以 15% 年研發(fā)投入為驅(qū)動(dòng),吉田半導(dǎo)體加速 EUV 光刻膠與木基材料研發(fā),搶占行業(yè)制高點(diǎn)。布局下一代光刻技術(shù)。
面對(duì)極紫外光刻技術(shù)挑戰(zhàn),吉田半導(dǎo)體與中科院合作開(kāi)發(fā)化學(xué)放大型 EUV 光刻膠,在感光效率(<10mJ/cm2)和耐蝕性(>80%)指標(biāo)上取得階段性進(jìn)展。同時(shí),公司前瞻性布局木基光刻膠研發(fā),對(duì)標(biāo)日本王子控股技術(shù),探索生物基材料在半導(dǎo)體封裝中的應(yīng)用。這些技術(shù)儲(chǔ)備為 7nm 及以下制程提供支撐,助力中國(guó)在下一代光刻技術(shù)中占據(jù)重要地位。水性感光膠推薦吉田 JT-1200,精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)+易操作性!山東激光光刻膠供應(yīng)商
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于 2023 年,總部位于東莞松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū),注冊(cè)資本 2000 萬(wàn)元。作為高新企業(yè)和廣東省專(zhuān)精特新企業(yè),公司專(zhuān)注于半導(dǎo)體材料的研發(fā)、生產(chǎn)與銷(xiāo)售,產(chǎn)品線(xiàn)覆蓋芯片光刻膠、LCD 光刻膠、納米壓印光刻膠、半導(dǎo)體錫膏、焊片及靶材等領(lǐng)域。其光刻膠產(chǎn)品以高分辨率、耐蝕刻性和環(huán)保特性著稱(chēng),廣泛應(yīng)用于芯片制造、顯示面板及精密電子元件生產(chǎn)。
公司依托 23 年行業(yè)經(jīng)驗(yàn)積累,構(gòu)建了完整的技術(shù)研發(fā)體系,擁有全自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備及多項(xiàng)技術(shù)。原材料均選用美國(guó)、德國(guó)、日本進(jìn)口的材料,并通過(guò) ISO9001:2008 質(zhì)量管理體系認(rèn)證,生產(chǎn)流程嚴(yán)格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理標(biāo)準(zhǔn),確保產(chǎn)品穩(wěn)定性與一致性。目前,吉田半導(dǎo)體已與多家世界 500 強(qiáng)企業(yè)及電子加工企業(yè)建立長(zhǎng)期合作,產(chǎn)品遠(yuǎn)銷(xiāo)全球市場(chǎng),致力于成為半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè)。
上海激光光刻膠工廠(chǎng)挑戰(zhàn)與未來(lái)展望的發(fā)展。
? KrF光刻膠:武漢太紫微T150 A產(chǎn)品通過(guò)量產(chǎn)驗(yàn)證,分辨率達(dá)120nm,性能對(duì)標(biāo)日本UV1610,已供應(yīng)中芯國(guó)際、華虹集團(tuán)等12英寸晶圓廠(chǎng)。
? ArF光刻膠:南大光電成為國(guó)內(nèi)通過(guò)客戶(hù)認(rèn)證的企業(yè),產(chǎn)品覆蓋90nm至7nm制程,2024年寧波基地25噸產(chǎn)能投產(chǎn);上海新陽(yáng)ArF干法光刻膠通過(guò)中芯國(guó)際28nm驗(yàn)證,2025年進(jìn)入小批量量產(chǎn)。
? EUV光刻膠:武漢光電國(guó)家研究中心突破EUV光刻膠單體技術(shù),預(yù)計(jì)2026年形成替代能力;清華大學(xué)團(tuán)隊(duì)開(kāi)發(fā)的超高感光度光刻膠曝光劑量降低20倍,為EUV技術(shù)提供新思路。
吉田半導(dǎo)體的自研產(chǎn)品已深度融入國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈:
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芯片制造:YK-300 光刻膠服務(wù)中芯國(guó)際、長(zhǎng)江存儲(chǔ),支持國(guó)產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn)。
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顯示面板:YK-200 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%,成為京東方、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴。
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新能源領(lǐng)域:無(wú)鹵無(wú)鉛焊片通過(guò) UL 認(rèn)證,批量應(yīng)用于寧德時(shí)代儲(chǔ)能系統(tǒng),年供貨量超 500 噸。
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研發(fā)投入:年研發(fā)費(fèi)用占比超 15%,承擔(dān)國(guó)家 02 專(zhuān)項(xiàng)課題,獲 “國(guó)家技術(shù)發(fā)明二等獎(jiǎng)”。
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產(chǎn)能規(guī)模:光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸,納米壓印光刻膠占全球市場(chǎng)份額 15%。
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質(zhì)量體系:通過(guò) ISO9001、IATF 16949 等認(rèn)證,生產(chǎn)過(guò)程執(zhí)行 8S 管理,批次穩(wěn)定性達(dá) 99.5%。
吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)聚焦光刻膠研發(fā),加速 EUV 光刻膠與木基材料技術(shù)突破,目標(biāo)在 2027 年前實(shí)現(xiàn) 7nm 制程材料量產(chǎn)。同時(shí),深化國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈協(xié)同,構(gòu)建 “材料 - 設(shè)備 - 工藝” 一體化生態(tài)圈,為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主化貢獻(xiàn) “吉田力量”。
從突破國(guó)際壟斷到行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),吉田半導(dǎo)體以自研自產(chǎn)為引擎,走出了一條中國(guó)半導(dǎo)體材料企業(yè)的崛起之路。未來(lái),公司將以更具競(jìng)爭(zhēng)力的產(chǎn)品與技術(shù),助力中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺(tái)階。
松山湖光刻膠廠(chǎng)家吉田,2000 萬(wàn)級(jí)產(chǎn)能,48小時(shí)極速交付!
