主要優(yōu)勢(shì):細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同 技術(shù)積累與自主化能力 公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗(yàn),實(shí)現(xiàn)了從樹(shù)脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如,其納米壓印光刻膠通過(guò)自主開(kāi)發(fā)的樹(shù)脂體系,分辨率達(dá)3μm,適用于MEMS傳感器、光學(xué)器件等領(lǐng)域,填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)空白。 技術(shù)壁壘:掌握光刻膠主要原材料(如樹(shù)脂、光酸)的合成技術(shù),部分原材料純度達(dá)PPT級(jí),金屬離子含量低于0.1ppb,良率超99%。 產(chǎn)品多元化與技術(shù)化布局 產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠、半導(dǎo)體錫膏等,形成“光刻膠+配套材料”的完整體系。例如:...
? 化學(xué)反應(yīng): ? 正性膠:曝光后光敏劑(如重氮醌DQN)分解,生成羧酸,在堿性顯影液中溶解; ? 負(fù)性膠:曝光后光敏劑引發(fā)交聯(lián)劑與樹(shù)脂形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。 5. 顯影(Development) ? 顯影液: ? 正性膠:堿性水溶液(如0.26N四甲基氫氧化銨TMAH),溶解曝光區(qū)域; ? 負(fù)性膠:有機(jī)溶劑(如二甲苯、醋酸丁酯),溶解未曝光區(qū)域。 ? 方法:噴淋顯影(PCB)或沉浸式顯影(半導(dǎo)體),時(shí)間30秒-2分鐘,需控制顯影液濃度和溫度。 ...
依托自主研發(fā)與國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈,吉田半導(dǎo)體 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%,躋身國(guó)內(nèi)前段企業(yè)。吉田半導(dǎo)體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國(guó)產(chǎn)樹(shù)脂與單體,實(shí)現(xiàn) 100% 國(guó)產(chǎn)化替代。其分辨率 0.35μm,附著力 > 3N/cm,性能優(yōu)于 JSR 的 AR-P310 系列。通過(guò)與國(guó)內(nèi)多家大型企業(yè)的深度合作,產(chǎn)品覆蓋智能手機(jī)、電視等顯示終端,年供貨量超 200 噸。公司建立國(guó)產(chǎn)原材料溯源體系,確保每批次產(chǎn)品穩(wěn)定性,推動(dòng) LCD 面板材料國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程。 吉田半導(dǎo)體產(chǎn)品矩陣。重慶進(jìn)口光刻膠 工藝流程 ? 目的:去除基板表面油污、顆粒,增強(qiáng)感光膠附著力。 ? 方法...
吉田半導(dǎo)體突破 ArF 光刻膠技術(shù)壁壘,國(guó)產(chǎn)替代再迎新進(jìn)展 自主研發(fā) ArF 光刻膠通過(guò)中芯國(guó)際驗(yàn)證,吉田半導(dǎo)體填補(bǔ)國(guó)內(nèi)光刻膠空白。 吉田半導(dǎo)體成功研發(fā)出 AT-450 ArF 光刻膠,分辨率達(dá) 90nm,適用于 14nm 及以上制程,已通過(guò)中芯國(guó)際量產(chǎn)驗(yàn)證。該產(chǎn)品采用國(guó)產(chǎn)原材料與自主配方,突破日本企業(yè)對(duì) ArF 光刻膠的壟斷。其光酸產(chǎn)率提升 30%,蝕刻選擇比達(dá) 4:1,性能對(duì)標(biāo)日本信越的 ArF 系列。吉田半導(dǎo)體的技術(shù)突破加速了國(guó)產(chǎn)芯片制造材料自主化進(jìn)程,為國(guó)內(nèi)晶圓廠提供高性?xún)r(jià)比解決方案。 吉田半導(dǎo)體全系列產(chǎn)品覆蓋,滿(mǎn)足多元化需求。河南水性光刻膠價(jià)格 技術(shù)優(yōu)勢(shì):23年研發(fā)沉淀...
