EV集團和肖特攜手合作,證明300-MM光刻/納米壓印技術(shù)在大體積增強現(xiàn)實/混合現(xiàn)實玻璃制造中已就緒聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics?能力中心開展,這是一個開放式的光刻/納米壓?。∟IL)技術(shù)創(chuàng)新孵化器,同時也是全球***可及的300-mm光刻/納米壓印技術(shù)線2019年8月28日,奧地利,圣弗洛里安――微機電系統(tǒng)(MEMS)、納米技術(shù)和半導體市場晶圓鍵合與光刻設(shè)備**供應(yīng)商EV集團(EVG)***宣布,與特種玻璃和微晶玻璃領(lǐng)域的**技術(shù)集團肖特攜手合作,證明300-mm(12英寸)光刻/納米壓?。∟IL)技術(shù)在下一代增強現(xiàn)實/混合現(xiàn)實(AR/MR)頭戴顯示設(shè)備的波導/光導制造中使用的高折射率(HRI)玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒。此次合作涉及EVG的專有SmartNIL?工藝和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓,將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics?能力中心進行。肖特將于9月4日至7日在深圳會展中心舉行的中國國際光電博覽會上展示一款采用EVGSmartNIL技術(shù)進行圖案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圓。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板,裝配在應(yīng)用SmartNIL?UV-NIL技術(shù)的EVG?HERCULES?。EVG ? 770是分步重復納米壓印光刻系統(tǒng),使用分步重復納米壓印光刻技術(shù),可進行有效的母版制作。研究所納米壓印自動化測量
SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù),可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化,并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。
注:*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 圖像傳感器納米壓印高性價比選擇納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本的技術(shù),大批量替代光刻技術(shù)。
SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù),可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化,并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。
*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。
EVG ® 720特征:
體積驗證的壓印技術(shù),具有出色的復制保真度
專有SmartNIL ®技術(shù),多使用聚合物印模技術(shù)
集成式壓印,UV固化脫模和工作印模制造
盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發(fā)模式
可選的頂部對準
可選的迷你環(huán)境
適用于所有市售壓印材料的開放平臺
從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴展性
系統(tǒng)外殼,可實現(xiàn)比較好過程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑(基板尺寸)
75至150毫米
解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程:SmartNIL ®
曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm2
對準:可選的頂部對準
自動分離:支持的
迷你環(huán)境和氣候控制:可選的
工作印章制作:支持的
EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設(shè)備支持晶圓級光學(WLO)的制造。
為了優(yōu)化工藝鏈,HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造,這是大批量生產(chǎn)的基石,不需要額外的壓印印章制造設(shè)備。作為一項特殊功能,該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境,以確保比較低的缺 陷率和比較高質(zhì)量的原版復制。
通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案,HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導地位。
*根據(jù)ISO 14644
HERCULES ® NIL特征:
批量生產(chǎn)**小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu)
聯(lián)合預處理(清潔/涂層/烘烤/寒意)和SmartNIL ®
體積驗證的壓印技術(shù),具有出色的復制保真度
全自動壓印和受控的低力分離,可很大程度地重復使用工作印章
包括工作印章制造能力
高功率光源,固化時間**快
優(yōu)化的模塊化平臺可實現(xiàn)高吞吐量
*分辨率取決于過程和模板 EVG ? 520 HE是熱壓印系統(tǒng)。晶圓納米壓印競爭力怎么樣
EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。研究所納米壓印自動化測量
納米壓印光刻(NIL)技術(shù)
EVG是納米壓印光刻(NIL)設(shè)備和集成工藝的市場**供應(yīng)商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL,并實現(xiàn)了從2英寸化合物半導體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn)。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當有成本效益的工藝,可用于生物MEMS,微流體,電子學以及**近各種衍射光學元件的各種商業(yè)應(yīng)用。
其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號包含:
EVG®610
EVG®620NT
EVG®6200NT
EVG®720
EVG®7200
EVG®7200LA
HERCULES®NIL
EVG®770
IQAligner®
熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號包含:
EVG®510HE
EVG®520HE
詳細的參數(shù),請聯(lián)系我們岱美有限公司。
研究所納米壓印自動化測量
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司辦公設(shè)施齊全,辦公環(huán)境優(yōu)越,為員工打造良好的辦公環(huán)境。在岱美儀器技術(shù)服務(wù)近多年發(fā)展歷史,公司旗下現(xiàn)有品牌岱美儀器技術(shù)服務(wù)等。公司不僅*提供專業(yè)的磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】,同時還建立了完善的售后服務(wù)體系,為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。自公司成立以來,一直秉承“以質(zhì)量求生存,以信譽求發(fā)展”的經(jīng)營理念,始終堅持以客戶的需求和滿意為重點,為客戶提供良好的磁記錄,半導體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā),從而使公司不斷發(fā)展壯大。