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廣西油性光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家

來(lái)源： 發(fā)布時(shí)間：2025-05-26

公司遵循國(guó)際質(zhì)量管理標(biāo)準(zhǔn)，通過(guò) ISO9001:2008 認(rèn)證，并在生產(chǎn)過(guò)程中執(zhí)行 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理，從原料入庫(kù)到成品出庫(kù)實(shí)現(xiàn)全流程監(jiān)控。以錫膏產(chǎn)品為例，其無(wú)鹵無(wú)鉛配方符合環(huán)保要求，同時(shí)具備低飛濺、高潤(rùn)濕性等特點(diǎn)，適用于電子產(chǎn)品組裝。此外，公司建立了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化實(shí)驗(yàn)室，配備先進(jìn)檢測(cè)設(shè)備，確保產(chǎn)品性能達(dá)到國(guó)際同類(lèi)水平。

憑借多年研發(fā)積累，公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領(lǐng)域的豐富產(chǎn)品線。在焊接材料方面，不僅提供常規(guī)錫膏、助焊膏，還針對(duì)特殊場(chǎng)景開(kāi)發(fā)了 BGA 助焊膏、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品，滿(mǎn)足精密電子組裝的多樣化需求。同時(shí)，感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性?xún)深?lèi)，兼具耐潮性與易操作性，廣泛應(yīng)用于印刷電路板制造。
吉田半導(dǎo)體光刻膠，45nm 制程驗(yàn)證，國(guó)產(chǎn)替代方案！廣西油性光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家

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定義與特性

負(fù)性光刻膠是一種在曝光后，未曝光區(qū)域會(huì)溶解于顯影液的光敏材料，形成與掩膜版（Mask）圖案相反的圖形。與正性光刻膠相比，其主要特點(diǎn)是耐蝕刻性強(qiáng)、工藝簡(jiǎn)單、成本低，但分辨率較低（通?！?μm），主要應(yīng)用于對(duì)精度要求相對(duì)較低、需要厚膠或高耐腐蝕性的場(chǎng)景。

化學(xué)組成與工作原理

 主要成分

 基體樹(shù)脂：

? 早期以聚異戊二烯橡膠（天然或合成）為主，目前常用環(huán)化橡膠（Cyclized Rubber）或聚乙烯醇肉桂酸酯，提供膠膜的機(jī)械強(qiáng)度和耐蝕刻性。

 光敏劑：

? 主要為雙疊氮化合物（如雙疊氮芪）或重氮醌類(lèi)衍生物，占比約5%-10%，吸收紫外光后引發(fā)交聯(lián)反應(yīng)。

 交聯(lián)劑：

? 如六亞甲基四胺（烏洛托品），在曝光后與樹(shù)脂發(fā)生交聯(lián)，形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。

 溶劑：

? 多為有機(jī)溶劑（如二甲苯、環(huán)己酮），溶解樹(shù)脂和光敏劑，涂布后揮發(fā)形成均勻膠膜。

 工作原理

 曝光前：光敏劑和交聯(lián)劑均勻分散在樹(shù)脂中，膠膜可溶于顯影液（有機(jī)溶劑）。

 曝光時(shí)：

? 光敏劑吸收紫外光（G線436nm為主）后產(chǎn)生活性自由基，引發(fā)交聯(lián)劑與樹(shù)脂分子間的共價(jià)鍵交聯(lián)，使曝光區(qū)域形成不溶于顯影液的三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。

 顯影后：

? 未曝光區(qū)域的樹(shù)脂因未交聯(lián)，被顯影液溶解去除，曝光區(qū)域保留，形成負(fù)性圖案（與掩膜版相反）。
湖北進(jìn)口光刻膠耗材吉田半導(dǎo)體：以技術(shù)革新驅(qū)動(dòng)光刻膠產(chǎn)業(yè)升級(jí)。

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依托自主研發(fā)與國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈，吉田半導(dǎo)體 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%，躋身國(guó)內(nèi)前段企業(yè)。吉田半導(dǎo)體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國(guó)產(chǎn)樹(shù)脂與單體，實(shí)現(xiàn) 100% 國(guó)產(chǎn)化替代。其分辨率 0.35μm，附著力 > 3N/cm，性能優(yōu)于 JSR 的 AR-P310 系列。通過(guò)與國(guó)內(nèi)多家大型企業(yè)的深度合作，產(chǎn)品覆蓋智能手機(jī)、電視等顯示終端，年供貨量超 200 噸。公司建立國(guó)產(chǎn)原材料溯源體系，確保每批次產(chǎn)品穩(wěn)定性，推動(dòng) LCD 面板材料國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程。

吉田半導(dǎo)體突破光刻膠共性難題，提升行業(yè)生產(chǎn)效率，通過(guò)優(yōu)化材料配方與工藝，吉田半導(dǎo)體解決光刻膠留膜率低、蝕刻損傷等共性問(wèn)題，助力客戶(hù)降本增效。
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應(yīng)用場(chǎng)景

 半導(dǎo)體集成電路（IC）制造：

? 邏輯芯片（CPU/GPU）：在28nm以下制程中，正性DUV/EUV膠用于晶體管、互連布線的精細(xì)圖案化（如10nm節(jié)點(diǎn)線寬只有100nm）。

? 存儲(chǔ)芯片（DRAM/NAND）：3D堆疊結(jié)構(gòu)中，正性膠用于層間接觸孔（Contact）和柵極（Gate）的高深寬比圖形（深寬比＞10:1）。

 平板顯示（LCD/OLED）：

? 彩色濾光片（CF）：制作黑矩陣（BM）和彩色層（R/G/B），要求高透光率和邊緣銳利度（線寬5-10μm）。

? OLED電極：在柔性基板上形成微米級(jí)透明電極，需低應(yīng)力膠膜防止基板彎曲變形。

 印刷電路板（PCB）：

? 高密度互連（HDI）：用于細(xì)線路（線寬/線距≤50μm），如智能手機(jī)主板，相比負(fù)性膠，正性膠可實(shí)現(xiàn)更精細(xì)的線路邊緣。

 微納加工與科研：

? MEMS傳感器：制作微米級(jí)懸臂梁、齒輪等結(jié)構(gòu)，需耐干法蝕刻的正性膠（如含硅樹(shù)脂膠）。

? 納米光刻：電子束光刻膠（正性為主）用于研發(fā)級(jí)納米圖案（分辨率＜10nm）。
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松山湖企業(yè)深耕光刻膠領(lǐng)域二十載，提供全系列半導(dǎo)體材料解決方案。廣西油性光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢(shì)，適用于不同領(lǐng)域。

厚板光刻膠 JT - 3006：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年。需保存在干燥區(qū)域并密封，使用前要閱讀參考技術(shù)資料。適用于厚板的光刻加工，在對(duì)精度、感光度和抗蝕刻要求高的生產(chǎn)場(chǎng)景中發(fā)揮作用，如特定的電路板制造領(lǐng)域。

水油光刻膠 SR - 3303：適用于光學(xué)儀器、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域的光刻工藝。品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點(diǎn)，由工廠研發(fā)且支持定制，工廠直銷(xiāo)。 廣西油性光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家

標(biāo)簽： 光刻膠 錫片