如何使用光斑分析儀 Step 1 準(zhǔn)備設(shè)備 將 BeamHere 光斑分析儀固定在光具座上，調(diào)整高度使激光束中心與 sensor 靶面重合。用 Type-C 線連接分析儀與電腦，打開 BeamHere 軟件等待設(shè)備識別。 Step 2 采集數(shù)據(jù) 開啟激光器預(yù)熱 10 分鐘，點擊軟件 "開始采集" 按鈕。實時觀察 2D 成像界面，確保光斑無過曝或欠曝，可通過轉(zhuǎn)輪調(diào)節(jié)衰減片至合適狀態(tài)。 Step 3 分析參數(shù) 在 "高級分析" 模塊勾選所需參數(shù)，軟件自動計算光斑尺寸（±0.5μm 精度）、能量均勻性（CV 值）及光束質(zhì)量因子。3D 視圖支持手勢縮放，便于觀察高階橫模分布。 Step 4 驗證結(jié)果 切換至 "歷史記錄" 對比多次測量數(shù)據(jù)，使用 "統(tǒng)計分析" 功能生成標(biāo)準(zhǔn)差曲線。若發(fā)現(xiàn)異常，可調(diào)用 "單點測量" 工具檢查特定位置能量值。 Step 5 導(dǎo)出報告 在 "報告模板" 中選擇 "科研版" 或 "工業(yè)版"，自動生成帶水印的 PDF 報告，包含光斑圖像、參數(shù)表格、趨勢圖表及 QC 判定結(jié)果。光束質(zhì)量M2怎么測量？近場光斑光斑分析儀官網(wǎng)

相機(jī)式與狹縫式光斑分析儀對比指南 光斑分析儀的選擇需基于應(yīng)用場景的光斑尺寸、功率、脈沖特性及形態(tài)復(fù)雜度： 光斑尺寸 ≤55μm → 狹縫式（2.5μm 精度） ≥55μm → 相機(jī)式（10mm 量程） 激光功率 ≥1W → 狹縫式（直接測量近 10W） ≤1W → 相機(jī)式（6 片衰減片適配） 光斑形態(tài) 高斯 / 規(guī)則 → 兩者均可（狹縫式更經(jīng)濟(jì)） 非高斯 / 高階橫模 → 相機(jī)式（保留細(xì)節(jié)） 脈沖特性 需單脈沖分析 → 相機(jī)式（觸發(fā)同步） 連續(xù)或匹配重頻 → 狹縫式（高精度掃描） 推薦組合： 場景：相機(jī)式 + 狹縫式組合，覆蓋全尺寸與復(fù)雜形態(tài) 工業(yè)產(chǎn)線：狹縫式（高功率）+ 相機(jī)式（動態(tài)監(jiān)測） 醫(yī)療設(shè)備：相機(jī)式（脈沖激光）+M2 模塊（光束質(zhì)量評估） 維度光電 BeamHere 系列提供模塊化解決方案，支持快速切換檢測模式，幫助用戶降**設(shè)備購置成本與檢測周期。beam here光斑分析儀國產(chǎn)近場光斑測試方案，推進(jìn)半導(dǎo)體，硅光行業(yè)優(yōu)化升級。

使用 BeamHere 光斑分析儀測量光斑與光束質(zhì)量的流程 1. 成像原理 BeamHere 采用背照式 CMOS 傳感器，量子效率達(dá) 95%（500-1000nm），配合非球面透鏡組實現(xiàn)無畸變成像。 2. 信號處理 采集到的模擬信號經(jīng) 16 位 ADC 轉(zhuǎn)換，通過數(shù)字濾波算法消除噪聲，確保弱光信號（SNR>40dB）還原。 3. 參數(shù)計算 光斑尺寸：基于高斯擬合與閾值分割法 M2 因子：采用 ISO 11146-1:2005 標(biāo)準(zhǔn)的二階矩法 發(fā)散角：通過不同位置光斑尺寸計算斜率 4. 校準(zhǔn)流程 內(nèi)置波長校準(zhǔn)模塊（400-1700nm），每年需用標(biāo)準(zhǔn)光源進(jìn)行增益校準(zhǔn)，確保測量精度 ±1.5%。 5. 數(shù)據(jù)安全 測量數(shù)據(jù)自動加密存儲于本地數(shù)據(jù)庫，支持云端備份，符合 GDPR 數(shù)據(jù)保護(hù)法規(guī)。

