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北京國(guó)產(chǎn)CeYAP晶體性能

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-01-12

據(jù)統(tǒng)計(jì),目前,我國(guó)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)總產(chǎn)值已占電子信息行業(yè)的五分之一,是我國(guó)電子信息行業(yè)發(fā)展的根本。汽車電子、互聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用產(chǎn)品、移動(dòng)通信、智慧家庭、5G、消費(fèi)電子產(chǎn)品等領(lǐng)域成為中國(guó)電子元器件市場(chǎng)發(fā)展的源源不斷的動(dòng)力,帶動(dòng)了電子元器件的市場(chǎng)需求,也加快電子元器件更迭換代的速度,從下游需求層面來(lái)看,電子元器件市場(chǎng)的發(fā)展前景極為可觀?;仡欉^(guò)去一年國(guó)內(nèi)激光晶體,閃爍晶體,光學(xué)晶體,光學(xué)元件及生產(chǎn)加工產(chǎn)業(yè)運(yùn)行情況,上半年市場(chǎng)低迷、部分外資企業(yè)產(chǎn)線轉(zhuǎn)移、中小企業(yè)經(jīng)營(yíng)困難,開(kāi)工不足等都是顯而易見(jiàn)的消極影響。CeYAP晶體具有優(yōu)良的閃爍性能,其主要特點(diǎn)是光產(chǎn)額大,衰減時(shí)間短。北京國(guó)產(chǎn)CeYAP晶體性能

可以假設(shè)這種情況存在于NaI: Tl閃爍體中,因?yàn)槠渲蠽k中心的遷移時(shí)間小于10-7s。另一個(gè)模型假設(shè)空穴與Vk中心分離,從價(jià)帶向發(fā)光中心移動(dòng)。由于非局域空穴的高遷移率,這是一種將能量轉(zhuǎn)移到發(fā)光中心的快速方法。閃爍過(guò)程的后面一個(gè)階段,即發(fā)光中心的發(fā)射,已經(jīng)得到了徹底的研究。我們上面已經(jīng)提到了一些啟動(dòng)過(guò)程。目前發(fā)光中心一般分為內(nèi)在和外在兩類。鹵化物和氧化物的本征發(fā)光主要受自陷激子效應(yīng)的制約。非本征發(fā)光主要取決于激發(fā)劑本身的電子躍遷(NaI: Tl,CaF2: Eu)或基質(zhì)與激發(fā)劑之間的躍遷(znse3360te,zns:ag)。而一些所謂的自激閃爍晶體(CeF3,Bi4Ge3O12,CaWO4)處于本征發(fā)光和非本征發(fā)光的中間狀態(tài)。 江西進(jìn)口CeYAP晶體價(jià)格隨著Ce3+ 離子濃度增加,CeYAP晶體的吸收邊發(fā)生紅移,造成了樣品的自吸收。

用溫梯法成功生長(zhǎng)了直徑為 110mm 的大尺寸 Ce: YAG 閃爍晶體,晶體具有良好的外形和光學(xué)性質(zhì)。研究了不同溫度和氣氛等退火條件對(duì) Ce: YAG(TGT)閃爍晶體發(fā)光性能的影響,發(fā)現(xiàn)1100℃ 氧氣退火對(duì)提高晶體的發(fā)光強(qiáng)度具有比較好效果,發(fā)光強(qiáng)度提高了近60%。并初步分析了 Ce: YAG(TGT)閃爍晶體存在的缺陷以及其對(duì)晶體的發(fā)光性能和閃爍時(shí)間的影響。測(cè)試了大尺寸 Ce: YAG 閃爍晶體的相對(duì)光輸出、γ射線靈敏度與DD中子靈敏度、γ射線相對(duì)能量響應(yīng)等性能,結(jié)果表明溫梯法生長(zhǎng)的Ce: YAG 晶體在高能射線和中子探測(cè)方面具有較大的應(yīng)用價(jià)值。 陜西CeYAP晶體供應(yīng)YAP中形成色心的另外一種可能原因是晶體中存在雜質(zhì)離子.