憑借綠色產(chǎn)品與可持續(xù)生產(chǎn)模式,吉田半導(dǎo)體的材料遠(yuǎn)銷(xiāo)全球,并與多家跨國(guó)企業(yè)建立長(zhǎng)期合作。其環(huán)保焊片與靶材被廣泛應(yīng)用于光伏、儲(chǔ)能等清潔能源領(lǐng)域,助力客戶(hù)實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品全生命周期的環(huán)境友好。公司通過(guò)導(dǎo)入國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)認(rèn)證(如 ISO14001 環(huán)境管理體系),進(jìn)一步強(qiáng)化了在環(huán)保領(lǐng)域的競(jìng)爭(zhēng)力。 未來(lái),廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司將繼續(xù)以技術(shù)創(chuàng)新為驅(qū)動(dòng),深化綠色制造戰(zhàn)略,為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的低碳化、可持續(xù)發(fā)展貢獻(xiàn)力量。以品質(zhì)為依托,深化全球化布局,為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展注入持續(xù)動(dòng)力。 吉田公司以無(wú)鹵無(wú)鉛配方與低 VOC 工藝打造光刻膠。無(wú)錫PCB光刻膠品牌 國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程加速 日本信越化學(xué)因地震導(dǎo)致KrF光刻...
吉田半導(dǎo)體的自研產(chǎn)品已深度融入國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈: 芯片制造:YK-300 光刻膠服務(wù)中芯國(guó)際、長(zhǎng)江存儲(chǔ),支持國(guó)產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn)。 顯示面板:YK-200 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%,成為京東方、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴。 新能源領(lǐng)域:無(wú)鹵無(wú)鉛焊片通過(guò) UL 認(rèn)證,批量應(yīng)用于寧德時(shí)代儲(chǔ)能系統(tǒng),年供貨量超 500 噸。 研發(fā)投入:年研發(fā)費(fèi)用占比超 15%,承擔(dān)國(guó)家 02 專(zhuān)項(xiàng)課題,獲 “國(guó)家技術(shù)發(fā)明二等獎(jiǎng)”。 產(chǎn)能規(guī)模:光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸,納米壓印光刻膠占全球市場(chǎng)份額 15%。 質(zhì)量體系:通過(guò) ISO9...
納米壓印光刻膠 微納光學(xué)器件制造:制作衍射光學(xué)元件、微透鏡陣列等微納光學(xué)器件時(shí),納米壓印光刻膠可實(shí)現(xiàn)高精度的微納結(jié)構(gòu)復(fù)制。通過(guò)納米壓印技術(shù),將模板上的微納圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上,再經(jīng)過(guò)后續(xù)處理,可制造出具有特定光學(xué)性能的微納光學(xué)器件,應(yīng)用于光通信、光學(xué)成像等領(lǐng)域。 生物芯片制造:在 DNA 芯片、蛋白質(zhì)芯片等生物芯片的制造中,需要在芯片表面構(gòu)建高精度的微納結(jié)構(gòu),用于生物分子的固定和檢測(cè)。納米壓印光刻膠可幫助實(shí)現(xiàn)這些精細(xì)結(jié)構(gòu)的制作,提高生物芯片的檢測(cè)靈敏度和準(zhǔn)確性。 吉田質(zhì)量管控與認(rèn)證壁壘。中山UV納米光刻膠 正性光刻膠(如 YK-300) 應(yīng)用場(chǎng)景:...
市場(chǎng)與客戶(hù)優(yōu)勢(shì):全球化布局與頭部客戶(hù)合作 全球客戶(hù)網(wǎng)絡(luò) 產(chǎn)品遠(yuǎn)銷(xiāo)全球,與三星、LG、京東方等世界500強(qiáng)企業(yè)建立長(zhǎng)期合作,在東南亞、北美市場(chǎng)市占率超15%。 區(qū)域市場(chǎng)深耕 依托東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群,與華為、OPPO等本土企業(yè)合作,在消費(fèi)電子、汽車(chē)電子領(lǐng)域快速響應(yīng)客戶(hù)需求。 產(chǎn)業(yè)鏈配套優(yōu)勢(shì):原材料與設(shè)備協(xié)同 主要原材料自主化 公司自主生產(chǎn)光刻膠樹(shù)脂、光引發(fā)劑,降低對(duì)進(jìn)口依賴(lài),成本較國(guó)際競(jìng)品低20%。 設(shè)備與工藝協(xié)同 與國(guó)內(nèi)涂膠顯影設(shè)備廠商合作,開(kāi)發(fā)適配國(guó)產(chǎn)...