維度光電將在以下領(lǐng)域持續(xù)創(chuàng)新： 多模態(tài)融合：波前傳感與光斑分析一體化設(shè)備，同步獲取振幅 / 相位信息 微型化突破：推出小型光束分析儀（尺寸 < 150mm3），支持現(xiàn)場快速檢測 智能化升級：引入數(shù)字孿生技術(shù)，構(gòu)建光束質(zhì)量預(yù)測模型 標(biāo)準(zhǔn)制定：主導(dǎo)制定《高功率激光光束測量技術(shù)規(guī)范》國家標(biāo)準(zhǔn) 行業(yè)影響： 工業(yè)：通過預(yù)測性維護(hù)降低設(shè)備停機(jī)率 25% 醫(yī)療：實現(xiàn)激光參數(shù)個性化調(diào)控 科研：加速矢量光束、超構(gòu)表面等前沿技術(shù)轉(zhuǎn)化 適合各類激光應(yīng)用中激光光束質(zhì)量測量與分析。多光斑光束質(zhì)量測量系統(tǒng)。

選擇適合特定應(yīng)用的 BeamHere 光斑分析儀需綜合考量光束特性、應(yīng)用場景及功能需求： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米級光斑（如半導(dǎo)體加工）優(yōu)先選擇狹縫式（支持 2.5μm 精度），毫米級光斑（如激光焊接）推薦相機(jī)式（覆蓋 10mm 量程）。 功率等級：高功率激光（如工業(yè)切割）應(yīng)選狹縫式（直接測量近 10W），微瓦級弱光（如科研實驗）可采用相機(jī)式（通過 6 片衰減片適配）。 光束形態(tài)：高斯或規(guī)則光斑兩者均可（狹縫式更經(jīng)濟(jì)），非高斯光束（如貝塞爾光束）需相機(jī)式保留細(xì)節(jié)。 脈沖特性：單脈沖分析選相機(jī)式（觸發(fā)同步），連續(xù)或高頻脈沖適配狹縫式（需匹配掃描頻率）。 2. 應(yīng)用場景適配 工業(yè)制造：高功率加工（>1W）選狹縫式，動態(tài)監(jiān)測與大光斑校準(zhǔn)選相機(jī)式，組合方案可覆蓋全流程需求。 醫(yī)療設(shè)備：眼科準(zhǔn)分子激光需相機(jī)式實時監(jiān)測能量分布，脈沖激光適配觸發(fā)模式，確保手術(shù)精度。 ：超短脈沖測量、復(fù)雜光束分析（如 M2 因子）依賴相機(jī)式，材料加工優(yōu)化可結(jié)合狹縫式高精度掃描。 光通信：光纖端面檢測選相機(jī)式分析光斑形態(tài)，激光器表征適配狹縫式高靈敏度測量。光斑分析儀與M2測試模塊組合，實現(xiàn)對光束傳播方向的發(fā)散角、M2因子、聚焦直徑等測量。激光發(fā)散角光斑分析儀價格

有沒有一體化的光斑分析儀和 M2 因子測量模塊產(chǎn)品？近場光斑光斑分析儀官網(wǎng)

維度光電針對當(dāng)前市場上的諸多行業(yè)痛點，隆重推出了光斑分析儀系列產(chǎn)品。在國內(nèi)激光光束質(zhì)量分析領(lǐng)域，長期以來存在著一個的問題，那就是缺乏能夠提供多樣化型號及定制化解決方案的光斑分析儀品牌。許多企業(yè)長期受限于國外設(shè)備的長周期交付和難以定制的缺陷，這不僅影響了生產(chǎn)效率，還增加了企業(yè)的運營成本。 針對這一問題，維度光電決定立項光斑分析儀系列產(chǎn)品，旨在解決這一行業(yè)難題。我們深知，只有通過自主和創(chuàng)新，才能打破國外設(shè)備的壟斷局面，為國內(nèi)企業(yè)提供更加高效、便捷的光束質(zhì)量分析解決方案。因此，我們致力于打造國內(nèi)專業(yè)、多面的光束質(zhì)量分析儀品牌，以滿足不同企業(yè)的需求。 我們的光斑分析儀系列產(chǎn)品不僅具備多樣化的型號，還能夠根據(jù)客戶的實際需求進(jìn)行定制化設(shè)計。無論是激光加工、激光醫(yī)療、激光科研還是其他相關(guān)領(lǐng)域，我們的產(chǎn)品都能提供、高效的光束質(zhì)量分析服務(wù)。我們相信，通過我們的努力，能夠為國內(nèi)激光行業(yè)的發(fā)展注入新的活力，推動整個行業(yè)的進(jìn)步。近場光斑光斑分析儀官網(wǎng)