備用光源：
LAMP-TH1-5PAK：F10、F20、F30、F40、F50、和 F60 系統(tǒng)的非紫外光源。 5個/盒。1200 小時平均無故障。
LAMP-TH：F42F42 系統(tǒng)的光源。 1000 小時平均無故障。
LAMP-THF60：F60 系統(tǒng)的光源。 1000 小時平均無故障。
LAMP-THF80：F80 系統(tǒng)的光源。 1000 小時平均無故障。
LAMP-D2-L10290：L10290 氘光源。 2007年到2014年F20-UV的使用者。
LAMP-TH-L10290：L10290 鎢鹵素光源。 2007年到2014年F20-UV的使用者。
LAMP-D2-***T2：***T2光源需更換氘燈, 而鹵素?zé)艄庠葱韪鼡Q使用LAMP-TH1-5PAK. 測量方式: 紅外干涉(非接觸式)。官方授權(quán)分銷膜厚儀有哪些應(yīng)用
F54自動化薄膜測繪Filmetrics F54 系列的產(chǎn)品能以一個電動R-Theta 平臺自動移動到選定的測量點(diǎn)以每秒測繪兩個點(diǎn)的速度快速的測繪薄膜厚度, 樣品直徑達(dá)450毫米
可選擇數(shù)十種內(nèi)建之同心圓,矩形,或線性圖案模式,或自行建立無數(shù)量限制之測量點(diǎn).*需具備基本電腦技能的任何人可在數(shù)分鐘內(nèi)自行建立配方
F54 自動化薄膜測繪只需聯(lián)結(jié)設(shè)備到您運(yùn)行Windows?系統(tǒng)計(jì)算機(jī)的USB端口, 可在幾分鐘輕松設(shè)置
不同的型號主要是由厚度和波長范圍作為區(qū)別。通常較薄的膜需要較短波長作測量(如F54-UV) 用來測量較薄的膜,而較長的波長可以用來測量更厚，更粗糙，或更不透明的薄膜 反射率膜厚儀國內(nèi)用戶一鍵搞定的薄膜厚度和折射率臺式測量系統(tǒng)。 測量 1nm 到 13mm 的單層薄膜或多層薄膜堆。
厚度標(biāo)準(zhǔn)：
所有 Filmetrics 厚度標(biāo)準(zhǔn)都是得到驗(yàn)證可追溯的 NIST 標(biāo)準(zhǔn)。
S-Custom-NIST：在客戶提供的樣品上定制可追溯的 NIST 厚度校準(zhǔn)。
TS-Focus-SiO2-4-3100SiO2-on-Si ：厚度標(biāo)準(zhǔn)，外加調(diào)焦區(qū)和單晶硅基準(zhǔn)，厚度大約 3100A，4" 晶圓。
TS-Focus-SiO2-4-10000SiO2-on-Si ：厚度標(biāo)準(zhǔn)，外加調(diào)焦區(qū)和單晶硅基準(zhǔn)，厚度大約 10000A，4" 晶圓。
TS-Hardcoat-4μm：丙烯酸塑料硬涂層厚度標(biāo)準(zhǔn)，厚度大約 4um，直徑 2"。
TS-Hardcoat-Trans：背面透明的硬涂層，可用于透射測量。
TS-Parylene-4um：丙烯酸塑料上的聚對二甲苯厚度標(biāo)準(zhǔn)，厚度大約 4um ，直徑2"。
TS-Parylene-8um：硅基上的聚對二甲苯厚度標(biāo)準(zhǔn)，厚度大約 8um，23mm x 23mm。
TS-SiO2-4-7200：硅基上的二氧化硅厚度標(biāo)準(zhǔn)，厚度大約 7200A，4" 晶圓。
TS-SiO2-4-7200-NIST：可追溯的 NIST SiO2-4-7200 厚度標(biāo)準(zhǔn)。
TS-SiO2-6-Multi：多厚度硅基上的二氧化硅標(biāo)準(zhǔn): 125埃米，250埃米，500埃米，1000埃米，5000埃米，和 10000埃米 (+/-10%誤差)，6英寸晶圓。TS-SS3-SiO2-8000：專為SS-3樣品平臺設(shè)計(jì)之二氧化硅厚度標(biāo)準(zhǔn)片,厚度大約為 8000A。
非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在, 在兩級之間是部分結(jié)晶硅。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅。
非晶硅和多晶硅的光學(xué)常數(shù)(n和k)對不同沉積條件是獨(dú)特的，必須有精確的厚度測量。 測量厚度時還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風(fēng)化。
Filmetrics 設(shè)備提供的復(fù)雜的測量程序同時測量和輸出每個要求的硅薄膜參數(shù)， 并且“一鍵”出結(jié)果。
