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江蘇正性光刻膠耗材

來源： 發(fā)布時間：2025-05-22

吉田半導體突破 ArF 光刻膠技術壁壘，國產(chǎn)替代再迎新進展

自主研發(fā) ArF 光刻膠通過中芯國際驗證，吉田半導體填補國內光刻膠空白。
吉田半導體成功研發(fā)出 AT-450 ArF 光刻膠，分辨率達 90nm，適用于 14nm 及以上制程，已通過中芯國際量產(chǎn)驗證。該產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與自主配方，突破日本企業(yè)對 ArF 光刻膠的壟斷。其光酸產(chǎn)率提升 30%，蝕刻選擇比達 4:1，性能對標日本信越的 ArF 系列。吉田半導體的技術突破加速了國產(chǎn)芯片制造材料自主化進程，為國內晶圓廠提供高性價比解決方案。
納米壓印光刻膠哪家強?吉田半導體附著力提升 30%!江蘇正性光刻膠耗材

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不同光刻膠類型的適用場景對比
類型 波長范圍 分辨率 典型應用產(chǎn)品 
G線/i線光刻膠 436/365nm ≥1μm PCB、LCD黑色矩陣 吉田半導體JT-100系列 
KrF光刻膠 248nm 0.25-1μm 28nm以上芯片、Mini LED制備 吉田半導體YK-300系列 
ArF光刻膠 193nm 45nm-0.25μm 14nm及以上芯片、OLED電極圖案化 國際主流：JSR ARF系列 
EUV光刻膠 13.5nm ≤7nm 7nm以下先進制程、3D NAND堆疊 研發(fā)中（吉田半導體合作攻關） 
水性光刻膠 全波長適配 5-50μm 柔性顯示、環(huán)保PCB阻焊層 吉田半導體WT-200系列 

總結：多領域滲透的“工業(yè)維生素”

光刻膠的應用深度綁定電子信息產(chǎn)業(yè)，從半導體芯片的“納米級雕刻”到PCB的“毫米級線路”，再到顯示面板的“色彩精細控制”，其技術參數(shù)（分辨率、耐蝕刻性、靈敏度）需根據(jù)場景設計。隨著**新能源（車規(guī)芯片、光伏）、新型顯示（Micro LED）、先進制造（納米壓印）**等領域的發(fā)展，光刻膠的應用邊界將持續(xù)擴展，成為支撐制造的關鍵材料。
浙江進口光刻膠國產(chǎn)廠家負性光刻膠的工藝和應用場景。

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廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢，適用于不同領域。

LCD 正性光刻膠 YK - 200：具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力的特點，重量 100g。適用于液晶顯示領域的光刻工藝，能確保 LCD 生產(chǎn)過程中圖形的精確轉移和良好的涂布效果。

半導體正性光刻膠 YK - 300：具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g。主要用于半導體制造工藝，滿足半導體器件對光刻膠在化學穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。

耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100：重量 1L，具有耐腐蝕的特性，適用于在有腐蝕風險的光刻工藝中，比如一些特殊環(huán)境下的半導體加工或電路板制造。

 感光機制

? 重氮型（雙液型）：需混合光敏劑（如二疊氮二苯乙烯二磺酸鈉），曝光后通過交聯(lián)反應固化，適用于精細圖案（如PCB電路線寬≤0.15mm）。

? SBQ型（單液型）：預混光敏劑，無需調配，感光度高（曝光時間縮短30%），適合快速制版（如服裝印花）。

? 環(huán)保型：采用無鉻配方（如CN10243143A），通過多元固化體系（熱固化+光固化）實現(xiàn)12-15mJ/cm2快速曝光，分辨率達2μm，符合歐盟REACH標準。

 功能細分

? 耐溶劑型：如日本村上AD20，耐酒精、甲苯等溶劑，適用于電子油墨印刷。

? 耐水型：如瑞士科特1711，抗水性強，適合紡織品水性漿料。

? 厚版型：如德國K?ppen厚版膠，單次涂布可達50μm，用于立體印刷。


典型應用場景：

? PCB制造：使用360目尼龍網(wǎng)+重氮感光膠，配合LED曝光（405nm波長），實現(xiàn)0.15mm線寬，耐酸性蝕刻液。

? 紡織印花：圓網(wǎng)制版采用9806A型感光膠，涂布厚度20μm，耐堿性染料色漿，耐印率超10萬次。

? 包裝印刷：柔版制版選用杜邦賽麗® Lightning LFH版材，UV-LED曝光+無溶劑工藝，碳排放降低40%。
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吉田半導體突破光刻膠共性難題，提升行業(yè)生產(chǎn)效率，通過優(yōu)化材料配方與工藝，吉田半導體解決光刻膠留膜率低、蝕刻損傷等共性問題，助力客戶降本增效。
針對傳統(tǒng)光刻膠留膜率低、蝕刻損傷嚴重等問題，吉田半導體研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類產(chǎn)品高 8%，密集圖形側壁垂直度達標率提升 15%。其納米壓印光刻膠采用特殊交聯(lián)技術，在顯影過程中減少有機溶劑對有機半導體的損傷，使芯片良率提升至 99.8%。這些技術突破有效降低客戶生產(chǎn)成本，推動行業(yè)生產(chǎn)效率提升。光刻膠解決方案找吉田，ISO 認證 +8S 管理，良率達 98%!江蘇3微米光刻膠國產(chǎn)廠家

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作為深耕半導體材料領域二十余年的綜合性企業(yè)，廣東吉田半導體材料有限公司始終將技術創(chuàng)新與產(chǎn)品質量視為重要發(fā)展動力。公司位于東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群，依托區(qū)域產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)勢，持續(xù)為全球客戶提供多元化的半導體材料解決方案。

公司產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、半導體錫膏、焊片及靶材等，原材料均嚴格選用美國、德國、日本等國的質量進口材料。通過全自動化生產(chǎn)設備與精細化工藝控制，確保每批次產(chǎn)品的穩(wěn)定性與一致性。例如，納米壓印光刻膠采用特殊配方，可耐受 250℃高溫及復雜化學環(huán)境，適用于高精度納米結構制造；LCD 光刻膠以高分辨率和穩(wěn)定性，成為顯示面板行業(yè)的推薦材料。


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標簽： 錫片 光刻膠