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四川光馳2350光學(xué)鍍膜機(jī)靶材

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-10-13

【光學(xué)真空鍍膜機(jī)之電子蒸鍍】 電子qiang蒸鍍系統(tǒng)的原理是利用電子qiang所射出之電子束轟擊待鍍材料,將高能電子射束之動(dòng)能轉(zhuǎn)為熔化待鍍材料之熱能,其擁有較佳之熱轉(zhuǎn)換效率,同時(shí)也可得到較高的鍍膜速率,而且利用電流大小控制熱電子數(shù)目也可精密調(diào)控其蒸發(fā)速率。電子束的來(lái)源主要由電子qiang系統(tǒng)提供,電子qiang的操作原理類似于陰極射線管,它的電源輸出功率可從1kw到1000kw,使得電子束的動(dòng)能達(dá)到30kev 以上。當(dāng)陰極燈絲被施以低壓電流而達(dá)到白熱化時(shí),電子將從燈絲表面釋出而向四方發(fā)射,且隨燈射溫度提高而增加其釋放量,此為熱電子。 一般低功率電子qiang之電子束的折射方向是靠永久磁鐵的磁場(chǎng),而高功率電子qiang則需使用電磁鐵。電子束加速后可直接撞擊在薄膜材料上使之蒸發(fā),但蒸發(fā)之原子或分子會(huì)污染電子源,因此通常將電子源藏在裝薄膜材料之qiang座底下,而利用強(qiáng)力磁場(chǎng)將電子束偏向180°或270°。因電子qiang蒸鍍法,對(duì)某些精密光學(xué)元件的薄膜品質(zhì)要求而言仍有不足,其膜層微觀結(jié)構(gòu)呈現(xiàn)柱狀形態(tài),孔隙多,裝填密度低,造成較大的光學(xué)吸收,且耐潮性、硬度及附著度都較差。 錦成國(guó)泰光學(xué)鍍膜機(jī)怎么樣?四川光馳2350光學(xué)鍍膜機(jī)靶材

【光學(xué)鍍膜之何為物理蒸鍍】物理蒸鍍就是把物質(zhì)加熱揮發(fā),然后將其蒸氣沉積在預(yù)定的基材上。由于蒸發(fā)源須加熱揮發(fā),又是在真空中進(jìn)行,故亦稱為熱蒸鍍或真空蒸鍍。 其可分為三個(gè)步驟 (1)凝態(tài)的物質(zhì)被加熱揮發(fā)成汽相 (2)蒸汽在具空中移動(dòng)一段距離至基材 (3)蒸汽在基材上冷卻凝結(jié)成薄膜 膜厚的量測(cè)方法有哪些呢, 大致上可分為原位量測(cè)、離位量測(cè)兩類:原位星測(cè)系指鍍膜進(jìn)行中量測(cè),普遍使用在物理qi相沉積,如微天平、光學(xué)、電阻量測(cè)。 離位量測(cè)系指鍍膜完成后量測(cè),對(duì)電鍍膜的行使較為普遍,具有了解電鍍效率的目的,如質(zhì)量、剖面計(jì)、掃描式電子顯微鏡。 江蘇光學(xué)鍍膜機(jī)高壓變壓器光學(xué)鍍膜機(jī)的產(chǎn)業(yè)集群。

【光學(xué)鍍膜之反射膜】反射膜一般可分為兩類,一類是金屬反射膜,一類是全電介質(zhì)反射膜。此外,還有將兩者結(jié)合的金屬電介質(zhì)反射膜,功能是增加光學(xué)表面的反射率。 一般金屬都具有較大的消光系數(shù)。當(dāng)光束由空氣入射到金屬表面時(shí),進(jìn)入金屬內(nèi)的光振幅迅速衰減,使得進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能相應(yīng)減少,而反射光能增加。消光系數(shù)越大,光振幅衰減越迅速,進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能越少,反射率越高。人們總是選擇消光系數(shù)較大,光學(xué)性質(zhì)較穩(wěn)定的金屬作為金屬膜材料。在紫外區(qū)常用的金屬薄材料是鋁,在可見光區(qū)常用鋁和銀,在紅外區(qū)常用金、銀和銅,此外,鉻和鉑也常作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能,所以必須用電介質(zhì)膜加以保護(hù)。常用的保護(hù)膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。 金屬反射膜的優(yōu)點(diǎn)是制備工藝簡(jiǎn)單,工作的波長(zhǎng)范圍寬;缺點(diǎn)是光損大,反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進(jìn)一步提高,可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層,組成金屬電介質(zhì)反射膜。需要指出的是,金屬電介質(zhì)射膜增加了某一波長(zhǎng)(或者某一波區(qū))的反射率,卻破壞了金屬膜中性反射的特點(diǎn)。

【光學(xué)鍍膜之什么是蒸發(fā)鍍】通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱為蒸發(fā)鍍膜。蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源,待鍍工件,如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后,加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。 薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時(shí)(或決定于裝料量),并與源和基片的距離有關(guān)。對(duì)于大面積鍍膜,常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程,以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動(dòng)能約為0.1~0.2電子伏。 光學(xué)鍍膜機(jī)的升級(jí)改造。

【常見的光學(xué)鍍膜材料】常見的光學(xué)鍍膜材料有以下幾種: 1、氟化鎂材料特點(diǎn):無(wú)se四方晶系粉末,純度高,用其制備光學(xué)鍍膜可提高透過率,不出崩點(diǎn)。 2、二氧化硅材料特點(diǎn):無(wú)se透明晶體,熔點(diǎn)高,硬度大,化學(xué)穩(wěn)定性好。純度高,用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜,蒸發(fā)狀態(tài)好,不出現(xiàn)崩點(diǎn)。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。 3、氧化鋯材料特點(diǎn) 白se重質(zhì)結(jié)晶態(tài),具有高的折射率和耐高溫性能,化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,純度高,用其制備高質(zhì)量氧化鋯鍍膜,不出崩點(diǎn) 光學(xué)鍍膜機(jī)參數(shù)怎么調(diào)?江蘇光學(xué)鍍膜機(jī)高壓變壓器

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【光學(xué)鍍膜機(jī)的保養(yǎng)】光學(xué)鍍膜機(jī)的保養(yǎng) (一)定期更換擴(kuò)散泵油 擴(kuò)散泵油使用一段時(shí)間,約二個(gè)月(兩班),因在長(zhǎng)期高溫環(huán)境,雖然較高真空時(shí)才啟動(dòng)擴(kuò)散泵,但仍殘留氧氣及其它成份使之與擴(kuò)散泵油起反應(yīng),擴(kuò)散泵油在高溫下也可能產(chǎn)生裂解,使其品質(zhì)下降,而延長(zhǎng)抽氣時(shí)間。在我們認(rèn)為時(shí)間延長(zhǎng)得太多時(shí),應(yīng)予更換。 (二)真空泵 機(jī)械泵油、維持泵油在使用二個(gè)月,油質(zhì)會(huì)發(fā)生變化。因油可能抽入水分、雜質(zhì)及其它原因,而使用油粘性變差,真空下降,故需要更換。如為新設(shè)備,在使用頭半個(gè)月即應(yīng)更換,因在磨合期,油含磨合鐵粉較多,會(huì)加劇磨損。 (三)清潔衛(wèi)生 定期將設(shè)備及其周圍環(huán)境衛(wèi)生搞好,常保持設(shè)備內(nèi)外清潔,將設(shè)備周圍環(huán)境整理有條,有一個(gè)好的工作環(huán)境,以保安全。 四川光馳2350光學(xué)鍍膜機(jī)靶材

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