒng),為眾多場景帶來穩(wěn)定且理想的環(huán)境。這一技術通過高精度傳感器,對環(huán)境溫濕度進行實時監(jiān)測,誤差能控制在極小范圍內,溫度可至 ±0.0002℃,濕度穩(wěn)定在 ±1%。其原理在于智能調控系統(tǒng),依據(jù)設定參數(shù),迅速調節(jié)制冷、制熱與加濕、除濕設備。當溫度升高,制冷系統(tǒng)快速啟動,降低溫度;濕度上升時,高效除濕裝置立即運作。在諸多需要嚴苛環(huán)境條件的場景中,它都發(fā)揮著關鍵作用。例如,在需要長期保存對環(huán)境敏感的珍貴物品或樣本時,它能防止物品因溫濕度變化變質、損壞。在進行精密實驗時,穩(wěn)定的溫濕度為實驗數(shù)據(jù)的準確性與可靠性提供保障,避免因環(huán)境波動干擾實驗結果??傊呔芎銣睾銤窦夹g是維持環(huán)境穩(wěn)定、保障各類工作順利開展的重要支撐。自面世以來,已為相關領域客戶提供了穩(wěn)定的實驗室環(huán)境以及監(jiān)測服務,獲得了頗多好評。
在半導體芯片制造這一復雜且精細的領域,從芯片光刻、蝕刻到沉積、封裝等每一步,都對環(huán)境條件有著近乎嚴苛的要求,而精密環(huán)控柜憑借其性能成為保障生產的關鍵要素。芯片光刻環(huán)節(jié),光刻機對環(huán)境穩(wěn)定性要求極高。哪怕 0.002℃的溫度波動,都可能使光刻機內部的精密光學元件因熱脹冷縮產生細微形變,導致光路偏差,使光刻圖案精度受損。精密環(huán)控柜憑借超高精度溫度控制,將溫度波動控制在極小范圍,確保光刻機高精度運行,讓芯片光刻圖案正常呈現(xiàn)。高精密環(huán)控設備可移動,容易維護和擴展。0.005℃恒溫恒濕控制房
在生物制藥研發(fā)中,該設備能高效調控環(huán)境,助力藥物成分穩(wěn)定,保障實驗結果可靠。0.5℃恒溫恒濕均勻性
超高精度溫度控制是精密環(huán)控柜的一大突出亮點。其自主研發(fā)的高精密控溫技術,使得控制輸出精度達到驚人的 0.1% ,這意味著對溫度的調控能夠精細到極小的范圍。設備內部溫度穩(wěn)定性在關鍵區(qū)域可達 +/-2mK (靜態(tài)) ,無論外界環(huán)境如何變化,都能保證關鍵部位的溫度處于極其穩(wěn)定的狀態(tài)。內部溫度規(guī)格可在 22.0°C (可調) ,滿足不同用戶對溫度的個性化需求。而且溫度水平均勻性小于 16mK/m ,確保柜內各個角落的溫度幾乎一致,避免因溫度差異導致的實驗誤差或產品質量問題。再加上設備內部濕度穩(wěn)定性可達 ±0.5%@8h ,以及壓力穩(wěn)定性可達 +/-3Pa ,連續(xù)穩(wěn)定工作時間大于 144h ,為對溫濕度、壓力要求苛刻的實驗和生產提供了可靠的環(huán)境保障,讓長時間的科研實驗和精密制造得以順利進行。0.5℃恒溫恒濕均勻性