在深亞微米(0.15μm及以下)集成電路制造中，后段工藝日趨重要，為降低阻容遲滯(RCDelay)，保證信號(hào)傳輸，減小功耗，有必要對(duì)后段工藝進(jìn)行改進(jìn)，Via阻擋層MOCVD(Metal-organicChemicalVaporDeposition，金屬有機(jī)物化學(xué)氣相淀積)TiN是其中重要研究課題之一。本論文基于薄膜電阻的理論分析，從厚度、雜質(zhì)濃度和晶體結(jié)構(gòu)三大薄膜電阻影響因素出發(fā)系統(tǒng)研究MOCVDTiN材料在平面薄膜上和真實(shí)結(jié)構(gòu)中的各種性質(zhì)，重點(diǎn)是等離子體處理(PlasmaTreatment，PT)下的晶體生長(zhǎng)，制備循環(huán)次數(shù)的選擇對(duì)薄膜雜質(zhì)濃度、晶體結(jié)構(gòu)及電阻性能的影響，不同工藝薄膜在真實(shí)結(jié)構(gòu)中物理形貌、晶體結(jié)構(gòu)和電阻性能的表現(xiàn)和規(guī)律，超薄TiN薄膜(＜5nm)的實(shí)際應(yīng)用等。俄歇能譜、透射電子顯微鏡和方塊電阻測(cè)試證明PT作用下雜質(zhì)濃度降低，同時(shí)晶體生長(zhǎng)，薄膜致密化而電阻率降低。PT具有飽和時(shí)間和深度，較厚薄膜需多循環(huán)制備以充分處理，發(fā)現(xiàn)薄膜厚度較小時(shí)(本實(shí)驗(yàn)條件下為4nm)，增加循環(huán)次數(shù)雖然進(jìn)一步降低了雜質(zhì)濃度，但會(huì)引入界面而使薄膜電阻率增加。通過(guò)TEM觀測(cè)發(fā)現(xiàn)由于等離子體運(yùn)動(dòng)的各向異性，真實(shí)結(jié)構(gòu)中PT效率在側(cè)壁遠(yuǎn)低于頂部和底部，這導(dǎo)致側(cè)壁薄膜在PT后更厚。TiN熔點(diǎn)為2950℃，密度為5.43-5.44g/cm3，莫氏硬度8-9，抗熱沖擊性好。蘇州加硬氮化鈦價(jià)格

50. 氮化鈦(TiN)薄膜以其獨(dú)特的性能不僅各類商品的表面裝飾上有著適合的應(yīng)用,而且在機(jī)械工業(yè)也展示了巨大的應(yīng)用前景。本文利用大功率偏壓電源的多弧離子鍍技術(shù),采用工具鍍工藝,在Ti-6Al-4V合金材料表面制備了TiN薄膜。X射線光電子能譜檢測(cè)證明了所制備的薄膜確為T(mén)iN。機(jī)械性能測(cè)試表明:具有TiN涂層樣品的顯微硬度較為高于Ti合金基材,同時(shí)耐磨性能也明顯得到改善。既可以大幅提高機(jī)械產(chǎn)品的表面硬度，提高其耐磨性、降低摩擦系數(shù)，進(jìn)而提高使用壽命。鎮(zhèn)江涂層氮化鈦氮化鈦涂層具有令人滿意的金黃色，作為代金裝飾材料具有很好的仿金、裝飾價(jià)值并有防腐、延長(zhǎng)工藝品的壽命。

1.氮化鈦(TiN)具有典型的NaCl型結(jié)構(gòu)，屬面心立方點(diǎn)陣，晶格常數(shù)a=0.4241nm，其中鈦原子位于面心立方的角頂。TiN是非化學(xué)計(jì)量化合物其穩(wěn)定的組成范圍為T(mén)iN0.37-TiN1.16，氮的含量可以在一定的范圍內(nèi)變化而不引起TiN結(jié)構(gòu)的變化。TiN粉末一般呈黃褐色超細(xì)TiN粉末呈黑色，而TiN晶體呈金黃色。TiN熔點(diǎn)為2950℃，密度為5.43-5.44g/cm3，莫氏硬度8-9，抗熱沖擊性好。氫化鈦的理化性質(zhì)由氫元素的含量來(lái)決定，當(dāng)氨元素含量減少時(shí)氮化鈦的晶格參數(shù)反而增大，硬度也會(huì)有顯微的增大，但氮化鈦的抗震性隨之降低。TiN熔點(diǎn)比大多數(shù)過(guò)渡金屬氮化物的熔點(diǎn)高，而密度卻比大多數(shù)金屬氨化物低，因此是一種很有特色的耐熱材料。

表面涂層技術(shù)已成為提高材料抗疲勞和抗磨損性能的重要手段。許多零部件,例如刀具、齒輪和軸承等,通過(guò)表面涂層,改善接觸性能。但由于涂層制造過(guò)程中不可避免的缺陷以及涂層基體之間彈性參數(shù)不連續(xù)性,在接觸應(yīng)力作用下涂層結(jié)構(gòu)易產(chǎn)生裂紋,隨著裂紋的擴(kuò)展,引起涂層的剝落而造成零件的失效。為滿足涂層結(jié)構(gòu)在工程應(yīng)用中的可靠性要求,需要研究在摩擦接觸條件下涂層結(jié)構(gòu)的失效機(jī)理。本文主要完成了以下工作:1利用等離子輔助化學(xué)氣相沉積技術(shù)制備厚度為10μm的氮化鈦涂層,其基體為高速鋼。利用顯微硬度儀測(cè)量得到涂層的硬度約為2000HV4000HV,利用納米壓痕儀測(cè)量得到涂層的彈性模量和斷裂韌度分別為590GPa和3.30MPa·1/2m。劃痕法本質(zhì)上屬于摩擦接觸問(wèn)題,可通過(guò)掃描電鏡對(duì)涂層劃痕表面進(jìn)行觀察與分析,結(jié)果表明在涂層表面產(chǎn)生了平均間距約為5.1μm弧形裂紋,同時(shí)測(cè)得涂層表面的摩擦系數(shù)約為0.25。DLC涂層相對(duì)光滑，粗糙度Ra為0.10μm,而TiN涂層Ra為0.16μm。