差異化競(jìng)爭(zhēng)策略 在高級(jí)市場(chǎng)(如ArF浸沒(méi)式光刻膠),吉田半導(dǎo)體采取跟隨式創(chuàng)新,通過(guò)優(yōu)化現(xiàn)有配方(如提高酸擴(kuò)散抑制效率)逐步縮小與國(guó)際巨頭的差距;在中低端市場(chǎng)(如PCB光刻膠),則憑借性?xún)r(jià)比優(yōu)勢(shì)(價(jià)格較進(jìn)口產(chǎn)品低20%-30%)快速搶占份額,2023年P(guān)CB光刻膠市占率突破10%。 前沿技術(shù)儲(chǔ)備 公司設(shè)立納米材料研發(fā)中心,重點(diǎn)攻關(guān)分子玻璃光刻膠和金屬有機(jī)框架(MOF)光刻膠,目標(biāo)在5年內(nèi)實(shí)現(xiàn)EUV光刻膠的實(shí)驗(yàn)室級(jí)突破。此外,其納米壓印光刻膠已應(yīng)用于3D NAND存儲(chǔ)芯片的孔陣列加工,分辨率達(dá)10nm,為國(guó)產(chǎn)存儲(chǔ)廠商提供了替代方案。 聚焦封裝需求,吉田公...
技術(shù)優(yōu)勢(shì):23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突破 全流程自主化能力 吉田在光刻膠研發(fā)中實(shí)現(xiàn)了從樹(shù)脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如,其納米壓印光刻膠通過(guò)自主開(kāi)發(fā)的樹(shù)脂體系,實(shí)現(xiàn)了3μm的分辨率,適用于MEMS傳感器、光學(xué)器件等領(lǐng)域。 技術(shù)壁壘:公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗(yàn),掌握光刻膠主要原材料(如樹(shù)脂、光酸)的合成技術(shù),部分原材料純度達(dá)PPT級(jí)。 細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)先進(jìn) ? 納米壓印光刻膠:在納米級(jí)圖案化領(lǐng)域(如量子點(diǎn)顯示、生物芯片)實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破,分辨率達(dá)3μm,填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空缺。 ? LCD光...
作為深耕半導(dǎo)體材料領(lǐng)域二十余年的綜合性企業(yè),廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終將環(huán)保理念融入產(chǎn)品研發(fā)與生產(chǎn)全流程。公司位于東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群,依托區(qū)域產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)勢(shì),持續(xù)推出符合國(guó)際環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體材料解決方案。 公司在錫膏、焊片等產(chǎn)品中采用無(wú)鹵無(wú)鉛配方,嚴(yán)格遵循 RoHS 指令要求,避免使用有害物質(zhì)。以錫膏為例,其零鹵素配方通過(guò)第三方機(jī)構(gòu)認(rèn)證,不僅減少了電子產(chǎn)品廢棄后的環(huán)境負(fù)擔(dān),還提升了焊接可靠性,適用于新能源汽車(chē)、精密電子設(shè)備等領(lǐng)域。同時(shí),納米壓印光刻膠與 LCD 光刻膠的生產(chǎn)過(guò)程中,公司通過(guò)優(yōu)化原料配比,減少揮發(fā)性有機(jī)物(VOCs)排放,確保產(chǎn)品符合歐盟 REACH 法規(guī)...
光伏電池(半導(dǎo)體級(jí)延伸) ? HJT/TOPCon電池:在硅片表面圖形化金屬電極,使用高靈敏度光刻膠(曝光能量≤50mJ/cm2),線寬≤20μm,降低遮光損失。 ? 鈣鈦礦電池:用于電極圖案化和層間隔離,需耐有機(jī)溶劑(適應(yīng)溶液涂布工藝)。 納米壓印技術(shù)(下一代光刻) ? 納米壓印光刻膠:通過(guò)模具壓印實(shí)現(xiàn)10nm級(jí)分辨率,用于3D NAND存儲(chǔ)孔陣列(直徑≤20nm)、量子點(diǎn)顯示陣列等。 微流控與生物醫(yī)療 ? 微流控芯片:制造微米級(jí)流道(寬度10-100μm),材料需生物相容性(如PDMS...
光伏電池(半導(dǎo)體級(jí)延伸) ? HJT/TOPCon電池:在硅片表面圖形化金屬電極,使用高靈敏度光刻膠(曝光能量≤50mJ/cm2),線寬≤20μm,降低遮光損失。 ? 鈣鈦礦電池:用于電極圖案化和層間隔離,需耐有機(jī)溶劑(適應(yīng)溶液涂布工藝)。 納米壓印技術(shù)(下一代光刻) ? 納米壓印光刻膠:通過(guò)模具壓印實(shí)現(xiàn)10nm級(jí)分辨率,用于3D NAND存儲(chǔ)孔陣列(直徑≤20nm)、量子點(diǎn)顯示陣列等。 微流控與生物醫(yī)療 ? 微流控芯片:制造微米級(jí)流道(寬度10-100μm),材料需生物相容性(如PDMS...
