EV集團(tuán)和肖特?cái)y手合作，證明300-MM光刻/納米壓印技術(shù)在大體積增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)/混合現(xiàn)實(shí)玻璃制造中已就緒聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics?能力中心開展，這是一個(gè)開放式的光刻/納米壓?。∟IL）技術(shù)創(chuàng)新孵化器，同時(shí)也是全球***可及的300-mm光刻/納米壓印技術(shù)線2019年8月28日，奧地利，圣弗洛里安――微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）、納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場晶圓鍵合與光刻設(shè)備**供應(yīng)商EV集團(tuán)（EVG）***宣布，與特種玻璃和微晶玻璃領(lǐng)域的**技術(shù)集團(tuán)肖特?cái)y手合作，證明300-mm（12英寸）光刻/納米壓?。∟IL）技術(shù)在下一代增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)/混合現(xiàn)實(shí)（AR/MR）頭戴顯示設(shè)備的波導(dǎo)/光導(dǎo)制造中使用的高折射率（HRI）玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒。此次合作涉及EVG的專有SmartNIL?工藝和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓，將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics?能力中心進(jìn)行。肖特將于9月4日至7日在深圳會(huì)展中心舉行的中國國際光電博覽會(huì)上展示一款采用EVGSmartNIL技術(shù)進(jìn)行圖案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圓。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板，裝配在應(yīng)用SmartNIL?UV-NIL技術(shù)的EVG?HERCULES?。EVG ? 770是分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)，使用分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作。研究所納米壓印自動(dòng)化測量
SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù)，可對(duì)小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化，并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù)。
注：*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細(xì)的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 圖像傳感器納米壓印高性價(jià)比選擇納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本的技術(shù)，大批量替代光刻技術(shù)。
SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù)，可對(duì)小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化，并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù)。
*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細(xì)的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。
EVG ® 720特征：
體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度
專有SmartNIL ®技術(shù)，多使用聚合物印模技術(shù)
集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造
盒帶到盒帶自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式
可選的頂部對(duì)準(zhǔn)
可選的迷你環(huán)境
適用于所有市售壓印材料的開放平臺(tái)
從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴(kuò)展性
系統(tǒng)外殼，可實(shí)現(xiàn)比較好過程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑（基板尺寸）
75至150毫米
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2
對(duì)準(zhǔn)：可選的頂部對(duì)準(zhǔn)
自動(dòng)分離：支持的
迷你環(huán)境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
EVG高達(dá)300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設(shè)備支持晶圓級(jí)光學(xué)（WLO）的制造。
為了優(yōu)化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產(chǎn)的基石，不需要額外的壓印印章制造設(shè)備。作為一項(xiàng)特殊功能，該工具可以升級(jí)為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境，以確保比較低的缺 陷率和比較高質(zhì)量的原版復(fù)制。
通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案，HERCULES NIL增強(qiáng)了EVG在***積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導(dǎo)地位。
*根據(jù)ISO 14644
HERCULES ® NIL特征：
批量生產(chǎn)**小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu)
聯(lián)合預(yù)處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ®
體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度
全自動(dòng)壓印和受控的低力分離，可很大程度地重復(fù)使用工作印章
包括工作印章制造能力
高功率光源，固化時(shí)間**快
優(yōu)化的模塊化平臺(tái)可實(shí)現(xiàn)高吞吐量
*分辨率取決于過程和模板 EVG ? 520 HE是熱壓印系統(tǒng)。晶圓納米壓印競爭力怎么樣
EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。研究所納米壓印自動(dòng)化測量
納米壓印光刻（NIL）技術(shù)
EVG是納米壓印光刻（NIL）設(shè)備和集成工藝的市場**供應(yīng)商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并實(shí)現(xiàn)了從2英寸化合物半導(dǎo)體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn)。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當(dāng)有成本效益的工藝，可用于生物MEMS，微流體，電子學(xué)以及**近各種衍射光學(xué)元件的各種商業(yè)應(yīng)用。
其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號(hào)包含：
EVG®610
EVG®620NT
EVG®6200NT
EVG®720
EVG®7200
EVG®7200LA
HERCULES®NIL
EVG®770
IQAligner®
熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號(hào)包含：
EVG®510HE
EVG®520HE
詳細(xì)的參數(shù)，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美有限公司。
研究所納米壓印自動(dòng)化測量
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司辦公設(shè)施齊全，辦公環(huán)境優(yōu)越，為員工打造良好的辦公環(huán)境。在岱美儀器技術(shù)服務(wù)近多年發(fā)展歷史，公司旗下現(xiàn)有品牌岱美儀器技術(shù)服務(wù)等。公司不僅*提供專業(yè)的磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)】，同時(shí)還建立了完善的售后服務(wù)體系，為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。自公司成立以來，一直秉承“以質(zhì)量求生存，以信譽(yù)求發(fā)展”的經(jīng)營理念，始終堅(jiān)持以客戶的需求和滿意為重點(diǎn)，為客戶提供良好的磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)，從而使公司不斷發(fā)展壯大。