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全自動顯微維氏硬度計在電子元器件檢測中的重要作用
全自動顯微維氏硬度計:提高材料質(zhì)量評估的關(guān)鍵工具
全自動維氏硬度計對現(xiàn)代制造業(yè)的影響?-全自動維氏硬度計
跨越傳統(tǒng)界限:全自動顯微維氏硬度計在復(fù)合材料檢測中的應(yīng)用探索
從原理到實(shí)踐:深入了解全自動顯微維氏硬度計的工作原理
全自動金相切割機(jī)在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用前景-全自動金相切割機(jī)
全自動金相切割機(jī)的工作原理及優(yōu)勢解析-全自動金相切割機(jī)
全自動洛氏硬度計在材料科學(xué)研究中的應(yīng)用?-全自動洛氏硬度計
全自動維氏硬度計在我國市場的發(fā)展現(xiàn)狀及展望-全自動維氏硬度計
真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤裰饕獞?yīng)用于防止晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞,防止探針卡潮濕及氧化,防止光罩的受潮---黃光部封裝的金線,液防止晶的受潮,以及防止線路板受潮。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤竦牡獨(dú)獗O(jiān)控系統(tǒng)。1.溫濕度記錄功能:1.2內(nèi)建內(nèi)存,可儲存溫度/濕度,收集時間1~240分鐘可自行設(shè)定。1.3可利用RS232連接阜下載至計算機(jī)中讀取。1.4品管記錄格式設(shè)計,有助于內(nèi)部記錄追蹤并可支持?jǐn)?shù)據(jù)庫檔案格式。2.濕度警報系統(tǒng):2.1可設(shè)定啟動警報的濕度值及條件,內(nèi)配蜂鳴器(90分貝)及閃爍警示功能。2.2可另外選配積層式警示燈。3.溫濕度偏移校正功能:內(nèi)建校正功能,確保顯示準(zhǔn)確度。試驗(yàn)箱給社會帶來了什么好處?高低溫試驗(yàn)箱供應(yīng)商家
下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的技術(shù)指標(biāo)。1.使用溫度:1450℃;比較高溫度:1500℃;2.絕熱材料:石墨纖維毯、石墨紙;3.加熱元件:石墨加熱棒;4.冷卻方式:氣冷+循環(huán)風(fēng)冷降溫;5.控溫穩(wěn)定度:2℃,具有PID參數(shù)自整定功能;6.爐膛溫度均勻度:5℃(恒溫1500℃);7.氣氛:可向爐膛內(nèi)通入干燥、潔凈、無油的高純度氮?dú)?純度≥99.999%;8.極限真空:10-3torr級;9.抽氣速率:空載下,30min達(dá)到10-2torr10.升溫功率:170kW;11.升溫速率:15℃/min(空載);12.降溫速率:1450℃至80℃,240分鐘13.腔體尺寸:1000*1000*1000mm(寬*深*高)四川大試驗(yàn)箱試驗(yàn)箱的特點(diǎn)是什么?合肥真萍告訴您。
超高真空烘箱被廣泛應(yīng)用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位,以確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設(shè)備等在低氣壓、高溫單項(xiàng)或同時作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗(yàn)。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的主要技術(shù)指標(biāo)。1.工作室溫度范圍:常溫~+300℃用戶使用溫度260℃2.溫度波動度:±1.0℃(空載);3.溫度偏差:常壓溫度試驗(yàn):常溫~200℃時±2℃200~300℃時±5.0℃低氣壓高溫綜合試驗(yàn):≤100℃時±2.0℃,100℃~200℃時±5.0℃200℃~300℃時±7.0℃
真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤裰饕獞?yīng)用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞,解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線,解決液晶的受潮問題,解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮?dú)夤竦牡獨(dú)獗O(jiān)控系統(tǒng)。1.溫濕度記錄功能:1.2內(nèi)建內(nèi)存,可儲存溫度/濕度,收集時間1~240分鐘可自行設(shè)定。1.3可利用RS232連接阜下載至計算機(jī)中讀取。1.4品管記錄格式設(shè)計,有助于內(nèi)部記錄追蹤并可支持?jǐn)?shù)據(jù)庫檔案格式。2.濕度警報系統(tǒng):2.1可設(shè)定啟動警報的濕度值及條件,內(nèi)配蜂鳴器(90分貝)及閃爍警示功能。2.2可另外選配積層式警示燈。3.溫濕度偏移校正功能:內(nèi)建校正功能,確保顯示準(zhǔn)確度。合肥真萍告訴您如何正確使用試驗(yàn)箱?
本篇介紹專業(yè)全自動HMDS真空烤箱,首先簡單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。試驗(yàn)箱對如今市場的影響。高低溫試驗(yàn)箱供應(yīng)商家
合肥真萍告訴您使用試驗(yàn)箱的便捷性。高低溫試驗(yàn)箱供應(yīng)商家
超高真空烘箱廣泛應(yīng)用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位。確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設(shè)備等在低氣壓、高溫單項(xiàng)或同時作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗(yàn)。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的主要技術(shù)指標(biāo)。1.工作室溫度范圍:常溫~+300℃用戶使用溫度260℃2.溫度波動度:1.0℃(空載);3.溫度偏差:常壓溫度試驗(yàn):常溫~200℃時2℃200~300℃時5.0℃低氣壓高溫綜合試驗(yàn):≤100℃時2.0℃,100℃~200℃時5.0℃200℃~300℃時7.0℃高低溫試驗(yàn)箱供應(yīng)商家
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