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高精密儀器光刻機推薦產(chǎn)品

來源: 發(fā)布時間:2019-12-27

IQ Aligner工業(yè)自動化功能:盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,彎曲,翹曲,邊緣晶圓處理

晶圓直徑(基板尺寸):高達200毫米

對準方式:

上側對準:≤±0.5 μm

底側對準:≤±1,0 μm

紅外校準:≤±2,0 μm /具體取決于基板材料


曝光設定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

曝光選項:間隔曝光/洪水曝光


系統(tǒng)控制

操作系統(tǒng):Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR

實時遠程訪問,診斷和故障排除


產(chǎn)能

全自動:第/一批生產(chǎn)量:每小時85片

全自動:吞吐量對準:每小時80片 EVG鍵合機掩模對準系列產(chǎn)品,使用的是**/先進的工程工藝。高精密儀器光刻機推薦產(chǎn)品

IQ Aligner®NT曝光設定:硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式

楔形補償:全自動軟件控制;非接觸式


IQ Aligner®NT曝光選項:間隔曝光/洪水曝光

先進的對準功能:自動對準

暗場對準功能/完整的明場掩模移動(FCMM)

大間隙對準

跳動控制對準


IQ Aligner®NT系統(tǒng)控制:

操作系統(tǒng):Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR

實時遠程訪問,診斷和故障排除


如果您需要確認準確的產(chǎn)品的信息,請聯(lián)系我們。如果需要鍵合機,請看官網(wǎng)信息。 陜西光刻機傳感器應用EVG所有光刻設備平臺均為300mm。

EVG ® 150特征:晶圓尺寸可達300毫米

多達6個過程模塊

可自定義的數(shù)量-多達20個烘烤/冷卻/汽化堆

多達四個FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載

可用的模塊包括旋轉涂層,噴涂,NanoCoat?,顯影,烘烤/冷卻/蒸氣/上等

EV集團專有的OmniSpray ®超聲波霧化技術提供了****的處理結果,當涉及到極端地形的保形涂層

可選的NanoSpray?模塊實現(xiàn)了300微米深圖案的保形涂層,長寬比**/高為1:10,垂直側壁

廣/泛的支持材料

烘烤模塊溫度高達250°C

Megasonic技術用于清潔,聲波化學處理和顯影,可提高處理效率并將處理時間從數(shù)小時縮短至數(shù)分鐘


EVG6200 NT特征:

晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8''

系統(tǒng)設計支持光刻工藝的多功能性

在第/一次光刻模式下的吞吐量高達180 WPH,在自動對準模式下的吞吐量高達140 WPH

易碎,薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,更換時間短

帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列

自動原點功能,用于對準鍵的精確居中

具有實時偏移校正功能的動態(tài)對準功能

支持**/新的UV-LED技術

返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)

自動化系統(tǒng)上的手動基板裝載功能

可以從半自動版本升級到全自動版本

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

先進的軟件功能以及研發(fā)與全/面生產(chǎn)之間的兼容性

便捷處理和轉換重組

遠程技術支持和SECS / GEM兼容性

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版 EVG同樣為客戶提供量產(chǎn)型掩模對準系統(tǒng)。

EVG ® 620 NT 掩模對準系統(tǒng)(半自動/自動)

特色:EVG ® 620 NT提供國家的本領域掩模對準技術在**小化的占位面積,支持高達150毫米晶圓尺寸。

技術數(shù)據(jù):EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱,在**小的占位面積上結合了先進的對準功能和**/優(yōu)化的總體擁有成本,提供了**/先進的掩模對準技術。它是光學雙面光刻的理想工具,可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,以滿足大批量生產(chǎn)要求和制造標準。擁有操作員友好型軟件,**短的掩模和工具更換時間以及高/效的全球服務和支持,使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。 EVG的CoverSpin TM旋轉蓋可降低光刻膠消耗,并提高光刻膠涂層的均勻性。四川光刻機試用

可以在EVG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤、曝光后烘烤和硬烘烤操作。高精密儀器光刻機推薦產(chǎn)品

     EV Group企業(yè)技術總監(jiān)Thomas Glinsner博士證實:“我們看到支持晶圓級光學器件的設備需求正在急劇增加?!?“*從今年年初開始,我們就向大型WLO制造商交付了多個用于透鏡成型和堆疊以及計量的系統(tǒng),以進行大批量生產(chǎn)。此類訂單進一步鞏固了EVG在該領域市場***的地位,同時創(chuàng)造了新興應用程序中有大量新機會。”

      業(yè)界**的設備制造商**近宣布了擴大其傳感領域業(yè)務目標的計劃,以幫助解決客戶日益激進的上市時間窗口。根據(jù)市場研究和策略咨詢公司YoleDéveloppement的說法,下一代智能手機中正在設計十多種傳感器。其中包括3D感測相機,指紋傳感器,虹膜掃描儀,激光二極管發(fā)射器,激光測距儀和生物傳感器。總體而言,光纖集線器預計將從2016年的106億美元增長到2021年的180億美元,復合年增長率超過11%*。 高精密儀器光刻機推薦產(chǎn)品

岱美儀器技術服務(上海)有限公司是一家其他型類企業(yè),積極探索行業(yè)發(fā)展,努力實現(xiàn)產(chǎn)品創(chuàng)新。是一家有限責任公司企業(yè),隨著市場的發(fā)展和生產(chǎn)的需求,與多家企業(yè)合作研究,在原有產(chǎn)品的基礎上經(jīng)過不斷改進,追求新型,在強化內部管理,完善結構調整的同時,良好的質量、合理的價格、完善的服務,在業(yè)界受到寬泛好評。公司擁有專業(yè)的技術團隊,具有磁記錄,半導體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)等多項業(yè)務。岱美儀器技術服務以創(chuàng)造***產(chǎn)品及服務的理念,打造高指標的服務,引導行業(yè)的發(fā)展。