吉田半導(dǎo)體的自研產(chǎn)品已深度融入國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈: 芯片制造:YK-300 光刻膠服務(wù)中芯國(guó)際、長(zhǎng)江存儲(chǔ),支持國(guó)產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn)。 顯示面板:YK-200 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%,成為京東方、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴。 新能源領(lǐng)域:無(wú)鹵無(wú)鉛焊片通過(guò) UL 認(rèn)證,批量應(yīng)用于寧德時(shí)代儲(chǔ)能系統(tǒng),年供貨量超 500 噸。 研發(fā)投入:年研發(fā)費(fèi)用占比超 15%,承擔(dān)國(guó)家 02 專(zhuān)項(xiàng)課題,獲 “國(guó)家技術(shù)發(fā)明二等獎(jiǎng)”。 產(chǎn)能規(guī)模:光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸,納米壓印光刻膠占全球市場(chǎng)份額 15%。 質(zhì)量體系:通過(guò) ISO9...
憑借多年研發(fā)積累,公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領(lǐng)域的豐富產(chǎn)品線。在焊接材料方面,不僅提供常規(guī)錫膏、助焊膏,還針對(duì)特殊場(chǎng)景開(kāi)發(fā)了 BGA 助焊膏、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品,滿(mǎn)足精密電子組裝的多樣化需求。同時(shí),感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性?xún)深?lèi),兼具耐潮性與易操作性,廣泛應(yīng)用于印刷電路板制造。 公司產(chǎn)品遠(yuǎn)銷(xiāo)全球,并與多家跨國(guó)企業(yè)及電子加工企業(yè)建立長(zhǎng)期合作關(guān)系。通過(guò)在重點(diǎn)區(qū)域設(shè)立辦事處,提供快速響應(yīng)的技術(shù)支持與售后服務(wù)。依托東莞 “世界工廠” 的產(chǎn)業(yè)資源,公司強(qiáng)化供應(yīng)鏈協(xié)同,縮短交付周期,為客戶(hù)提供高效解決方案。 未來(lái),廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司將繼續(xù)深化技術(shù)創(chuàng)新,拓展產(chǎn)品...
在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域,廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司憑借 23 年技術(shù)沉淀,已成為國(guó)內(nèi)光刻膠行業(yè)的企業(yè)。公司產(chǎn)品線覆蓋正性、負(fù)性、厚膜、納米壓印等多類(lèi)型光刻膠,廣泛應(yīng)用于芯片制造、LCD 顯示、PCB 電路板等領(lǐng)域。 技術(shù):自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品具備高分辨率(如 JT-3001 厚板光刻膠)、高感光度(如 JT-1000 負(fù)性光刻膠)及抗深蝕刻性能,部分指標(biāo)達(dá)到水平。 嚴(yán)苛品控:生產(chǎn)過(guò)程嚴(yán)格遵循 ISO9001 體系,材料進(jìn)口率 100%,并通過(guò) 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理確保制程穩(wěn)定性。 定制化服務(wù):支持客戶(hù)需求定制,例如為特殊工藝開(kāi)發(fā)光刻膠,滿(mǎn)足多樣化場(chǎng)景需求。 ...
光刻膠(Photoresist)是一種對(duì)光敏感的高分子材料,主要用于光刻工藝中,通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)實(shí)現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移,是半導(dǎo)體、集成電路(IC)、印刷電路板(PCB)、液晶顯示(LCD)等制造領(lǐng)域的材料之一。 光刻膠特性與組成 ? 光敏性:在特定波長(zhǎng)(如紫外光、極紫外光EUV等)照射下,會(huì)發(fā)生化學(xué)結(jié)構(gòu)變化(如交聯(lián)或分解),從而改變?cè)陲@影液中的溶解性。 ? 主要成分: ? 樹(shù)脂(成膜劑):形成基礎(chǔ)膜層,決定光刻膠的機(jī)械和化學(xué)性能。 ? 光敏劑:吸收光能并引發(fā)化學(xué)反應(yīng)(如光分解、光交聯(lián))。 ...
