在化學(xué)、材料、制藥、微生物、細(xì)胞等實(shí)驗(yàn)室科研中，精密環(huán)控柜為各類實(shí)驗(yàn)提供了穩(wěn)定的環(huán)境條件，是科研工作順利開展的重要支撐。在化學(xué)實(shí)驗(yàn)中，一些化學(xué)反應(yīng)對溫度極為敏感，0.1℃的溫度偏差都可能改變反應(yīng)速率和產(chǎn)物純度。精密環(huán)控柜的高精密溫度控制，確保實(shí)驗(yàn)溫度穩(wěn)定，為化學(xué)反應(yīng)提供理想條件，保證實(shí)驗(yàn)結(jié)果的準(zhǔn)確性和可重復(fù)性。材料研究中，材料的性能測試需要嚴(yán)格控制環(huán)境溫濕度。例如，對新型半導(dǎo)體材料的性能檢測，環(huán)境濕度的變化可能影響材料的電學(xué)性能。精密環(huán)控柜的溫濕度控制，為材料性能測試提供穩(wěn)定環(huán)境，助力科研人員準(zhǔn)確評估材料性能。精密環(huán)控柜可滿足可實(shí)現(xiàn)潔凈度百級、十級、一級等不同潔凈度要求。航空航天溫濕度控制

在現(xiàn)代精密制造領(lǐng)域，三坐標(biāo)測量儀是無可替代的關(guān)鍵設(shè)備，廣泛應(yīng)用于模具、汽車零部件等復(fù)雜形狀工件的精密測量工作中。它憑借高精度的測量能力，為工業(yè)生產(chǎn)的質(zhì)量把控提供了支撐。然而，環(huán)境因素對其測量精度影響巨大。當(dāng)溫度不穩(wěn)定時(shí)，測量儀的花崗巖工作臺(tái)、坐標(biāo)軸導(dǎo)軌等關(guān)鍵部件會(huì)因熱脹冷縮產(chǎn)生熱變形。這種變形看似微小，卻足以導(dǎo)致測量空間的坐標(biāo)原點(diǎn)發(fā)生漂移，使得測量點(diǎn)的三維坐標(biāo)值出現(xiàn)不可忽視的誤差。而在濕度波動(dòng)時(shí)，潮濕空氣宛如無孔不入的 “幽靈”，悄然侵蝕儀器的電子線路板。這極易造成短路、信號干擾等嚴(yán)重問題，進(jìn)而致使測量數(shù)據(jù)出現(xiàn)跳變、丟失等異常情況。此類狀況不僅嚴(yán)重影響測量的準(zhǔn)確性與連續(xù)性，還會(huì)對整個(gè)生產(chǎn)流程造成連鎖反應(yīng)，阻礙相關(guān)產(chǎn)業(yè)的高質(zhì)量發(fā)展。定制溫濕度控制箱設(shè)備大小可定制，能匹配各種高精密設(shè)備型號，及操作空間要求，構(gòu)建完整環(huán)境體系，保障高精密設(shè)備正常運(yùn)行。

光學(xué)儀器的生產(chǎn)對環(huán)境的潔凈度、溫濕度有著極其嚴(yán)格的要求，精密環(huán)控柜成為保障光學(xué)儀器高質(zhì)量生產(chǎn)設(shè)備。在鏡頭研磨和鍍膜工藝中，微小的塵埃顆粒都可能在鏡頭表面留下劃痕或瑕疵，影響光線的透過和成像質(zhì)量。精密環(huán)控柜配備的高效潔凈過濾器，能夠?qū)⒖諝庵械膲m埃顆粒過濾至近乎零的水平，為鏡頭加工提供超潔凈的環(huán)境。同時(shí)，溫度的精確控制對于保證研磨盤和鏡頭材料的熱膨脹系數(shù)穩(wěn)定一致至關(guān)重要。溫度波動(dòng)可能導(dǎo)致研磨盤與鏡頭之間的相對尺寸發(fā)生變化，使研磨精度受到影響，導(dǎo)致鏡頭的曲率精度和光學(xué)性能不達(dá)標(biāo)。

