場效應管的類型：DEPFET 是在完全耗盡的襯底中形成的場效應晶體管，同時充當傳感器、放大器和存儲器節(jié)點。它可以用作圖像(光子)傳感器。FREDFET (快速反向或快速恢復外延二極管場效應晶體管)是一種用于提供非?？焖俚闹貑ⅲP閉）體二極管的特殊的場效應晶體管，HIGFET (異質結構絕緣柵場效應晶體管)現(xiàn)在主要用于研究MODFET(調制摻雜場效應晶體管)是使用通過在有源區(qū)分級摻雜形成的量子阱結構的高電子遷移率晶體管。TFET ( 隧道場效應晶體管)是以帶對帶隧道基的晶體管IGBT(IGBT高頻爐)是一種功率控制裝置。它與類雙極的主導電溝道的MOSFET的結構，并常用于200-3000伏的漏源電壓工作范圍。功率MOSFET 仍然是1至200 V漏源電壓的器件。HEMT ( 高電子遷移率晶體管)，也稱為HFET(異質結構場效應晶體管)，可以在諸如AlGaAs 的三元半導體中使用帶隙工程來制造。完全耗盡的寬帶隙材料形成柵極和主體之間的絕緣。場效應管它屬于電壓控制型半導體器件。具有輸入電阻高（107～1015Ω）。手動場效應管作用

場效應管注意事項:為了安全使用場效應管，在線路的設計中不能超過管的耗散功率，較大漏源電壓、較大柵源電壓和較大電流等參數(shù)的極限值。各類型場效應管在使用時，都要嚴格按要求的偏置接入電路中，要遵守場效應管偏置的極性。如結型場效應管柵源漏之間是PN結，N溝道管柵極不能加正偏壓；P溝道管柵極不能加負偏壓，等等。MOS場效應管由于輸入阻抗極高，所以在運輸、貯藏中必須將引出腳短路，要用金屬屏蔽包裝，以防止外來感應電勢將柵極擊穿。尤其要注意，不能將MOS場效應管放入塑料盒子內，保存時比較好放在金屬盒內，同時也要注意管的防潮。手動場效應管作用場效應晶體管是一種三極管，包括源極、柵極和漏極。

場效應管以N溝道為例，它是在P型硅襯底上制成兩個高摻雜濃度的源擴散區(qū)N+和漏擴散區(qū)N+，再分別引出源極S和漏極D。源極與襯底在內部連通，二者總保持等電位。當漏接電源正極，源極接電源負極并使VGS=0時，溝道電流（即漏極電流）ID=0。隨著VGS逐漸升高，受柵極正電壓的吸引，在兩個擴散區(qū)之間就感應出帶負電的少數(shù)載流子，形成從漏極到源極的N型溝道，當VGS大于管子的開啟電壓VTN（一般約為+2V）時，N溝道管開始導通，形成漏極電流ID。

場效應晶體管既可以作為多數(shù)載流子器件（由多子導電），又可以作為少數(shù)載流子器件（由少子導電）。該器件由電荷載流子（電子或空穴）從源極流到漏極的有源溝道組成。源極導體和漏極導體通過歐姆接觸聯(lián)結。溝道的電導率是柵源電壓的函數(shù)。場效應晶體管的三個電極包括:源極(S)，載流子經過源極進入溝道。通常，在源極處進入通道的電流由IS表示。漏極(D)，載流子通過漏極離開溝道。通常，在漏極處進入通道的電流由ID表示。漏極與源極之間的電壓由VDS表示。柵極(G)，調制溝道電導率的電極。通過向柵極施加電壓，可以控制ID。場效應管輸出為輸入的2次冪函數(shù)。

場效應管工作原理用一句話說，就是“漏極-源極間流經溝道的ID， 用柵極與溝道間的pn結形成的反偏的柵極電壓進行控制”。更正確地說，ID流經通路的寬度，即溝道截面積，它是由pn結反偏的變化，產生耗盡層擴展變化控制的緣故。在VGS=0的非飽和區(qū)域，表示的過渡層的擴展因為不很大，根據漏極-源極間所加VDS的電場，源極區(qū)域的某些電子被漏極拉去，即從漏極向源極有電流ID流動。從門極向漏極擴展的過度層將溝道的一部分構成堵塞型，ID飽和。將這種狀態(tài)稱為夾斷。這意味著過渡層將溝道的一部分阻擋，并不是電流被切斷。場效應管它靠半導體中的多數(shù)載流子導電，又稱單極型晶體管。常用場效應管生產商

場效應管當柵壓為零時有較大漏極電流的稱為耗盡型。手動場效應管作用

場效應晶體管的溝道是摻雜n型半導體或p型半導體的結果。在增強型場效應晶體管中，漏極和源極可以摻雜與溝道相反的類型，或者摻雜與耗盡型場效應晶體管類似的類型。場效應晶體管也可由溝道和柵極之間的絕緣方法來區(qū)分。場效應晶體管的類型包括:結型場效應管(結型場效應晶體管)使用反向偏置的pn結將柵極與主體電極分開MOSFET (金屬氧化物半導體場效應晶體管)將絕緣體(通常SiO2)置于漏極和主體電極之間。MNOS 金屬-氮化物-氧化物-半導體晶體管將氮化物-氧化物層絕緣體置于柵極和主體電極之間。DGMOSFET ( 雙柵極MOSFET )，一種具有兩個絕緣柵極的場效應晶體管。手動場效應管作用

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