感光機(jī)制 ? 重氮型(雙液型):需混合光敏劑(如二疊氮二苯乙烯二磺酸鈉),曝光后通過(guò)交聯(lián)反應(yīng)固化,適用于精細(xì)圖案(如PCB電路線寬≤0.15mm)。 ? SBQ型(單液型):預(yù)混光敏劑,無(wú)需調(diào)配,感光度高(曝光時(shí)間縮短30%),適合快速制版(如服裝印花)。 ? 環(huán)保型:采用無(wú)鉻配方(如CN10243143A),通過(guò)多元固化體系(熱固化+光固化)實(shí)現(xiàn)12-15mJ/cm2快速曝光,分辨率達(dá)2μm,符合歐盟REACH標(biāo)準(zhǔn)。 功能細(xì)分 ? 耐溶劑型:如日本村上AD20,耐酒精、甲苯等溶劑,適用...
上游原材料: ? 樹(shù)脂:彤程新材、鼎龍股份實(shí)現(xiàn)KrF/ArF光刻膠樹(shù)脂自主合成,金屬雜質(zhì)含量<5ppb(國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)<10ppb)。 ? 光引發(fā)劑:久日新材攻克EUV光刻膠原料光致產(chǎn)酸劑,累計(jì)形成噸級(jí)訂單;威邁芯材合肥基地建成100噸/年ArF/KrF光刻膠主材料產(chǎn)線。 ? 溶劑:怡達(dá)股份電子級(jí)PM溶劑全球市占率超40%,與南大光電合作開(kāi)發(fā)配套溶劑,技術(shù)指標(biāo)達(dá)SEMI G5標(biāo)準(zhǔn)。 設(shè)備與驗(yàn)證: ? 上海新陽(yáng)與上海微電子聯(lián)合開(kāi)發(fā)光刻機(jī)適配參數(shù),驗(yàn)證周期較國(guó)際廠商縮短6個(gè)月;徐州博康實(shí)現(xiàn)“單體-樹(shù)脂...
作為深耕半導(dǎo)體材料領(lǐng)域二十余年的綜合性企業(yè),廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終將技術(shù)創(chuàng)新與產(chǎn)品質(zhì)量視為重要發(fā)展動(dòng)力。公司位于東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群,依托區(qū)域產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)勢(shì),持續(xù)為全球客戶(hù)提供多元化的半導(dǎo)體材料解決方案。 公司產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、半導(dǎo)體錫膏、焊片及靶材等,原材料均嚴(yán)格選用美國(guó)、德國(guó)、日本等國(guó)的質(zhì)量進(jìn)口材料。通過(guò)全自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備與精細(xì)化工藝控制,確保每批次產(chǎn)品的穩(wěn)定性與一致性。例如,納米壓印光刻膠采用特殊配方,可耐受 250℃高溫及復(fù)雜化學(xué)環(huán)境,適用于高精度納米結(jié)構(gòu)制造;LCD 光刻膠以高分辨率和穩(wěn)定性,成為顯示面板行業(yè)的推薦材料。 ...
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司憑借技術(shù)創(chuàng)新與質(zhì)量?jī)?yōu)勢(shì),在半導(dǎo)體材料行業(yè)占據(jù)重要地位。公司聚焦光刻膠、電子膠、錫膏等產(chǎn)品,其中納米壓印光刻膠可耐受 250℃高溫及強(qiáng)酸強(qiáng)堿環(huán)境,適用于高精度納米結(jié)構(gòu)制造;LCD 光刻膠以高穩(wěn)定性和精細(xì)度成為顯示面板行業(yè)的推薦材料。此外,公司還提供焊片、靶材等配套材料,滿(mǎn)足客戶(hù)多元化需求。 在技術(shù)層面,吉田半導(dǎo)體通過(guò)自主研發(fā)與國(guó)際合作結(jié)合,持續(xù)優(yōu)化生產(chǎn)工藝,實(shí)現(xiàn)全流程自動(dòng)化控制。其生產(chǎn)基地配備先進(jìn)設(shè)備,并嚴(yán)格執(zhí)行國(guó)際標(biāo)準(zhǔn),確保產(chǎn)品性能達(dá)到國(guó)際水平。同時(shí),公司注重人才培養(yǎng)與引進(jìn),匯聚化工、材料學(xué)等領(lǐng)域的專(zhuān)業(yè)團(tuán)隊(duì),為技術(shù)創(chuàng)新提供堅(jiān)實(shí)支撐。未來(lái),吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)以...
