納米壓印光刻（NIL）技術
EVG是納米壓印光刻（NIL）設備和集成工藝的市場**供應商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并實現(xiàn)了從2英寸化合物半導體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產。NIL是產生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當有成本效益的工藝，可用于生物MEMS，微流體，電子學以及**近各種衍射光學元件的各種商業(yè)應用。
其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號包含：
EVG®610
EVG®620NT
EVG®6200NT
EVG®720
EVG®7200
EVG®7200LA
HERCULES®NIL
EVG®770
IQAligner®
熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號包含：
EVG®510HE
EVG®520HE
詳細的參數(shù)，請聯(lián)系我們岱美有限公司。
EVG ? 770是分步重復納米壓印光刻系統(tǒng)，使用分步重復納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作。EVG6200NT納米壓印研發(fā)可以用嗎
SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結構的低成本，大批量替代光刻技術。
*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術服務有限公司。 原裝進口納米壓印有哪些應用 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經濟、高 效的方法。
EVG ® 770分步重復納米壓印光刻系統(tǒng)
分步重復納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作
EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從**
大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。
EVG770的主要功能包括精確的對準功能，完整的過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。
UV納米壓印光刻系統(tǒng)
EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)
■高精度對準臺
■自動楔形誤差補償機制
■電動和程序控制的曝光間隙
■支持***的UV-LED技術
■**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求
EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA：自動化的全場納米壓印解決方案，適用于第3代基材
■體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度
■專有的SmartNIL®技術和多用途聚合物印章技術
■集成式壓印，UV固化，脫模和工作印模制作
■盒帶間自動處理以及半自動研發(fā)模式
■適用于所有市售壓印材料的開放平臺
EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。
HERCULES®NIL：完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實現(xiàn)300 mm的大批量生產
■批量生產低至40 nm的結構或更小尺寸（分辨率取決于過程和模板）
■結合了預處理（清潔/涂布/烘烤/冷卻）和SmartNIL®技術
■全自動壓印和受控的低力分離，可很大程度地重復使用工作印章
■具備工作印章制造能力
EVG®770：連續(xù)重復的納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作
■用于晶圓級光學器件的微透鏡的高 效母模制造，直至SmartNIL®的納米結構
■不同類型的母版的簡單實現(xiàn)
■可變的光刻膠分配模式
■分配，壓印和脫模過程中的實時圖像
■用于壓印和脫模的原位力控制
EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術，擁有多年技術，掌握了NIL，并已在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量生產。EVG納米壓印服務為先
EVG提供不同的***積壓印系統(tǒng)，大面積壓印機，微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。EVG6200NT納米壓印研發(fā)可以用嗎
HERCULES ® NIL特征：
全自動UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理）
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區(qū)域烙印覆蓋
批量生產**小40 nm或更小的結構
支持各種結構尺寸和形狀，包括3D
適用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取決于過程和模板
HERCULES ® NIL技術數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2
對準：≤±3微米
自動分離：支持的
前處理：提供所有預處理模塊
迷你環(huán)境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
EVG6200NT納米壓印研發(fā)可以用嗎
岱美儀器技術服務（上海）有限公司主要經營范圍是儀器儀表，擁有一支專業(yè)技術團隊和良好的市場口碑。公司業(yè)務分為磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發(fā)等，目前不斷進行創(chuàng)新和服務改進，為客戶提供良好的產品和服務。公司從事儀器儀表多年，有著創(chuàng)新的設計、強大的技術，還有一批**的專業(yè)化的隊伍，確保為客戶提供良好的產品及服務。岱美儀器技術服務秉承“客戶為尊、服務為榮、創(chuàng)意為先、技術為實”的經營理念，全力打造公司的重點競爭力。