用原來(lái)的小坩堝(8050mm)生長(zhǎng)大尺寸晶體時(shí)，晶體旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的強(qiáng)制對(duì)流對(duì)熔體溫場(chǎng)，有很大擾動(dòng)，導(dǎo)致晶體直徑控制問(wèn)題，無(wú)法實(shí)現(xiàn)有效等徑，從而影響晶體質(zhì)量，如圖3.6所示。所以我們選擇了11080mm的銥坩堝，壁厚3 mm。在晶體生長(zhǎng)過(guò)程中，溫場(chǎng)對(duì)晶體質(zhì)量有重要影響[88]。靜態(tài)下，溫度場(chǎng)比較簡(jiǎn)單。主要考慮晶體的熱傳導(dǎo)和熱輻射，可以得到晶體的溫場(chǎng)沿軸向?qū)ΨQ。當(dāng)溫度梯度沿軸向距離增大時(shí)，各分量(軸向/徑向)呈指數(shù)下降，存在固液界面凹凸的臨界條件。詳細(xì)的計(jì)算過(guò)程和結(jié)果由Bu賴斯給出。CeYAP是一種性能優(yōu)良的快閃爍晶體，它擁有較高的光輸出、快的衰減時(shí)間。甘肅生長(zhǎng)CeYAP晶體元件

Tl h Tl2，Tl2 e h但是空穴復(fù)合發(fā)光也是可能的Tl e Tl0，Tl0 h h在無(wú)機(jī)晶體中，能量通過(guò)激子轉(zhuǎn)移到發(fā)光中心的幾率小于復(fù)合發(fā)光的幾率。一般認(rèn)為，在輻照過(guò)程中，低能激子數(shù)小于電子空穴對(duì)數(shù)。為了形成激子，入射電子(光子)的能量應(yīng)該正好等于激子的能量 YAP晶體在透射光中是無(wú)色的，在反射光中呈淡棕色。在排除雜質(zhì)的情況下，主要考慮基體和摻雜元素本身。不同氣氛退火引起的自吸收效應(yīng)相反，與溫度呈逐年關(guān)系，說(shuō)明自吸收與離子價(jià)態(tài)的變化有關(guān)，與ce的摻雜濃度成正比。我們認(rèn)為，比較大的自吸收可能是Ce離子本身，即Ce4通過(guò)氫退火轉(zhuǎn)化為Ce3，削弱了自吸收，而氧退火增強(qiáng)了自吸收，Ce濃度越大，Ce4離子的數(shù)量相應(yīng)增加。甘肅生長(zhǎng)CeYAP晶體元件CeYAP晶體中存在著生長(zhǎng)條紋、包裹沉積物、關(guān)鍵、孿晶及位錯(cuò)簇等。

電子、空穴和激子的相互作用將導(dǎo)致局域化。許多離子晶體表現(xiàn)出一種有趣的現(xiàn)象，即價(jià)帶空穴位于正常晶格中，這種現(xiàn)象被稱為自陷。在熱化過(guò)程中，空穴達(dá)到價(jià)帶的頂部，并被限制在特定的陰離子中。對(duì)于堿金屬鹵化物晶體，這意味著一個(gè)鹵化物離子轉(zhuǎn)變成一個(gè)原子：X- X0。該鹵原子X(jué)0將在一定程度上極化環(huán)境，并且該系統(tǒng)將顯示出軸向弛豫，導(dǎo)致這種局部空穴被兩個(gè)相鄰的陰離子共享。這種狀態(tài)被稱為X2分子或Vk中心(圖1.2)。在低溫下(通常t <200 k)，Vk核是穩(wěn)定的，位于兩個(gè)陰離子上的空穴稱為自陷空穴，電離輻射后離子晶體形成自陷空穴的平均時(shí)間為10-11 s到10-12 s，這個(gè)時(shí)間比自由空穴和導(dǎo)帶電子的復(fù)合時(shí)間短。因此，純離子晶體中的大多數(shù)空穴很快轉(zhuǎn)化為Vk中心。 不同厚度Ce:YAP晶體自吸收比較。