LCD顯示 ? 彩色濾光片(CF): ? 黑色矩陣(BM)光刻膠:隔離像素,線寬精度±2μm,透光率<0.1%。 ? RGB色阻光刻膠:形成紅/綠/藍(lán)像素,需高色純度(NTSC≥95%)和耐光性。 ? 陣列基板(Array): ? 柵極絕緣層光刻膠:用于TFT-LCD的柵極圖案化,分辨率≤3μm。 OLED顯示(柔性/剛性) ? 像素定義層(PDL)光刻膠:在基板上形成有機(jī)發(fā)光材料的 confinement 結(jié)構(gòu),線寬精度±1μm,需耐溶劑侵蝕(適應(yīng)蒸鍍工藝)。 ...
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,各有特性與優(yōu)勢(shì),適用于不同領(lǐng)域。 厚板光刻膠 JT - 3001:具有優(yōu)異的分辨率和感光度,抗深蝕刻性能良好。符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),保質(zhì)期 1 年,適用于對(duì)光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場(chǎng)景,如一些特殊的電路板制造。 SU - 3 負(fù)性光刻膠:分辨率優(yōu)異,對(duì)比度良好,曝光靈敏度高,光源適應(yīng)。重量為 100g,常用于對(duì)曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。 液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000:有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,具有優(yōu)異的分辨率,準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好。主要應(yīng)用于液晶平板顯示器的制造,能...
感光機(jī)制 ? 重氮型(雙液型):需混合光敏劑(如二疊氮二苯乙烯二磺酸鈉),曝光后通過(guò)交聯(lián)反應(yīng)固化,適用于精細(xì)圖案(如PCB電路線寬≤0.15mm)。 ? SBQ型(單液型):預(yù)混光敏劑,無(wú)需調(diào)配,感光度高(曝光時(shí)間縮短30%),適合快速制版(如服裝印花)。 ? 環(huán)保型:采用無(wú)鉻配方(如CN10243143A),通過(guò)多元固化體系(熱固化+光固化)實(shí)現(xiàn)12-15mJ/cm2快速曝光,分辨率達(dá)2μm,符合歐盟REACH標(biāo)準(zhǔn)。 功能細(xì)分 ? 耐溶劑型:如日本村上AD20,耐酒精、甲苯等溶劑,適用...
依托自主研發(fā)與國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈,吉田半導(dǎo)體 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%,躋身國(guó)內(nèi)前段企業(yè)。吉田半導(dǎo)體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國(guó)產(chǎn)樹(shù)脂與單體,實(shí)現(xiàn) 100% 國(guó)產(chǎn)化替代。其分辨率 0.35μm,附著力 > 3N/cm,性能優(yōu)于 JSR 的 AR-P310 系列。通過(guò)與國(guó)內(nèi)多家大型企業(yè)的深度合作,產(chǎn)品覆蓋智能手機(jī)、電視等顯示終端,年供貨量超 200 噸。公司建立國(guó)產(chǎn)原材料溯源體系,確保每批次產(chǎn)品穩(wěn)定性,推動(dòng) LCD 面板材料國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程。 吉田半導(dǎo)體實(shí)現(xiàn)光刻膠技術(shù)突破,為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化提供材料支撐。重慶LED光刻膠廠家 憑借多年研發(fā)積累,公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等...
正性光刻膠(如 YK-300) 應(yīng)用場(chǎng)景:用于芯片的精細(xì)圖案化,如集成電路(IC)、分立器件(二極管、三極管)的制造。 特點(diǎn):高分辨率(可達(dá)亞微米級(jí)),適用于多層光刻工藝,確保芯片電路的高精度與可靠性。 負(fù)性光刻膠(如 JT-1000) 應(yīng)用場(chǎng)景:用于功率半導(dǎo)體(如 MOSFET、IGBT)的制造,以及傳感器(如 MEMS)的微結(jié)構(gòu)成型。 特點(diǎn):抗蝕刻能力強(qiáng),適合復(fù)雜圖形的轉(zhuǎn)移,尤其在深寬比要求較高的工藝中表現(xiàn)優(yōu)異。 納米壓印光刻膠(JT-2000) 應(yīng)用場(chǎng)景:第三代半導(dǎo)體(GaN、SiC)芯片、量子點(diǎn)器件及微流控芯片的制造...
