康普頓閃射過程中,電子與X射線或者其他高能射線發(fā)生彈性散射,使高能射線波長(zhǎng)變長(zhǎng),是吸收輻射能的主要方式之一。在康普頓效應(yīng)中,單個(gè)光子與與單個(gè)自由電子或者束縛電子相碰撞,在碰撞中光子把部分能量和動(dòng)量傳遞給電子,使之受到反沖 Ce:YAP閃爍晶體的性能如何?有觀點(diǎn)認(rèn)為YAP晶體的本征紫外發(fā)光中心與反位缺陷YAl3+有關(guān),自20世紀(jì)80年代末和90年代初以來,國(guó)內(nèi)外對(duì)摻雜鈰離子的無機(jī)閃爍體進(jìn)行了大量的研究和探索,涉及的閃爍體包括從氟化合物和溴化物到氧化物和硫化物的無機(jī)閃爍體。CeYAP晶體,摻鈰YAP晶體兼有高光輸出和快衰減時(shí)間的閃爍特征。上海進(jìn)口CeYAP晶體企業(yè)
Tl h Tl2,Tl2 e h但是空穴復(fù)合發(fā)光也是可能的Tl e Tl0,Tl0 h h在無機(jī)晶體中,能量通過激子轉(zhuǎn)移到發(fā)光中心的幾率小于復(fù)合發(fā)光的幾率。一般認(rèn)為,在輻照過程中,低能激子數(shù)小于電子空穴對(duì)數(shù)。為了形成激子,入射電子(光子)的能量應(yīng)該正好等于激子的能量 YAP晶體在透射光中是無色的,在反射光中呈淡棕色。在排除雜質(zhì)的情況下,主要考慮基體和摻雜元素本身。不同氣氛退火引起的自吸收效應(yīng)相反,與溫度呈逐年關(guān)系,說明自吸收與離子價(jià)態(tài)的變化有關(guān),與ce的摻雜濃度成正比。我們認(rèn)為,比較大的自吸收可能是Ce離子本身,即Ce4通過氫退火轉(zhuǎn)化為Ce3,削弱了自吸收,而氧退火增強(qiáng)了自吸收,Ce濃度越大,Ce4離子的數(shù)量相應(yīng)增加。上海進(jìn)口CeYAP晶體企業(yè)四價(jià)離子摻雜有助于提高Ce:Yap晶體的部分閃爍性能。
Ce:YAP高溫閃爍晶體的研究!不同溫度退火的Fe: YAP樣品的吸收光譜和差分吸收光譜,是Fe: YAP樣品在不同溫度退火后的吸收光譜和微分吸收光譜。Fe: YAP晶體的吸收光譜在203納米、246納米、270納米和325納米附近有吸收峰。差示吸收光譜顯示,氫退火后264 ~ 270納米波長(zhǎng)范圍內(nèi)的吸收明顯減弱,氧退火后321納米出現(xiàn)差示吸收峰。可以認(rèn)為246 nm和270 nm處的吸收與Fe3有關(guān),即Fe3和Fe2之間存在躍遷[102]。除了321nm處的吸收,YAP: Fe的幾個(gè)吸收峰與純YAP晶體的吸收峰有一定距離,這不能解釋純YAP(Ce: YAP)中的其他吸收峰與鐵有關(guān)。
在40k,由在X-ray激發(fā)的純CsI晶體的能量效率為30%;然而,它的發(fā)光效率在室溫下非常低,這就是為什么純CsI晶體難以用于閃爍過程的原因。堿土金屬氟化物,如氟化鈣、氟化鍶等。在室溫下,激子發(fā)光仍然保持高產(chǎn)率。在這種情況下,我們可以討論Vk中心在上述反應(yīng)中亞穩(wěn)態(tài)的作用。因此,離子晶體表現(xiàn)出一種非常有趣的性質(zhì),即純晶體或沒有發(fā)光中心的晶體可以產(chǎn)生有效的發(fā)光。這是因?yàn)樵谳椪者^程中,晶體中會(huì)產(chǎn)生大量的Vk發(fā)光中心。在維克激子發(fā)光后,VK中心消失了,水晶恢復(fù)了原來的屬性。二價(jià)離子摻雜對(duì)Ce: YAP晶體的閃爍性能有很強(qiáng)的負(fù)面影響。
兩項(xiàng)一般性意見如下:如上所述,快電子在非彈性散射過程中會(huì)損失能量。這是文學(xué)中常見的表達(dá)。但是,能量實(shí)際上并沒有損失,而是分布到了二次電子激發(fā)。閃爍體中真正的能量損失是由以下與閃爍競(jìng)爭(zhēng)的過程引起的:點(diǎn)缺陷的形成、聲子,的產(chǎn)生、二次電子和光子從晶體中逃逸以及長(zhǎng)期磷光發(fā)射。 過渡金屬摻雜對(duì)YAP晶體透過邊有哪些影響?CeYAG晶體脈沖X射線激發(fā)衰減時(shí)間?Ce: YAP晶體在弱還原氣氛中生長(zhǎng),發(fā)現(xiàn)自吸收得到有效0,熒光激發(fā)的發(fā)光強(qiáng)度突出提高。同時(shí),研究了還原氣氛中生長(zhǎng)對(duì)Ce: YAP晶體其他閃爍性能的影響。CeYAP晶體中Ce3離子5d4f躍遷對(duì)應(yīng)的熒光光譜為330~400nm之間的一個(gè)帶,其峰值約為365~370nm。上海進(jìn)口CeYAP晶體企業(yè)
實(shí)際應(yīng)用中,國(guó)產(chǎn)Ce: YAP晶體存在嚴(yán)重的自吸收問題,直接影響晶體的發(fā)光效率。上海進(jìn)口CeYAP晶體企業(yè)
目前國(guó)內(nèi)生長(zhǎng)的Ce: YAP晶體仍存在出光率低的問題,其機(jī)理應(yīng)該與自吸收有關(guān),但尚未得到有效解決。為了比較不同退火條件下退火對(duì)自吸收的影響,我們測(cè)量了相同厚度(2mm)和濃度(0.3%)的Ce: YAP晶體在不同溫度和氣氛下退火后的透射光譜、熒光光譜和XEL光譜。從圖4-8可以看出,直拉法生長(zhǎng)的Ce: YAP晶體經(jīng)氫退火后透射邊藍(lán)移,自吸收減弱。當(dāng)進(jìn)行氧退火時(shí),通過邊緣紅移增強(qiáng)了自吸收。氫的退火溫度越高,自吸收越弱。氧的退火溫度越高,自吸收越強(qiáng)。然而,退火溫度的上限約為1600。如果溫度太高,晶體容易起霧,導(dǎo)致幾乎不滲透。上海進(jìn)口CeYAP晶體企業(yè)
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