場效應(yīng)管是電壓控制元件，而晶體管是電流控制元件。在只允許從信號源取較少電流的情況下，應(yīng)選用場效應(yīng)管；而在信號電壓較低，又允許從信號源取較多電流的條件下，應(yīng)選用晶體管。場效應(yīng)管是利用多數(shù)載流子導電，所以稱之為單極型器件，而晶體管是既有多數(shù)載流子，也利用少數(shù)載流子導電，被稱之為雙極型器件。有些場效應(yīng)管的源極和漏極可以互換使用，柵壓也可正可負，靈活性比三極管好。場效應(yīng)管能在很小電流和很低電壓的條件下工作，而且它的制造工藝可以很方便地把很多場效應(yīng)管集成在一塊硅片上，因此場效應(yīng)管在大規(guī)模集成電路中得到了普遍的應(yīng)用。場效應(yīng)晶體管的一個常見用途是用作放大器。東莞氮化鎵場效應(yīng)管命名

場效應(yīng)管的主要參數(shù)：① 開啟電壓VGS（th） （或VT）開啟電壓是MOS增強型管的參數(shù)，柵源電壓小于開啟電壓的好不要值，場效應(yīng)管不能導通。② 夾斷電壓VGS（off） （或VP）夾斷電壓是耗盡型FET的參數(shù)，當VGS=VGS（off） 時，漏極電流為零。③ 飽和漏極電流IDSS耗盡型場效應(yīng)三極管，當VGS=0時所對應(yīng)的漏極電流。④ 輸入電阻RGS場效應(yīng)三極管的柵源輸入電阻的典型值，對于結(jié)型場效應(yīng)三極管，反偏時RGS約大于107Ω，對于絕緣柵場型效應(yīng)三極管，RGS約是109～1015Ω。加強型場效應(yīng)管場效應(yīng)管它靠半導體中的多數(shù)載流子導電，又稱單極型晶體管。

場效應(yīng)晶體管（Field Effect Transistor縮寫(FET)）簡稱場效應(yīng)管。主要有兩種類型：結(jié)型場效應(yīng)管（junction FET—JFET)和金屬 - 氧化物半導體場效應(yīng)管（metal-oxide semiconductor FET，簡稱MOS-FET）。由多數(shù)載流子參與導電，也稱為單極型晶體管。它屬于電壓控制型半導體器件。具有輸入電阻高（107～1015Ω）、噪聲小、功耗低、動態(tài)范圍大、易于集成、沒有二次擊穿現(xiàn)象、安全工作區(qū)域?qū)挼葍?yōu)點，現(xiàn)已成為雙極型晶體管和功率晶體管的強大競爭者。

場效應(yīng)管MOSFET工作原理：場效應(yīng)管的工作原理用一句話說，就是“漏極-源極間流經(jīng)溝道的ID，利用柵極與溝道間的PN結(jié)形成的反偏的柵極點壓控制ID。”更正確地說，ID流經(jīng)通路的寬度（溝道橫截面面積），它是由pn結(jié)反偏的變化，產(chǎn)生耗盡層擴展變化控制的緣故。在VGS=0的非飽和區(qū)域，表示的過渡層的擴展因為不很大，根據(jù)漏極-源極間所加VDS的電場，源極區(qū)域的某些電子被漏極拉去，即從漏極向源極有電流ID流動。從門極向漏極擴展的過度層將溝道的一部分構(gòu)成堵塞型，ID飽和。將這種狀態(tài)稱為夾斷。這意味著過渡層將溝道的一部分阻擋，并不是電流被切斷。場效應(yīng)晶體管是一種三極管，包括源極、柵極和漏極。

場效應(yīng)管大功率電路：(1)為了安全使用場效應(yīng)管,在線路的設(shè)計中不能超過管的耗散功率,較大漏源電壓、較大柵源電壓和較大電流等參數(shù)的極限值.(2)各類型場效應(yīng)管在使用時,都要嚴格按要求的偏置接人電路中,要遵守場效應(yīng)管偏置的極性.如結(jié)型場效應(yīng)管柵源漏之間是PN結(jié),N溝道管柵極不能加正偏壓;P溝道管柵極不能加負偏壓。(3)MOS場效應(yīng)管由于輸人阻抗極高,所以在運輸、貯藏中必須將引出腳短路,要用金屬屏蔽包裝,以防止外來感應(yīng)電勢將柵極擊穿.尤其要注意,不能將MOS場效應(yīng)管放人塑料盒子內(nèi),保存時比較好放在金屬盒內(nèi),同時也要注意管的防潮.場效應(yīng)管當柵壓為零時有較大漏極電流的稱為耗盡型。臺州手動場效應(yīng)管作用

場效應(yīng)管的噪聲系數(shù)很小，在低噪聲放大電路的輸入級及要求信噪比較高的電路中要選用場效應(yīng)管。東莞氮化鎵場效應(yīng)管命名

場效應(yīng)管的類型：DEPFET 是在完全耗盡的襯底中形成的場效應(yīng)晶體管，同時充當傳感器、放大器和存儲器節(jié)點。它可以用作圖像(光子)傳感器。FREDFET (快速反向或快速恢復外延二極管場效應(yīng)晶體管)是一種用于提供非?？焖俚闹貑ⅲP(guān)閉）體二極管的特殊的場效應(yīng)晶體管，HIGFET (異質(zhì)結(jié)構(gòu)絕緣柵場效應(yīng)晶體管)現(xiàn)在主要用于研究MODFET(調(diào)制摻雜場效應(yīng)晶體管)是使用通過在有源區(qū)分級摻雜形成的量子阱結(jié)構(gòu)的高電子遷移率晶體管。TFET ( 隧道場效應(yīng)晶體管)是以帶對帶隧道基的晶體管IGBT(IGBT高頻爐)是一種功率控制裝置。它與類雙極的主導電溝道的MOSFET的結(jié)構(gòu)，并常用于200-3000伏的漏源電壓工作范圍。功率MOSFET 仍然是1至200 V漏源電壓的器件。HEMT ( 高電子遷移率晶體管)，也稱為HFET(異質(zhì)結(jié)構(gòu)場效應(yīng)晶體管)，可以在諸如AlGaAs 的三元半導體中使用帶隙工程來制造。完全耗盡的寬帶隙材料形成柵極和主體之間的絕緣。東莞氮化鎵場效應(yīng)管命名

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