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蘇州制版光刻膠廠家

來源： 發(fā)布時間：2025-06-15

光刻膠系列：

厚板光刻膠 JT - 3001，具備優(yōu)異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年；

水油光刻膠 SR - 3308，容量 5L；SU - 3 負(fù)性光刻膠，分辨率優(yōu)異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應(yīng)，重量 100g；

液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000，有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格，分辨率高，準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好；

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠，耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿，耐高溫達(dá) 250°C，長期可靠性高，粘接強(qiáng)度高，重量 100g；

LCD 正性光刻膠 YK - 200，具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力，重量 100g；

半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300，具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g；

耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100，重量 1L。 半導(dǎo)體芯片制造，用于精細(xì)電路圖案光刻，決定芯片性能與集成度。蘇州制版光刻膠廠家

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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于 2023 年，總部位于東莞松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)，注冊資本 2000 萬元。作為高新企業(yè)和廣東省專精特新企業(yè)，公司專注于半導(dǎo)體材料的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售，產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠、LCD 光刻膠、納米壓印光刻膠、半導(dǎo)體錫膏、焊片及靶材等領(lǐng)域。其光刻膠產(chǎn)品以高分辨率、耐蝕刻性和環(huán)保特性著稱，廣泛應(yīng)用于芯片制造、顯示面板及精密電子元件生產(chǎn)。

公司依托 23 年行業(yè)經(jīng)驗(yàn)積累，構(gòu)建了完整的技術(shù)研發(fā)體系，擁有全自動化生產(chǎn)設(shè)備及多項(xiàng)技術(shù)。原材料均選用美國、德國、日本進(jìn)口的材料，并通過 ISO9001:2008 質(zhì)量管理體系認(rèn)證，生產(chǎn)流程嚴(yán)格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理標(biāo)準(zhǔn)，確保產(chǎn)品穩(wěn)定性與一致性。目前，吉田半導(dǎo)體已與多家世界 500 強(qiáng)企業(yè)及電子加工企業(yè)建立長期合作，產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球市場，致力于成為半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè)。
厚膜光刻膠感光膠吉田半導(dǎo)體光刻膠，45nm 制程驗(yàn)證，國產(chǎn)替代方案!

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技術(shù)驗(yàn)證周期長
半導(dǎo)體光刻膠的客戶驗(yàn)證周期通常為2-3年，需經(jīng)歷PRS（性能測試）、STR（小試）、MSTR（批量驗(yàn)證）等階段。南大光電的ArF光刻膠自2021年啟動驗(yàn)證，預(yù)計2025年才能進(jìn)入穩(wěn)定供貨階段。

 原材料依賴仍存
樹脂和光酸仍依賴進(jìn)口，如KrF光刻膠樹脂的單體國產(chǎn)化率不足10%。國內(nèi)企業(yè)需在“吸附—重結(jié)晶—過濾—干燥”耦合工藝等關(guān)鍵技術(shù)上持續(xù)突破。

 未來技術(shù)路線

? 金屬氧化物基光刻膠：氧化鋅、氧化錫等材料在EUV光刻中展現(xiàn)出更高分辨率和穩(wěn)定性，清華大學(xué)團(tuán)隊(duì)已實(shí)現(xiàn)5nm線寬的原型驗(yàn)證。

? 電子束光刻膠：中科院微電子所開發(fā)的聚酰亞胺基電子束光刻膠，分辨率達(dá)1nm，適用于量子芯片制造。

? AI驅(qū)動材料設(shè)計：華為與中科院合作，利用機(jī)器學(xué)習(xí)優(yōu)化光刻膠配方，研發(fā)周期縮短50%。

 研發(fā)投入
? 擁有自己實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)團(tuán)隊(duì)，研發(fā)費(fèi)用占比超15%，聚焦EUV光刻膠前驅(qū)體、低缺陷納米壓印膠等前沿領(lǐng)域，與中山大學(xué)、華南理工大學(xué)建立產(chǎn)學(xué)研合作。

? 專項(xiàng)布局：累計申請光刻膠相關(guān)的項(xiàng)目30余項(xiàng)，涵蓋樹脂合成、配方優(yōu)化、涂布工藝等細(xì)致環(huán)節(jié)。

