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半導體納米壓印質量怎么樣

來源: 發(fā)布時間:2020-11-07

    ”EV集團的技術研發(fā)與IP主管MarkusWimplinger說,“通過與供應鏈的關鍵企業(yè)的合作,例如DELO,我們能夠進一步提高效率,作為與工藝和設備**們一同研究并建立關鍵的新生產線制造步驟的中心。”“EVG和DELO分別是晶圓級光學儀器與NIL設備與光學材料的技術與市場**企業(yè)。雙方在將技術與工藝流程應用于大規(guī)模生產方面有可靠的經驗,”DELO的董事總經理RobertSaller說道?!巴ㄟ^合作,我們將提供自己獨特的技術,將晶圓級工藝技術應用于光學器件和光電器件制造中,EVG也成為我們***產品開發(fā)的理想合作伙伴。這種合作還將使我們以應用**和前列合作伙伴的身份為客戶服務。"晶圓級光學元件的應用解決方案EVG的晶圓級光學器件解決方案為移動式消費電子產品提供多種新型的光學傳感設備。主要的例子是:3D感應,飛行時間,結構光,生物特征身份認證,面部識別,虹膜掃描,光學指紋,頻譜檢測,環(huán)境感應與紅外線成像。其它應用領域包括汽車照明,光地毯,平視顯示器,車內感應,激光雷達,內窺鏡照相機醫(yī)學成像,眼科設備與手術機器人。EVG的晶圓級光學儀器解決方案得到公司的NILPhotonics解決方案支援中心的支持。DELO創(chuàng)新的多功能材料幾乎可以在世界上每部手機上找到。**小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結構提供了更多的自由度,這對于實現衍射光學元件(DOE)至關重要。半導體納米壓印質量怎么樣

NIL已被證明是在大面積上實現納米級圖案的相當有成本效益的方法,因為它不受光學光刻所需的復雜光學器件的限制,并且它可以為極小尺寸(小于100分)提供比較好圖案保真度nm)結構。

EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術,可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當的時間。

新應用程序的開發(fā)通常與設備功能的提高緊密相關。 晶片納米壓印有哪些品牌岱美儀器代理的SmartNIL是一項關鍵的啟用技術,可用于顯示器,生物技術和光子應用中的許多新創(chuàng)新。

EVG610特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG610附加功能:

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷


EVG610技術數據:

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL:比較大150毫米的碎片

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL

曝光源:汞光源或紫外線LED光源

自動分離:不支持

工作印章制作:外部


EVG ® 510 HE熱壓印系統(tǒng)

應用:高度靈活的熱壓印系統(tǒng),用于研發(fā)和小批量生產

EVG510 HE半自動熱壓印系統(tǒng)設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。該設備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能,并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項,提供了許多用于高質量納米圖案轉印的工藝。


EVG ® 510 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用

自動化壓花工藝

EVG專有的**對準工藝,用于光學對準的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執(zhí)行

閉環(huán)冷卻水供應選項

外部浮雕和冷卻站 EV Group能夠提供混合和單片微透鏡成型工藝。

納米壓印應用三:連續(xù)性UV納米壓印

EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合,分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。


納米壓印設備可用來進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。廣東聯電納米壓印

納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結構的低成本的技術,大批量替代光刻技術。半導體納米壓印質量怎么樣

    納米壓印微影技術可望優(yōu)先導入LCD面板領域原本計劃應用在半導體生產制程的納米壓印微影技術(Nano-ImpLithography;NIL),現將率先應用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術。據ETNews報導,南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組,未確認NIL設備實際圖樣形成能力,直接參訪海外NIL設備廠。該制程研發(fā)小組透露,若引進相關設備,將可提升面板性能。并已展開具體供貨協(xié)商。NIL是以刻印圖樣的壓印機,像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后,再以壓印機接觸施加壓力,印出面板圖樣。之后再經過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣,不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程,但省落偏光膜貼附制程,可維持同樣的生產成本。偏光膜會吸收部分光線降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣,將不會發(fā)生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高,因配線較多,較難確保開口率(ApertureRatio)。半導體納米壓印質量怎么樣

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