目前國(guó)內(nèi)生長(zhǎng)的Ce: YAP晶體仍存在出光率低的問(wèn)題,其機(jī)理應(yīng)該與自吸收有關(guān),但尚未得到有效解決。為了比較不同退火條件下退火對(duì)自吸收的影響,我們測(cè)量了相同厚度(2mm)和濃度(0.3%)的Ce: YAP晶體在不同溫度和氣氛下退火后的透射光譜、熒光光譜和XEL光譜。從圖4-8可以看出,直拉法生長(zhǎng)的Ce: YAP晶體經(jīng)氫退火后透射邊藍(lán)移,自吸收減弱。當(dāng)進(jìn)行氧退火時(shí),通過(guò)邊緣紅移增強(qiáng)了自吸收。氫的退火溫度越高,自吸收越弱。氧的退火溫度越高,自吸收越強(qiáng)。然而,退火溫度的上限約為1600。如果溫度太高,晶體容易起霧,導(dǎo)致幾乎不滲透。CeYAP晶體,摻鈰YAP晶體兼有高光輸出和快衰減時(shí)間的閃爍特征。

在弱還原氣氛下生長(zhǎng)的Ce:YAP晶體,發(fā)現(xiàn)自吸收得到有效緩解,2mm厚度晶體透過(guò)邊藍(lán)移近30nm,熒光激發(fā)的發(fā)光強(qiáng)度提高了50%以上。同時(shí)研究了還原氣氛生長(zhǎng)對(duì)Ce:YAP晶體其他閃爍性能的影響。1.生長(zhǎng)了不同價(jià)態(tài)離子摻雜的Ce:YAP晶體,以研究電荷補(bǔ)償效應(yīng)對(duì)Ce4+離子的作用。結(jié)果發(fā)現(xiàn)兩價(jià)離子對(duì)Ce:YAP晶體閃爍性能有很強(qiáng)的負(fù)面影響,四價(jià)離子則有于助提高晶體的部分閃爍性能。2.研究了Mn離子摻雜對(duì)Ce:YAP晶體性能的影響。發(fā)現(xiàn)YAP基質(zhì)中Ce,Mn之間存在明顯的能量轉(zhuǎn)移過(guò)程。由于存在Ce3+離子的非輻射躍遷,Ce,Mn:YAP的衰減時(shí)間的快慢成分均變?yōu)樵瓉?lái)的一半,其中快成分為10ns左右,其小尺寸樣品可作為超快閃爍體應(yīng)用。Ce:YAP晶體的吸收光譜和熒光光譜受不同的生長(zhǎng)方法和不同的后熱處理工藝的影響很大。有觀點(diǎn)認(rèn)為YAP晶體的本征紫外發(fā)光中心與反位缺陷YAl3+有關(guān)。江西進(jìn)口CeYAP晶體價(jià)格

將Ce離子摻入Mn: YAP中來(lái)獲得三價(jià)Mn離子,Ce3+離子可以為Mn4+ 離子提供一個(gè)電子,使其變成三價(jià)。北京國(guó)產(chǎn)CeYAP晶體性能

假設(shè)電子空穴對(duì)轉(zhuǎn)化為閃爍光子的效率為(與從電子空穴對(duì)到發(fā)光中心的能量轉(zhuǎn)移效率和發(fā)光中心的量子效率有關(guān)),因此,無(wú)機(jī)閃爍晶體的光輸出主要與晶體成分(,Eg)、電子空穴向發(fā)光中心的能量轉(zhuǎn)移效率和發(fā)光中心的量子效率()有關(guān).NaI:Tl閃爍晶體具有比較大光輸出(約48,000 ph/mev)。將其他無(wú)機(jī)閃爍晶體的光輸出與NaI:Tl晶體的光輸出進(jìn)行比較得到的相對(duì)值(%NaI(Tl))稱為“相對(duì)光輸出”。相對(duì)光輸出通常用于表征無(wú)機(jī)閃爍晶體的光輸出。密度、線性吸收系數(shù)、質(zhì)量吸收系數(shù)、有效原子序數(shù)、輻射長(zhǎng)度和莫里哀半徑。北京國(guó)產(chǎn)CeYAP晶體性能

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