傳統(tǒng)的處理方法，比如，吸附法，電化學法，電凝法，生物法等，只能把污染物從一種物相轉(zhuǎn)化為另一種物相，不能使污染物得到透徹分解或無害化，而光催化氧化能夠把印染廢水中的有害物質(zhì)透徹分解為 H2O、 CO2 等有機小分子和其他無害物質(zhì)，消除了二次污染。

王成國采用納米級 TiO2 懸浮法光催化氧化處理直接耐曬翠藍染液（染料濃度 100mg/L， TiO2 用量 1000mg/L），當光照時間大于 200min 時，色度去除率達到 百分之93， TOC去除率達到 百分之50。羅潔、陳建山對色度 375、 pH值 5.35、 CODcr 595.16 mg/L的模擬墨綠色印染廢水采用光催化處理后脫色率達百分之90， CODcr 脫除率達 百分之80左右。

光催化氧化技術(shù)適合處理高濃度、氣量大、穩(wěn)定性強的且能吸收光子的有毒有害氣體的廢氣處理。嘉興光催化氧化什么品牌好

光催化氧化處理的臭氧催化材料是另一種重要材料。臭氧催化材料是在催化劑表面將光解部分185nm紫外燈產(chǎn)生的臭氧催化分解成氧氣，幾乎可以達到臭氧零排放；同時臭氧催化材料協(xié)同臭氧將VOCs分解成CO2和H2O。華鈦高科通過擁有**知識產(chǎn)權(quán)的原位燒結(jié)技術(shù)將臭氧催化劑負載到泡沫陶瓷或者蜂窩陶瓷上，產(chǎn)生較多的活性位，并且活性中心不容易脫落，高效催化分解臭氧和VOCs。臭氧催化材料能催化分解臭氧和VOCs廢氣，而自己不發(fā)生變化，具有長期活性。淮安光催化氧化技術(shù)紫外光催化氧化設(shè)備在低光強下速率與光強成線性關(guān)系。

光催化氧化的缺點：

(1)紫外光的吸收范圍較窄，光能利用率較低，其效率還會受催化劑性質(zhì)、紫外線波長和反應器的限制，短波紫外線(波長小于1700 A)比長波的效果好，但短波紫外光較難獲得。

(2)光催化需要解決透光度的問題，因為某些廢水(如印染廢水)中的一些懸浮物和較深的色度都不利于光線的透過，會影響光催化效果。

(3)目前使用的催化劑多為納米顆粒(太大時催化效果不好)，回收會較為困難，而且光照產(chǎn)生的電子一空穴對易復合而失活。

光催化氧化技術(shù)是在設(shè)備中添加納米級活性材料，在紫外光線的作用下，產(chǎn)生更為強烈的催化降解功能。納米活性材料光生空穴的氧化電位以標準氫電位為3.0V，比臭氧的2.07V和氯氣的1.36V高許多，具有很強的氧化性。在光照射下，活性材料能吸收相當于帶隙能量以下的光能，使其表面發(fā)生激勵而產(chǎn)生電子（e-）和空穴（h+），這些電子和空穴具有極強的還原和氧化能力，能與水或容存的氧反應，迅速產(chǎn)生氧化能力極強的·O2-（超級陰氧離子）和·OH（氫氧根自由基）。OH具有很高的氧化電位，是一種氧化基團，能氧化大多數(shù)的有機污染物中的電子，使原本不吸收光的物質(zhì)直接氧化分解。大多數(shù)揮發(fā)性的有機化合物在這種紫外光能和納米活性化氧化的共同作用下，能在2-3秒時間內(nèi)被充分降解，對揮發(fā)性有機廢氣污染物具有較高的去除效率。光催化設(shè)備常用資料為納米TiO2，其降解才能強。

紫外光催化氧化設(shè)備光強，有材料報道，紫外光催化氧化設(shè)備在低光強下速率與光強成線性關(guān)系，中等強度的光照下，速率與光強的平方根有線性關(guān)系。而光譜規(guī)模散布在250～410nm 的中壓弓燈， 其降解反應速率常數(shù)是其它光源的1.4 倍以上[10]。溶液的pH 值。溶液的pH 值能改動顆粒外表的電荷，然后改動顆粒在溶液中的渙散狀況。一般來說，光催化氧化設(shè)備跟著系統(tǒng)pH 值的增大，反響速率進步。但這也與被降解的有機物的結(jié)構(gòu)有關(guān)。在進步光催化活性方面， 由金屬或金屬氧化物與半導體組成的光催化劑研討很快。對金屬在光催化系統(tǒng)中的效果有兩種解說， 一是雙功用機理，既影響半導體顆粒外表的能級結(jié)構(gòu)（降低了帶隙能），又影響催化氧化和復原反響的進程；二是單功用機理，即只影響氧化和復原反響的進程。光催化氧化處理的臭氧催化材料是另一種重要材料。衢州光催化氧化費用

在催化劑作用下進行的光氧化反應叫光催化氧化。嘉興光催化氧化什么品牌好

光催化初始濃度對降解率的影響，污染物濃度和反響功率的聯(lián)系可以用Langmuir-Hinshelwood 模型，這適用于大多數(shù)的污染物， 包含乙醇、甲醛、家苯、三氯乙烯等。光催化氧化設(shè)備依據(jù)Lagmium-Hinsherwood動力學方程，氣固相光催化反響進程中，當反響物濃度很低時，光催化降解率與濃度呈正比，光催化降解表現(xiàn)為一級動力學方程；跟著反響物濃度添加，光催化氧化設(shè)備降解率略有所添加；當濃度到達某一值時，反響速率不再發(fā)生變化，只與活性方位的表面反響速率常數(shù)有關(guān)，反響速率為一常數(shù)，光催化降解表現(xiàn)為零級反響動力學。若反響物濃度過高，會導致催化劑失活。嘉興光催化氧化什么品牌好

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同時公司還與上海交通大學、浙江大學、山東大學等國內(nèi)外多家高校和科研院所保持著緊密的技術(shù)交流與多種形式的合作。公司擁有先進的生產(chǎn)設(shè)備，完備的生產(chǎn)工藝和設(shè)施齊全的實驗室。