發(fā)光材料的X射線激發(fā)發(fā)射光譜指的是X射線經(jīng)過發(fā)光材料時，發(fā)光材料從X射線那里獲得能量產(chǎn)生二次電子，二次電子激發(fā)發(fā)光材料的發(fā)光中心，然后發(fā)光中心退激發(fā)光，樣品所發(fā)出的光經(jīng)分光儀器(單色儀)分成不同顏色(或波長)的光，通過光電倍增管測出不同波長的發(fā)光強度，得到樣品的發(fā)光按照波長或頻率的一個分布Ce:YAP晶體生長過程詳細(xì)介紹有嗎？因此激發(fā)譜中幾個發(fā)光成分其實還可以再分解為不同子能級的發(fā)光，而且疊加后的峰形會比單峰明顯展寬，普通的擬和只能作近似表達(dá)。結(jié)果發(fā)現(xiàn)兩價離子對Ce:YAP晶體閃爍性能有很強的負(fù)面影響，四價離子則有于助提高晶體的部分閃爍性能。專業(yè)CeYAP晶體元件

在康普頓閃光過程中，電子與X射線或其他高能射線發(fā)生彈性散射，使得高能射線的波長變長，這是吸收輻射能的主要途徑之一。在康普頓效應(yīng)中，單個光子與單個自由電子或束縛電子碰撞。在碰撞中，光子將部分能量和動量傳遞給電子，導(dǎo)致電子反沖。電子-正電子對是指輻射能直接轉(zhuǎn)化為物質(zhì)的過程，也是高能粒子通過物質(zhì)時無機閃爍晶體吸收高能射線的主要途徑之一。要產(chǎn)生正負(fù)電子對，光子的總能量必須大于1.02MeV。當(dāng)物體受到高能電磁輻射時，其作用主要取決于入射光子的能量和閃爍體上離子吸收的原子數(shù)量。一般0.1MeV以下的光子能量主要是光電效應(yīng)，0.1 ~ 10mv主要是康普頓閃光，10mv以上主要是正負(fù)電子對效應(yīng)。專業(yè)CeYAP晶體元件獲得大尺寸(直徑為2英寸至3英寸)晶體的生長工藝，使CeYAP晶體可應(yīng)用于更多的領(lǐng)域。

在弱還原氣氛下生長的Ce:YAP晶體，發(fā)現(xiàn)自吸收得到有效緩解，2mm厚度晶體透過邊藍(lán)移近30nm，熒光激發(fā)的發(fā)光強度提高了50%以上。同時研究了還原氣氛生長對Ce:YAP晶體其他閃爍性能的影響。1．生長了不同價態(tài)離子摻雜的Ce:YAP晶體，以研究電荷補償效應(yīng)對Ce4+離子的作用。結(jié)果發(fā)現(xiàn)兩價離子對Ce:YAP晶體閃爍性能有很強的負(fù)面影響，四價離子則有于助提高晶體的部分閃爍性能。2．研究了Mn離子摻雜對Ce:YAP晶體性能的影響。發(fā)現(xiàn)YAP基質(zhì)中Ce，Mn之間存在明顯的能量轉(zhuǎn)移過程。由于存在Ce3+離子的非輻射躍遷，Ce,Mn:YAP的衰減時間的快慢成分均變?yōu)樵瓉淼囊话耄渲锌斐煞譃?0ns左右，其小尺寸樣品可作為超快閃爍體應(yīng)用。Ce:YAP晶體的吸收光譜和熒光光譜受不同的生長方法和不同的后熱處理工藝的影響很大。

同濃度Ce: YAP的熒光光譜。在可見光(300納米)激發(fā)下，不同濃度Ce: YAP的熒光強度隨著濃度的增加而增加，直到0.5at%。當(dāng)濃度為1.0at%時，濃度淬滅，發(fā)光強度開始降低。相同厚度(5mm)的Ce: YAP晶體在X射線激發(fā)下的發(fā)光強度隨著濃度的增加先增大后減小，峰值位置也有紅移，其中0.3at%處的發(fā)光強度比較高。自吸收對光致發(fā)光幾乎沒有影響，因為激發(fā)和發(fā)射過程都發(fā)生在樣品表面。在高能射線的激發(fā)下，經(jīng)過多次電離過程，晶體內(nèi)部產(chǎn)生大量的電子-空穴對，電子-空穴對將能量傳遞到發(fā)光中心，發(fā)光過程基本發(fā)生在晶體內(nèi)部。鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的YAP晶體的孿晶習(xí)性很容易揭示。

用溫梯法成功生長了直徑為 110mm 的大尺寸 Ce: YAG 閃爍晶體，晶體具有良好的外形和光學(xué)性質(zhì)。研究了不同溫度和氣氛等退火條件對 Ce: YAG（TGT）閃爍晶體發(fā)光性能的影響，發(fā)現(xiàn)1100℃ 氧氣退火對提高晶體的發(fā)光強度具有比較好效果，發(fā)光強度提高了近60%。并初步分析了 Ce: YAG（TGT）閃爍晶體存在的缺陷以及其對晶體的發(fā)光性能和閃爍時間的影響。測試了大尺寸 Ce: YAG 閃爍晶體的相對光輸出、γ射線靈敏度與DD中子靈敏度、γ射線相對能量響應(yīng)等性能，結(jié)果表明溫梯法生長的Ce: YAG 晶體在高能射線和中子探測方面具有較大的應(yīng)用價值。 陜西CeYAP晶體供應(yīng)YAP中形成色心的另外一種可能原因是晶體中存在雜質(zhì)離子.YAP基體中Mn離子和Ce離子之間存在明顯的能量轉(zhuǎn)移過程。陜西科研用CeYAP晶體制造

1995年，Tetsuhiko等人總結(jié)并重新研究了Ce:YAP晶體的光學(xué)特性。專業(yè)CeYAP晶體元件

剛出爐的Ce:YAP單晶由于內(nèi)部熱應(yīng)力較大，在加工過程中容易開裂，提拉法生長的晶體明顯，同時由于鈰離子的價態(tài)(Ce2、Ce3、Ce4)不同，高溫閃爍晶體中只有三價鈰離子(Ce3)作為發(fā)光中心，因此不同的退火工藝條件對高溫閃爍晶體的閃爍性能有重要影響。對于空氣退火，退火溫度為1000 ~ 1600，恒溫時間為20 ~ 30小時，1200以下升溫/降溫速率為50 ~ 100，1200時升溫/降溫速率為30 ~ 50。使用的設(shè)備是硅碳或硅鉬棒馬弗爐流動氫退火，退火溫度1200-1600，恒溫時間20-36小時，1200以下升溫/降溫速率50-100/小時，1200升溫/降溫速率30-50/小時。專業(yè)CeYAP晶體元件

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