【真空鍍膜改善外層膜表面硬度】： 減反膜一般外層選用MgF2,該層剖面是較為松散的柱狀結構，表面硬度不高，容易擦拭出道子。改善外層表面硬度的方法包括： 1. 在膜系設計允許的條件下，膜外層加10nm左右的二氧化硅膜層，二氧化硅的表面光滑度優(yōu)于氟化鎂（但二氧化硅表面耐磨度、硬度不如氟化鎂）。鍍膜后離子轟擊幾分鐘，牢固度效果會更好。（但表面會變粗） 2. 鏡片取出真空室后，放置在較為干燥潔凈的地方，防止鏡片快速吸潮，表面硬度降低。 真空鍍膜設備故障維修技巧有哪些？湖南超高真空鍍膜設備

【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之膜料點】： 膜料點不良也是鍍膜產品的一個常見問題，在日企、臺企把膜料點稱為“斑孔”。顧名思義，膜料點就是蒸鍍中，大顆粒膜料點隨著膜料蒸汽分子一起蒸鍍到了基片的表面。在基片表面形成點狀的突起，有時是個別點，嚴重時時成片的細點，大顆粒點甚至打傷基片表面。 改善對策： 1. 選擇雜質少的膜料 2. 對易飛濺的膜料選擇顆粒合適的膜料 3. 膜料在鍍前用網篩篩一下 4. 精心預熔 5. 用一把電子搶鍍制幾種膜料時，防止坩堝轉動中膜料參雜及擋板掉下膜料渣造成膜料污染。 6. 盡Zui大可能使用蒸發(fā)舟、坩堝干凈。 7. 選擇合適的蒸發(fā)速率及速率曲線的平滑。 8. 膜料去潮，將待用膜料用培養(yǎng)皿盛放在真空室干燥。 山西線路板真空鍍膜設備真空鍍膜設備是什么？

【真空鍍膜磁控濺射法】： 濺射鍍膜Zui初出現的是簡單的直流二極濺射，它的優(yōu)點是裝置簡單，但是直流二極濺射沉積速率低；為了保持自持放電，不能在低氣壓(<0．1 Pa)下進行；不能濺射絕緣材料等缺點限制了其應用。 磁控濺射是由二極濺射基礎上發(fā)展而來，在靶材表面建立與電場正交磁場，解決了二極濺射沉積速率低，等離子體離化率低等問題，成為目前鍍膜工業(yè)主要方法之一。磁控濺射與其它鍍膜技術相比具有如下特點：可制備成靶的材料廣，幾乎所有金屬，合金和陶瓷材料都可以制成靶材；在適當條件下多元靶材共濺射方式，可沉積配比精確恒定的合金；在濺射的放電氣氛中加入氧、氮或其它活性氣體，可沉積形成靶材物質與氣體分子的化合物薄膜；通過精確地控制濺射鍍膜過程，容易獲得均勻的高精度的膜厚；通過離子濺射靶材料物質由固態(tài)直接轉變?yōu)榈入x子態(tài)，濺射靶的安裝不受限制，適合于大容積鍍膜室多靶布置設計；濺射鍍膜速度快，膜層致密，附著性好等特點，很適合于大批量，高效率工業(yè)生產。近年來磁控濺射技術發(fā)展很快，具有代表性的方法有射頻濺射、反應磁控濺射、非平衡磁控濺射、脈沖磁控濺射、高速濺射等。

【真空蒸鍍的歷史】：1857年Michael FaradayZui早提出基本原理，而后、1930年代由于油擴散式真空泵實用化、蒸鍍主要用于制作鏡片防反射膜。第二次世界大戰(zhàn)時，其他的光學機器對材料的需求提高，真空蒸鍍也因此快速發(fā)展。 【真空蒸鍍的原理】：在真空狀態(tài)下，加熱蒸發(fā)容器中的靶材，使其原子或分子逸出，沉積在目標物體表面，形成固態(tài)薄膜。依蒸鍍材料、基板的種類可分為:抵抗加熱、電子束、高周波 誘導、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有鋁、亞鉛、金、銀、白金、鎳等金屬材料與可產生光學特性薄膜的材料，主要有使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2 等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外，樹脂與玻璃也可以使用、近年來連紙也變成可蒸鍍。 【蒸發(fā)鍍膜的優(yōu)缺點】： 優(yōu)點：設備簡單、容易操作；成膜的速率快，效率高。 缺點：薄膜的厚度均勻性不易控制，蒸發(fā)容器有污染的隱患，工藝重復性不好，附著力不高。 真空鍍膜設備真空度多少？

【真空鍍膜真空的基本概念】： 真空的劃分： 粗真空 760Torr~10E&3Torr 高真空 10E&4Torr~10E&8Torr 超高真空 10E&9~10E&12 Torr 極高真空 <10E&12Torr 流導（導通量）：表示真空管道通過氣體的能力，單位為升/秒（L/S）。一般情況下，管道越短，直徑越大，表面越光滑，越直的管道流導也越大。 流量：單位時間內流過任意截面的氣體量，單位為Torr·L/s或Pa·L/s。 抽氣速率：在一定的壓強和溫度下，單位時間內由泵進氣口處抽走的氣體稱為抽氣速率，簡稱抽速。單位一般為L/S或m3/hr或CFM。 極限真空：真空容器經充分抽氣后，穩(wěn)定在某一真空度，此真空度稱為極限真空。真空鍍膜設備常見故障及解決方法。山東科潤真空鍍膜設備廠

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【真空鍍膜設備的分類】： 這個問題如果在十年之前，其實是很容易回答的，就是兩個大類，物理沉積設備和化學沉積設備?，F在這樣回答也是沒錯的，但現在再這樣回答就沒辦法把事情說清楚了，所以從應用領域上可以分成以下幾類： 傳統光學器件（鏡片，濾光片）所用的鍍膜設備：單腔體或多腔體蒸發(fā)式鍍膜設備，濺射式鍍膜設備。 新材料領域的柔性設備：卷對卷柔性鍍膜設備。 光通訊行業(yè)：離子束濺射鍍膜設備。 半導體及相似工藝：化學氣相沉積設備。 功能膜：多弧離子鍍設備，濺射設備，蒸發(fā)設備 玻璃工藝：濺射式連續(xù)線 其余的就得歸到“工藝定制設備”這個范圍里面了，例如車燈鍍膜設備，太陽能的共蒸發(fā)設備，光纖鍍膜設備，太陽能管設備等等 湖南超高真空鍍膜設備

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