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EVG6200NT納米壓印研發(fā)可以用嗎

來源: 發(fā)布時間:2020-07-03

納米壓印光刻(NIL)技術(shù)

EVG是納米壓印光刻(NIL)設(shè)備和集成工藝的市場**供應(yīng)商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL,并實現(xiàn)了從2英寸化合物半導(dǎo)體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn)。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當(dāng)有成本效益的工藝,可用于生物MEMS,微流體,電子學(xué)以及**近各種衍射光學(xué)元件的各種商業(yè)應(yīng)用。


其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號包含:

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®


熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號包含:

EVG®510HE

EVG®520HE


詳細(xì)的參數(shù),請聯(lián)系我們岱美有限公司。


EVG ? 770是分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng),使用分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作。EVG6200NT納米壓印研發(fā)可以用嗎

SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù),可對小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化,并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。

*分辨率取決于過程和模板


如果需要詳細(xì)的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 原裝進(jìn)口納米壓印有哪些應(yīng)用 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟(jì)、高 效的方法。

EVG ® 770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)

分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作


EVG770是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從**

大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

EVG770的主要功能包括精確的對準(zhǔn)功能,完整的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。

UV納米壓印光刻系統(tǒng)

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)

■高精度對準(zhǔn)臺

■自動楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制

■電動和程序控制的曝光間隙

■支持***的UV-LED技術(shù)

■**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求


EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自動化的全場納米壓印解決方案,適用于第3代基材

■體積驗證的壓印技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度

■專有的SmartNIL®技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù)

■集成式壓印,UV固化,脫模和工作印模制作

■盒帶間自動處理以及半自動研發(fā)模式


■適用于所有市售壓印材料的開放平臺


EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。

HERCULES®NIL:完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)

■批量生產(chǎn)低至40 nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸(分辨率取決于過程和模板)

■結(jié)合了預(yù)處理(清潔/涂布/烘烤/冷卻)和SmartNIL®技術(shù)

■全自動壓印和受控的低力分離,可很大程度地重復(fù)使用工作印章

■具備工作印章制造能力


EVG®770:連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作

■用于晶圓級光學(xué)器件的微透鏡的高 效母模制造,直至SmartNIL®的納米結(jié)構(gòu)

■不同類型的母版的簡單實現(xiàn)

■可變的光刻膠分配模式

■分配,壓印和脫模過程中的實時圖像

■用于壓印和脫模的原位力控制


EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù),擁有多年技術(shù),掌握了NIL,并已在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG納米壓印服務(wù)為先

EVG提供不同的***積壓印系統(tǒng),大面積壓印機(jī),微透鏡成型設(shè)備以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。EVG6200NT納米壓印研發(fā)可以用嗎

HERCULES ® NIL特征:

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺,具有多達(dá)八個可交換過程模塊(壓印和預(yù)處理)

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀,包括3D

適用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取決于過程和模板


HERCULES ® NIL技術(shù)數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸):100至200毫米/ 200和300毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm2

對準(zhǔn):≤±3微米

自動分離:支持的

前處理:提供所有預(yù)處理模塊

迷你環(huán)境和氣候控制:可選的

工作印章制作:支持的


EVG6200NT納米壓印研發(fā)可以用嗎

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司主要經(jīng)營范圍是儀器儀表,擁有一支專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊和良好的市場口碑。公司業(yè)務(wù)分為磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)等,目前不斷進(jìn)行創(chuàng)新和服務(wù)改進(jìn),為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。公司從事儀器儀表多年,有著創(chuàng)新的設(shè)計、強(qiáng)大的技術(shù),還有一批**的專業(yè)化的隊伍,確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實”的經(jīng)營理念,全力打造公司的重點競爭力。