全品類(lèi)覆蓋 吉田半導(dǎo)體產(chǎn)品線涵蓋正性 / 負(fù)性光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、厚膜光刻膠及水性光刻膠等,覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等多領(lǐng)域需求,技術(shù)布局全面性于多數(shù)國(guó)內(nèi)廠商。 關(guān)鍵技術(shù)突破 納米壓印技術(shù):JT-2000 納米壓印光刻膠耐高溫達(dá) 250℃,支持納米級(jí)精度圖案復(fù)制,適用于第三代半導(dǎo)體(GaN/SiC)及 Mini LED 等新興領(lǐng)域,技術(shù)指標(biāo)接近國(guó)際先進(jìn)水平。 水性環(huán)保配方:JT-1200 水性感光膠以水為溶劑替代傳統(tǒng)有機(jī)溶劑,低 VOC 排放,符合 RoHS 和 REACH 標(biāo)準(zhǔn),環(huán)保性能優(yōu)于同類(lèi)產(chǎn)品。 厚膜工藝...
依托自主研發(fā)與國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈,吉田半導(dǎo)體 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%,躋身國(guó)內(nèi)前段企業(yè)。吉田半導(dǎo)體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國(guó)產(chǎn)樹(shù)脂與單體,實(shí)現(xiàn) 100% 國(guó)產(chǎn)化替代。其分辨率 0.35μm,附著力 > 3N/cm,性能優(yōu)于 JSR 的 AR-P310 系列。通過(guò)與國(guó)內(nèi)多家大型企業(yè)的深度合作,產(chǎn)品覆蓋智能手機(jī)、電視等顯示終端,年供貨量超 200 噸。公司建立國(guó)產(chǎn)原材料溯源體系,確保每批次產(chǎn)品穩(wěn)定性,推動(dòng) LCD 面板材料國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程。 光刻膠是有什么東西?湖北LED光刻膠價(jià)格 憑借多年研發(fā)積累,公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領(lǐng)域的豐富產(chǎn)品線。在焊接材料方面,不僅提供常...
技術(shù)研發(fā):從配方到工藝的經(jīng)驗(yàn)壁壘 配方設(shè)計(jì)的“黑箱效應(yīng)” 光刻膠配方涉及成百上千種成分的排列組合,需通過(guò)數(shù)萬(wàn)次實(shí)驗(yàn)優(yōu)化。例如,ArF光刻膠需在193nm波長(zhǎng)下實(shí)現(xiàn)0.1μm分辨率,其光酸產(chǎn)率、熱穩(wěn)定性等參數(shù)需精確匹配光刻機(jī)性能。日本企業(yè)通過(guò)數(shù)十年積累形成的配方數(shù)據(jù)庫(kù),國(guó)內(nèi)企業(yè)短期內(nèi)難以突破。 工藝控制的極限挑戰(zhàn) 光刻膠生產(chǎn)需在百級(jí)超凈車(chē)間進(jìn)行,金屬離子含量需控制在1ppb以下。國(guó)內(nèi)企業(yè)在“吸附—重結(jié)晶—過(guò)濾—干燥”耦合工藝上存在技術(shù)短板,導(dǎo)致產(chǎn)品批次一致性差。例如,恒坤新材的KrF光刻膠雖通過(guò)12英寸產(chǎn)線驗(yàn)證,但量產(chǎn)良率較日本同類(lèi)...
吉田半導(dǎo)體水性感光膠 JT-1200:水油兼容,鋼片加工精度 ±5μm JT-1200 水性感光膠解決鋼片加工難題,提升汽車(chē)電子部件制造精度。 針對(duì)汽車(chē)電子鋼片加工需求,吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 JT-1200 水性感光膠實(shí)現(xiàn)水油兼容性達(dá) 100%,加工精度 ±5μm。其高粘接強(qiáng)度與耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿特性,確保復(fù)雜結(jié)構(gòu)的長(zhǎng)期可靠性。其涂布性能優(yōu)良,易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn),適用于安全氣囊傳感器、車(chē)載攝像頭模組等精密部件。產(chǎn)品通過(guò) IATF 16949 汽車(chē)行業(yè)認(rèn)證,生產(chǎn)過(guò)程嚴(yán)格控制金屬離子含量,確保電子產(chǎn)品可靠性。 吉田半導(dǎo)體實(shí)現(xiàn)光刻膠技術(shù)突破,為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化提供材料支撐。武漢水油光刻膠價(jià)格 差異化競(jìng)...