激光干涉儀用于測量微小位移，精度可達(dá)納米級別。溫度波動(dòng)哪怕只有 1℃，由于儀器主體與測量目標(biāo)所處環(huán)境溫度不一致，二者熱脹冷縮程度不同，會(huì)造成測量基線的微妙變化，導(dǎo)致測量位移結(jié)果出現(xiàn)偏差，在高精度機(jī)械加工零件的尺寸檢測中，這種偏差可能使零件被誤判為不合格品，增加生產(chǎn)成本。高濕度環(huán)境下，水汽會(huì)干擾激光的傳播路徑，使激光發(fā)生散射，降低干涉條紋的對比度，影響測量人員對條紋移動(dòng)的精確判斷，進(jìn)而無法準(zhǔn)確獲取位移數(shù)據(jù)，給精密制造、航空航天等領(lǐng)域的科研與生產(chǎn)帶來極大困擾。根據(jù)高精密行業(yè)用戶的反饋，對產(chǎn)品進(jìn)行持續(xù)優(yōu)化，不斷提升設(shè)備的適用性和穩(wěn)定性。

光刻設(shè)備對溫濕度的要求也極高，光源發(fā)出的光線需經(jīng)過一系列復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)聚焦到硅片表面特定區(qū)域，以實(shí)現(xiàn)對光刻膠的曝光，將設(shè)計(jì)好的電路圖案印制上去。當(dāng)環(huán)境溫度出現(xiàn)極其微小的波動(dòng)，哪怕只是零點(diǎn)幾攝氏度的變化，光刻機(jī)內(nèi)部的精密光學(xué)元件就會(huì)因熱脹冷縮特性而產(chǎn)生細(xì)微的尺寸改變。這些光學(xué)元件包括鏡片、反射鏡等，它們的微小位移或形狀變化，會(huì)使得光路發(fā)生偏差。原本校準(zhǔn)、聚焦于硅片特定坐標(biāo)的光線，就可能因?yàn)楣饴返母淖兌x預(yù)定的曝光位置，出現(xiàn)曝光位置的漂移。精密環(huán)控設(shè)備為光刻機(jī)、激光干涉儀等精密測量、精密制造設(shè)備提供超高精度溫濕度、潔凈度的工作環(huán)境。離子束刻蝕機(jī)溫濕度預(yù)算

采用先進(jìn)的智能自控系統(tǒng)，根據(jù)監(jiān)測數(shù)據(jù)自動(dòng)調(diào)節(jié)環(huán)境參數(shù)，符合溫濕度波動(dòng)要求。航空航天溫濕度控制

在芯片這一高科技產(chǎn)品的復(fù)雜生產(chǎn)流程里，眾多環(huán)節(jié)對溫濕度的波動(dòng)展現(xiàn)出了近乎苛刻的精密度要求。光刻過程中，利用高精度的光刻設(shè)備，將預(yù)先設(shè)計(jì)好的復(fù)雜電路圖案轉(zhuǎn)移至硅片表面。溫度的穩(wěn)定性起著決定性作用，哪怕有零點(diǎn)幾攝氏度的微小波動(dòng)，都會(huì)使光刻膠內(nèi)部的化學(xué)反應(yīng)速率產(chǎn)生偏差。光刻膠作為一種對光敏感的高分子材料，其反應(yīng)速率的改變將直接作用于光刻成像效果，致使圖案邊緣模糊、線條粗細(xì)不均，進(jìn)而讓芯片上的線路出現(xiàn)偏差，甚至引發(fā)短路故障，讓前期投入的大量人力、物力和時(shí)間付諸東流。與此同時(shí)，濕度因素同樣不可小覷。光刻車間若濕度偏高，水汽極易滲透至光刻膠內(nèi)部，使其含水量上升，感光度隨之降低，如同給精密的 “光刻鏡頭” 蒙上一層霧靄，嚴(yán)重影響光刻精度，導(dǎo)致芯片良品率大打折扣，大幅增加生產(chǎn)成本。航空航天溫濕度控制