50.本實(shí)驗(yàn)應(yīng)用離子束輔助沉積技術(shù)在磁性附著體銜鐵鐵鉻鉬合金表面制備氮化鈦納米膜，希望通過(guò)氮化鈦納米膜優(yōu)異的理化性能，增強(qiáng)磁性附著體的耐蝕性和耐磨性，從而改進(jìn)磁性附著體的性能，并且對(duì)鐵鉻鉬合金材料本體特性沒(méi)有影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：第四軍醫(yī)大學(xué)碩土學(xué)垃論文1．離子束輔助沉積技術(shù)可以在鐵鉻銅軟磁合金表面獲得非常致密與基體結(jié)合力極強(qiáng)的氮化鈦納米膜，膜與基體界面的結(jié)合力在65N—75N之間，完全能夠滿足實(shí)驗(yàn)及臨床長(zhǎng)期應(yīng)用。2．鐵鉻鑰合金表面鍍氮化鈦納米膜處理前后磁性附著體磁力數(shù)值無(wú)明顯改變，方差分析統(tǒng)計(jì)學(xué)處理，p勸．05，無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)差別。即鍍膜后磁固位力無(wú)改變。對(duì)磁性附著體的銜鐵軟磁合金進(jìn)行鍍膜處理，來(lái)研究改進(jìn)磁性附著體性能是可行的c3．由自腐蝕電位所反映的腐蝕傾向；極化曲線反映的耐腐蝕性能；極化電阻、腐蝕電流密度反映的腐蝕速度等電化學(xué)指標(biāo)均表明經(jīng)IBAD制備氮化鈦納米膜的鐵鉻鋁合金較未做表面鍍膜處理的合金耐腐蝕性高。4．制備氮化鈦納米膜組顯微硬度值明顯高于未鍍膜組有明顯性差異，氮化鈦納米膜能夠明顯提高鐵鉻用合金的顯微硬度，增強(qiáng)其耐磨性能。TiN還具有類似貴金屬的電子屬性，自身對(duì)ORR表現(xiàn)出活躍的催化性能和良好的穩(wěn)定性。煙臺(tái)鍍黑氮化鈦加工中心

氮化鈦還可以作為金色涂料應(yīng)用于首飾行業(yè);可以作為替代WC的潛在材料，使材料的應(yīng)用成本大幅度降低。蘇州加硬氮化鈦價(jià)格

TiN 薄膜用于高溫大氣穩(wěn)定太陽(yáng)能吸收層的研究開(kāi)始于1984年，較好近(Ti，A1)N 涂層也被建議應(yīng)用于太陽(yáng)能選擇吸收層和太陽(yáng)能控制窗口，這主要是因?yàn)?Ti，AI)N 涂層耐高溫的特點(diǎn)。關(guān)于TiN和TiA1N 涂層在太陽(yáng)能領(lǐng)域的應(yīng)用。目前仍處在嘗試和探索之中。

用TiN 薄膜涂覆在IF—MS2上?？梢蕴岣叨f化硫潤(rùn)滑劑的耐磨性。用TIN 薄膜涂覆在IF—MS2上，因?yàn)樗哂械母哂捕?、高熔點(diǎn)、高磨損抵抗力，優(yōu)良的化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，因此可以在提高飛機(jī)和航天器的發(fā)動(dòng)機(jī)等零件的潤(rùn)滑性能的同時(shí)，又可以保證航天零件的耐高溫和耐摩擦性能。 蘇州加硬氮化鈦價(jià)格

蘇州華銳杰新材料科技有限公司位于蘇州市相城區(qū)陽(yáng)澄湖鎮(zhèn)啟南路99號(hào)(蘇州東方順達(dá)物流有限公司1號(hào)廠房5樓509室)，擁有一支專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)。在華銳杰近多年發(fā)展歷史，公司旗下現(xiàn)有品牌華銳杰等。我公司擁有強(qiáng)大的技術(shù)實(shí)力，多年來(lái)一直專注于主要將此類薄膜材料應(yīng)用已醫(yī)療器械手術(shù)工具、汽車(chē)發(fā)動(dòng)機(jī)零部件等產(chǎn)品，為此類產(chǎn)品表面制備一層具有高硬度、耐磨、耐腐蝕的薄膜材料，提高產(chǎn)品的使用壽命。提供此類薄膜材料的研發(fā)、設(shè)計(jì)和銷(xiāo)售的，并能實(shí)現(xiàn)交鑰匙工程。的發(fā)展和創(chuàng)新，打造高指標(biāo)產(chǎn)品和服務(wù)。華銳杰始終以質(zhì)量為發(fā)展，把顧客的滿意作為公司發(fā)展的動(dòng)力，致力于為顧客帶來(lái)***的類金剛石（DLC），氮化鈦，氮化鉻。