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遼寧納米壓印保修期多久

來源: 發(fā)布時間:2020-04-03

HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統(tǒng)達300毫米

結合EVG的SmartNIL一個完全模塊化平臺®技術支持AR / VR,3D傳感器,光子和生物技術生產應用


EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個完全集成的跟 蹤系統(tǒng),將清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻(NIL)工藝結合在一個平臺上,用于直徑比較大為300 mm的晶圓。它是***個基于EVG的全模塊化設備平臺和可交換模塊的NIL系統(tǒng),可為客戶提供比較大的自由度來配置他們的系統(tǒng),以比較好地滿足其生產需求,包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。


EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備支持晶圓級光學(WLO)的制造。遼寧納米壓印保修期多久

EVG ® 720自動SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米,設有EVG's專有SmartNIL ®技術


EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術和材料專業(yè)知識,能夠大規(guī)模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技術的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結構,具有****的吞吐量,非常適合批量生產下一代微流控和光子器件,例如衍射光學元件( DOEs)。

*分辨率取決于過程和模板


如果需要詳細的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術服務有限公司。也可以訪問官網,獲得更多信息。 浙江納米壓印供應商家EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)。

IQ Aligner®:用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)

■用于光學元件的微成型應用

■用于全場納米壓印應用

■三個**控制的Z軸,用于控制壓印光刻膠的總厚度變化(TTV),并在壓模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償

■粘合對準和紫外線粘合功能


紫外線壓印_紫外線固化


印章

防紫外線基材

附加印記壓印納米結構分離印記

用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后,將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯(lián)。

μ-接觸印刷

軟印章

基板上的材料

領取物料,物料轉移,刪除印章


EVG610特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG610附加功能:

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷


EVG610技術數(shù)據:

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL:比較大150毫米的碎片

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL

曝光源:汞光源或紫外線LED光源

自動分離:不支持

工作印章制作:外部


SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量。

    具體說來就是,MOSFET能夠有效地產生電流流動,因為標準的半導體制造技術旺旺不能精確控制住摻雜的水平(硅中摻雜以帶來或正或負的電荷),以確保跨各組件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅(SiO2)襯底上,然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控,摻雜有時會泄到別的不需要的地方,那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應”區(qū)域,并導致性能下降。一個典型MOSFET不同層級的剖面圖。不過威斯康星大學麥迪遜分校已經同全美多個合作伙伴攜手(包括密歇根大學、德克薩斯大學、以及加州大學伯克利分校等),開發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導體品質的新技術。研究人員通過電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形,從而帶來更加“物理可控”的生產過程。(來自網絡。EVG的納米壓印設備已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為第三代(550 mm x 650 mm)的基板上實現(xiàn)。海南納米壓印研發(fā)生產

IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)。遼寧納米壓印保修期多久

UV納米壓印光刻系統(tǒng)

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)

■高精度對準臺

■自動楔形誤差補償機制

■電動和程序控制的曝光間隙

■支持***的UV-LED技術

■**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求


EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自動化的全場納米壓印解決方案,適用于第3代基材

■體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度

■專有的SmartNIL®技術和多用途聚合物印章技術

■集成式壓印,UV固化,脫模和工作印模制作

■盒帶間自動處理以及半自動研發(fā)模式


■適用于所有市售壓印材料的開放平臺


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岱美儀器技術服務(上海)有限公司是一家其他型類企業(yè),積極探索行業(yè)發(fā)展,努力實現(xiàn)產品創(chuàng)新。公司是一家有限責任公司企業(yè),以誠信務實的創(chuàng)業(yè)精神、專業(yè)的管理團隊、踏實的職工隊伍,努力為廣大用戶提供***的產品。公司始終堅持客戶需求優(yōu)先的原則,致力于提供高質量的磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術服務將以真誠的服務、創(chuàng)新的理念、***的產品,為彼此贏得全新的未來!