YAP晶體屬于扭曲鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的正交晶系，可視為晶格常數(shù)A=5.328，B=7.367，C=5.178的Al-O 八面體，所有頂點(diǎn)共享而成的三維結(jié)構(gòu)，其結(jié)構(gòu)如圖1-7所示。一個(gè)YAP原細(xì)胞中有四個(gè)YAP分子，晶體中有兩種可以置換的陽(yáng)離子位置：一種是扭曲的YO12多面00置(y3半徑ry=1.02)；另一個(gè)接近理想的八面00置(ral=0.53)。Ce3離子的半徑為1.03，取代了YAP中具有C1h對(duì)稱性的Y3離子。由于失真，實(shí)際配位數(shù)相當(dāng)于8。該體系中有三種穩(wěn)定的化合物：(1) y3al5o12 (YAG)，摩爾比為1)y2 O3al2o 3=:5；(2)摩爾比為2:1的單斜化合物y4al 2o 9(YAM)；(3)摩爾比為1:1的氧化釔(YAP)。YAP是一種均勻熔化的化合物，從熔點(diǎn)到室溫沒(méi)有相變。自20世紀(jì)80年代末和90年代初以來(lái)，國(guó)內(nèi)外對(duì)摻雜鈰離子的無(wú)機(jī)閃爍體進(jìn)行了大量的研究和探索。

不同溫度退火的Fe: YAP樣品的吸收光譜和差分吸收光譜是Fe: YAP樣品在不同溫度退火后的吸收光譜和微分吸收光譜。Fe: YAP晶體的吸收光譜在203納米、246納米、270納米和325納米附近有吸收峰。差示吸收光譜顯示，氫退火后264 ~ 270納米波長(zhǎng)范圍內(nèi)的吸收明顯減弱，氧退火后321納米出現(xiàn)差示吸收峰?？梢哉J(rèn)為246 nm和270 nm處的吸收與Fe3有關(guān)，即Fe3和Fe2之間存在躍遷[102]。除了321nm處的吸收，YAP: Fe的幾個(gè)吸收峰與純YAP晶體的吸收峰有一定距離，這不能解釋純YAP(Ce: YAP)中的其他吸收峰與鐵有關(guān)。 Ce 3的光致發(fā)光強(qiáng)度呈單指數(shù)形式衰減，室溫下其衰減常數(shù)約為16-18n。湖南科研用CeYAP晶體制造

無(wú)機(jī)閃爍晶體的閃爍機(jī)理閃爍體的本質(zhì)是在盡可能短的時(shí)間內(nèi)把高能射線或者粒子轉(zhuǎn)化成可探測(cè)的可見(jiàn)光。甘肅生長(zhǎng)CeYAP晶體元件

隨著我們過(guò)經(jīng)濟(jì)的飛速發(fā)展，脫貧致富，實(shí)現(xiàn)小康之路觸手可及。值得注意的是有限責(zé)任公司（自然）企業(yè)的發(fā)展，特別是近幾年，我國(guó)的電子企業(yè)實(shí)現(xiàn)了質(zhì)的飛躍。從電子元器件的外國(guó)采購(gòu)在出售。電子元器件加工是聯(lián)結(jié)上下游供求必不可少的紐帶，目前電子元器件企業(yè)商已承擔(dān)了終端應(yīng)用中的大量技術(shù)服務(wù)需求，保證了原廠產(chǎn)品在終端的應(yīng)用，提高了產(chǎn)業(yè)鏈的整體效率和價(jià)值。電子元器件行業(yè)規(guī)模不斷增長(zhǎng)，國(guó)內(nèi)市場(chǎng)表現(xiàn)優(yōu)于國(guó)際市場(chǎng)，多個(gè)下游企業(yè)的應(yīng)用前景明朗，電子元器件行業(yè)具備廣闊的發(fā)展空間和增長(zhǎng)潛力。甘肅生長(zhǎng)CeYAP晶體元件

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