UV納米壓印光刻系統(tǒng)

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)

■高精度對準臺

■自動楔形誤差補償機制

■電動和程序控制的曝光間隙

■支持***的UV-LED技術(shù)

■**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA：自動化的全場納米壓印解決方案，適用于第3代基材

■體積驗證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度

■專有的SmartNIL®技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù)

■集成式壓印，UV固化，脫模和工作印模制作

■盒帶間自動處理以及半自動研發(fā)模式

■適用于所有市售壓印材料的開放平臺

岱美儀器代理的SmartNIL是一項關(guān)鍵的啟用技術(shù)，可用于顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中的許多新創(chuàng)新。山東納米壓印值得買

    納米壓印微影技術(shù)可望優(yōu)先導(dǎo)入LCD面板領(lǐng)域原本計劃應(yīng)用在半導(dǎo)體生產(chǎn)制程的納米壓印微影技術(shù)(Nano-ImpLithography；NIL)，現(xiàn)將率先應(yīng)用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術(shù)。據(jù)ETNews報導(dǎo)，南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組，未確認NIL設(shè)備實際圖樣形成能力，直接參訪海外NIL設(shè)備廠。該制程研發(fā)小組透露，若引進相關(guān)設(shè)備，將可提升面板性能。并已展開具體供貨協(xié)商。NIL是以刻印圖樣的壓印機，像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后，再以壓印機接觸施加壓力，印出面板圖樣。之后再經(jīng)過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣，不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程，但省落偏光膜貼附制程，可維持同樣的生產(chǎn)成本。偏光膜會吸收部分光線降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣，將不會發(fā)生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高，因配線較多，較難確保開口率(ApertureRatio)。山東納米壓印美元價NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的相當有成本效益的方法。

EVG ® 770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)

分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù)，可進行有效的母版制作

EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進行直接圖案化。這種方法允許從**

大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合，分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

EVG770的主要功能包括精確的對準功能，完整的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。

NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的相當有成本效益的方法，因為它不受光學(xué)光刻所需的復(fù)雜光學(xué)器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供比較好圖案保真度nm）結(jié)構(gòu)。

EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術(shù)，可提供功能強大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間。

新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG提供不同的***積壓印系統(tǒng)，大面積壓印機，微透鏡成型設(shè)備以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。

    它為晶圓級光學(xué)元件開發(fā)、原型設(shè)計和制造提供了一種獨特的方法，可以方便地接觸***研發(fā)技術(shù)與材料。晶圓級納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術(shù)確保在如3D感應(yīng)的應(yīng)用中使用小尺寸的高 分辨率光學(xué)傳感器供應(yīng)鏈合作推動晶圓級光學(xué)元件應(yīng)用要在下一代光學(xué)傳感器的大眾化市場中推廣晶圓級生產(chǎn)，先進的粘合劑與抗蝕材料發(fā)揮著不可取代的作用。開發(fā)先進的光學(xué)材料，需要充分地研究化學(xué)、機械與光學(xué)特性，以及已被證實的大規(guī)模生產(chǎn)（HVM）的可擴展性。擁有在NIL圖形壓印和抗蝕工藝方面的材料兼容性，以及自動化模制和脫模的專業(yè)知識，才能在已驗證的大規(guī)模生產(chǎn)中，以**小的形狀因子達到晶圓級光學(xué)元件的比較好性能。材料供應(yīng)商與加工設(shè)備制造商之間的密切合作，促成了工藝流程的研發(fā)與改善，確保晶圓級光學(xué)元件的高質(zhì)量和制造的可靠性。EVG和DELO的合作將支持雙方改善工藝流程與產(chǎn)品，并增強雙方的專業(yè)技能，從而適應(yīng)當前與未來市場的要求。雙方的合作提供了成熟的材料與專業(yè)的工藝技術(shù)，并將加快新產(chǎn)品設(shè)計與原型制造的速度，為雙方的客戶保駕護航。“NILPhotonics解決方案支援中心的獨特之處是：它解決了行業(yè)內(nèi)部需要用更短時間研發(fā)產(chǎn)品的需求，同時保障比較高的保密性。SmartNIL集成多次使用的軟標記處理功能，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢，同時保留可擴展性和易于維護的特點。河北納米壓印值得買

EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)，擁有多年技術(shù)，掌握了NIL，并已在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量生產(chǎn)。山東納米壓印值得買

納米壓印應(yīng)用二：面板尺寸的大面積納米壓印

EVG專有的且經(jīng)過大量證明的SmartNIL技術(shù)的***進展，已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為Gen 3（550 mm x 650 mm）的基板上實現(xiàn)。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用，至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟、高 效的方法，因為它不受光學(xué)系統(tǒng)的限制，并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。

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岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位。公司業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)等，價格合理，品質(zhì)有保證。公司注重以質(zhì)量為中心，以服務(wù)為理念，秉持誠信為本的理念，打造儀器儀表良好品牌。在社會各界的鼎力支持下，持續(xù)創(chuàng)新，不斷鑄造***服務(wù)體驗，為客戶成功提供堅實有力的支持。