 生產(chǎn)體系

? 全自動化產(chǎn)線：采用德國曼茨（Manz）涂布設(shè)備、日本島津（Shimadzu）檢測儀器，年產(chǎn)能超500噸（光刻膠），支持小批量定制（小訂單100g）和大規(guī)模量產(chǎn)。

? 潔凈環(huán)境：生產(chǎn)車間達(dá)萬級潔凈標(biāo)準(zhǔn)（ISO 8級），避免顆粒污染，確保光刻膠缺陷密度<5個/cm2。
嚴(yán)苛光刻膠標(biāo)準(zhǔn)品質(zhì)，吉田半導(dǎo)體綠色制造創(chuàng)新趨勢。

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? 正性光刻膠

? YK-300：適用于半導(dǎo)體制造，具備高分辨率（線寬≤10μm）、耐高溫（250℃）、耐酸堿腐蝕特性，主要用于28nm及以上制程的晶圓制造，適配UV光源（365nm/405nm）。

? 技術(shù)優(yōu)勢：采用進(jìn)口樹脂及光引發(fā)劑，絕緣阻抗高（>10^14Ω），滿足半導(dǎo)體器件對絕緣性的嚴(yán)苛要求。

? 負(fù)性光刻膠

? JT-1000：負(fù)性膠，主打優(yōu)異抗深蝕刻性能，分辨率達(dá)3μm，適用于功率半導(dǎo)體、MEMS器件制造，可承受氫氟酸（HF）、磷酸（H3PO4）等強(qiáng)腐蝕液處理。

? SU-3：經(jīng)濟(jì)型負(fù)性膠，性價比高，適用于分立器件及低端邏輯芯片，光源適應(yīng)性廣（248nm-436nm），曝光靈敏度≤200mJ/cm2。

2. 顯示面板光刻膠

? LCD正性光刻膠YK-200：專為TFT-LCD制程設(shè)計，具備高涂布均勻性（膜厚誤差±1%）、良好的基板附著力，用于彩色濾光片（CF）和陣列基板（Array）制造，支持8.5代線以上大規(guī)模生產(chǎn)。

? 水性感光膠JT-1200：環(huán)保型產(chǎn)品，VOC含量<50g/L，符合歐盟RoHS標(biāo)準(zhǔn)，適用于柔性顯示基板，可制作20μm以下精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)，主要供應(yīng)京東方、TCL等面板廠商。

吉田半導(dǎo)體公司基本概況。杭州水油光刻膠報價

半導(dǎo)體光刻膠：技術(shù)領(lǐng)域取得里程碑。蘇州制版光刻膠廠家

關(guān)鍵工藝流程

 涂布：

? 在晶圓/基板表面旋涂光刻膠，厚度控制在0.1-5μm（依制程精度調(diào)整），需均勻無氣泡（旋涂轉(zhuǎn)速500-5000rpm）。

 前烘（Soft Bake）：

? 加熱（80-120℃）去除溶劑，固化膠膜，增強(qiáng)附著力（避免顯影時邊緣剝離）。

 曝光：

? 光源匹配：

? G/I線膠：汞燈（適用于≥1μm線寬，如PCB、LCD）。

? DUV膠（248nm/193nm）：KrF/ArF準(zhǔn)分子激光（用于28nm-14nm制程，如存儲芯片）。

? EUV膠（13.5nm）：極紫外光源（用于7nm以下制程，需控制納米級缺陷）。

? 曝光能量：需精確控制（如ArF膠約50mJ/cm2），避免過曝或欠曝導(dǎo)致圖案失真。

 顯影：

? 采用堿性溶液（如0.262N四甲基氫氧化銨，TMAH），曝光區(qū)域膠膜溶解，未曝光區(qū)域保留，形成三維立體圖案。

 后烘（Post-Exposure Bake, PEB）：

? 化學(xué)增幅型膠需此步驟，通過加熱（90-130℃）激發(fā)光酸催化反應(yīng)，提高分辨率和耐蝕刻性。
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標(biāo)簽： 錫膏 光刻膠 錫片