測量范例多晶硅被***用于以硅為基礎(chǔ)的電子設(shè)備中。這些設(shè)備的效率取決于薄膜的光學(xué)和結(jié)構(gòu)特性。隨著沉積和退火條件的改變，這些特性隨之改變，所以準(zhǔn)確地測量這些參數(shù)非常重要。監(jiān)控晶圓硅基底和多晶硅之間，加入二氧化硅層，以增加光學(xué)對比，其薄膜厚度和光學(xué)特性均可測得。F20可以很容易地測量多晶硅薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)，以及二氧化硅夾層厚度。Bruggeman光學(xué)模型被用來測量多晶硅薄膜光學(xué)特性。
采用Michaelson干涉方法，紅外波段的激光能更好的穿透被測物體，準(zhǔn)確得到測試結(jié)果。
自動厚度測量系統(tǒng)幾乎任何形狀的樣品厚度和折射率的自動測繪。人工加載或機(jī)器人加載均可。
在線厚度測量系統(tǒng)監(jiān)測控制生產(chǎn)過程中移動薄膜厚度。高達(dá)100 Hz的采樣率可以在多個測量位置得到。
附件Filmetrics 提供各種附件以滿足您的應(yīng)用需要。
F20 系列世界上****的臺式薄膜厚度測量系統(tǒng)只需按下一個按鈕，您在不到一秒鐘的同時測量厚度和折射率。設(shè)置同樣簡單, 只需插上設(shè)備到您運(yùn)行Windows?系統(tǒng)計(jì)算機(jī)的USB端口, 并連接樣品平臺 , F20已在世界各地有成千上萬的應(yīng)用被使用. 事實(shí)上，我們每天從我們的客戶學(xué)習(xí)更多的應(yīng)用.
選擇您的F20主要取決於您需要測量的薄膜的厚度（確定所需的波長范圍）
基板材料: 如果薄膜位于粗糙基板 (大多數(shù)金屬) 上的話，一般不能測量薄膜的折射率。測厚儀膜厚儀推薦產(chǎn)品F20-EXR測厚范圍：15nm - 250μm；波長：380-1700nm。官方授權(quán)分銷膜厚儀有哪些應(yīng)用
隨著現(xiàn)在科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，儀器儀表行業(yè)發(fā)生了突飛猛進(jìn)的發(fā)展，再加上當(dāng)前計(jì)算機(jī)技術(shù)、網(wǎng)絡(luò)技術(shù)的進(jìn)步和發(fā)展，組建網(wǎng)絡(luò)而構(gòu)成實(shí)用的監(jiān)控系統(tǒng)，可以提高生產(chǎn)效率和共享信息資源方向發(fā)展。當(dāng)前儀器儀表行業(yè)產(chǎn)品發(fā)展呈現(xiàn)微型化、多功能化、智能化、網(wǎng)絡(luò)化四大發(fā)展趨勢。隨著網(wǎng)絡(luò)消費(fèi)的不斷遞增，而互聯(lián)網(wǎng)的的商業(yè)價值不斷被挖掘出來，呈爆發(fā)式增長，傳統(tǒng)的營銷模式將逐步被取代。有限責(zé)任公司企業(yè)要抓住機(jī)遇，融入到互聯(lián)網(wǎng)發(fā)展的行業(yè)中，為行業(yè)的發(fā)展提高競爭力。工業(yè)領(lǐng)域轉(zhuǎn)型升級、提升發(fā)展質(zhì)量等有利于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展；**安全、社會安全、產(chǎn)業(yè)和信息安全等需要自主、磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)裝備，成為全社會共識；隨著中國的不斷進(jìn)步，世界上只有一個救世主——市場，能救企業(yè)的只有你自己——自強(qiáng)，提高其他型重點(diǎn)競爭力才是中國制造業(yè)的獨(dú)一出路。以顯微科學(xué)儀器行業(yè)的發(fā)展與變化為例，以親身的實(shí)踐為例，毛磊認(rèn)為，隨著經(jīng)濟(jì)的不斷發(fā)展，我國的環(huán)境和實(shí)力都發(fā)生了巨大變化，有了完全不同的基礎(chǔ)，這為國產(chǎn)科學(xué)儀器走向**增強(qiáng)了信心。官方授權(quán)分銷膜厚儀有哪些應(yīng)用
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型公司。公司業(yè)務(wù)分為磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)等，目前不斷進(jìn)行創(chuàng)新和服務(wù)改進(jìn)，為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。公司注重以質(zhì)量為中心，以服務(wù)為理念，秉持誠信為本的理念，打造儀器儀表良好品牌。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實(shí)”的經(jīng)營理念，全力打造公司的重點(diǎn)競爭力。