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,各有特性與優(yōu)勢(shì),適用于不同領(lǐng)域。
厚板光刻膠 JT - 3001:具有優(yōu)異的分辨率和感光度,抗深蝕刻性能良好。符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),保質(zhì)期 1 年,適用于對(duì)光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場(chǎng)景,如一些特殊的電路板制造。
SU - 3 負(fù)性光刻膠:分辨率優(yōu)異,對(duì)比度良好,曝光靈敏度高,光源適應(yīng)。重量為 100g,常用于對(duì)曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。
液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000:有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,具有優(yōu)異的分辨率,準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好。主要應(yīng)用于液晶平板顯示器的制造,能滿(mǎn)足其對(duì)光刻膠高精度和穩(wěn)定性的需求。
JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠:耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,耐高溫達(dá) 250°C,長(zhǎng)期可靠性高,粘接強(qiáng)度高。重量 100g,適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,如一些半導(dǎo)體器件的制造。
光刻膠解決方案找吉田,ISO 認(rèn)證 +8S 管理,良率達(dá) 98%!陜西光刻膠多少錢(qián)
吉田半導(dǎo)體光刻膠,45nm 制程驗(yàn)證,國(guó)產(chǎn)替代方案!山東激光光刻膠供應(yīng)商
聚焦先進(jìn)封裝需求,吉田半導(dǎo)體提供從光刻膠到配套材料的一站式服務(wù),助力高性能芯片制造。
在 5G 芯片與 AI 處理器封裝領(lǐng)域,吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 SU-3 負(fù)性光刻膠支持 3μm 厚膜加工,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,為高密度金屬互連提供可靠支撐。其 BGA 助焊膏采用低溫固化技術(shù)(180℃),焊接空洞率 < 5%;針筒錫膏適用于 01005 超微型元件,印刷精度達(dá) ±5μm。通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)化實(shí)驗(yàn)室與快速響應(yīng)團(tuán)隊(duì),公司為客戶(hù)提供工藝優(yōu)化建議,幫助降低生產(chǎn)成本,增強(qiáng)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。山東激光光刻膠供應(yīng)商
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司匯集了大量的優(yōu)秀人才,集企業(yè)奇思,創(chuàng)經(jīng)濟(jì)奇跡,一群有夢(mèng)想有朝氣的團(tuán)隊(duì)不斷在前進(jìn)的道路上開(kāi)創(chuàng)新天地,繪畫(huà)新藍(lán)圖,在廣東省等地區(qū)的電工電氣中始終保持良好的信譽(yù),信奉著“爭(zhēng)取每一個(gè)客戶(hù)不容易,失去每一個(gè)用戶(hù)很簡(jiǎn)單”的理念,市場(chǎng)是企業(yè)的方向,質(zhì)量是企業(yè)的生命,在公司有效方針的領(lǐng)導(dǎo)下,全體上下,團(tuán)結(jié)一致,共同進(jìn)退,**協(xié)力把各方面工作做得更好,努力開(kāi)創(chuàng)工作的新局面,公司的新高度,未來(lái)吉田半導(dǎo)體供應(yīng)和您一起奔向更美好的未來(lái),即使現(xiàn)在有一點(diǎn)小小的成績(jī),也不足以驕傲,過(guò)去的種種都已成為昨日我們只有總結(jié)經(jīng)驗(yàn),才能繼續(xù)上路,讓我們一起點(diǎn)燃新的希望,放飛新的夢(mèng)想!