EV Group企業(yè)技術(shù)總監(jiān)Thomas Glinsner博士證實(shí):“我們看到支持晶圓級光學(xué)器件的設(shè)備需求正在急劇增加。” “*從今年年初開始,我們就向大型WLO制造商交付了多個用于透鏡成型和堆疊以及計(jì)量的系統(tǒng),以進(jìn)行大批量生產(chǎn)。此類訂單進(jìn)一步鞏固了EVG在該領(lǐng)域市場***的地位,同時創(chuàng)造了新興應(yīng)用程序中有大量新機(jī)會?!?
業(yè)界**的設(shè)備制造商**近宣布了擴(kuò)大其傳感領(lǐng)域業(yè)務(wù)目標(biāo)的計(jì)劃,以幫助解決客戶日益激進(jìn)的上市時間窗口。根據(jù)市場研究和策略咨詢公司YoleDéveloppement的說法,下一代智能手機(jī)中正在設(shè)計(jì)十多種傳感器。其中包括3D感測相機(jī),指紋傳感器,虹膜掃描儀,激光二極管發(fā)射器,激光測距儀和生物傳感器??傮w而言,光纖集線器預(yù)計(jì)將從2016年的106億美元增長到2021年的180億美元,復(fù)合年增長率超過11%*。 EVG所有掩模對準(zhǔn)器都支持EVG專有的NIL技術(shù)。甘肅光刻機(jī)國內(nèi)代理
EVG770自動UV-NIL納米壓印步進(jìn)機(jī),用于制作主圖章。母模是晶圓大小的模板,里面完全裝有微透鏡模具,每個模具都采用分步重復(fù)的方法從一個透鏡模板中復(fù)制。EVG從金屬或玻璃制成的單鏡頭母版開始,提供了涵蓋了制作母模的所有基本工藝步驟的工藝流程,具有****的鏡片位置精度和**鏡片制造所需的高鏡片形狀可重復(fù)性晶圓級相機(jī)模塊。
IQ Aligner自動UV-NIL納米壓印系統(tǒng),用于UV微透鏡成型。軟UV壓印光刻技術(shù)是用于制造聚合物微透鏡(WLO系統(tǒng)的關(guān)鍵要素)的高度并行技術(shù)。EVG從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開始,提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,可以輕松地將其應(yīng)用于工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合。此外,EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識。
EVG40 NT自動測量系統(tǒng)。支持非常高的分辨率和精度的垂直和橫向測量,計(jì)量對于驗(yàn)證是否符合嚴(yán)格的工藝規(guī)范并立即優(yōu)化集成的工藝參數(shù)至關(guān)重要。在WLO制造中,EVG的度量衡解決方案可用于關(guān)鍵尺寸(CD)測量和透鏡疊層對準(zhǔn)驗(yàn)證,以及許多其他應(yīng)用。 山東EVG620 NT光刻機(jī)HERCULES光刻機(jī)系統(tǒng):全自動光刻跟/蹤系統(tǒng),模塊化設(shè)計(jì),用于掩模和曝光,集成了預(yù)處理和后處理能力。
EV集團(tuán)(EVG)是面向MEMS,納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場的晶圓鍵合機(jī)和光刻設(shè)備的**供應(yīng)商,***宣布已收到其制造設(shè)備和服務(wù)的***組合產(chǎn)品組合的多個訂單,這些產(chǎn)品和服務(wù)旨在滿足對晶圓的新興需求,水平光學(xué)(WLO)和3D感應(yīng)。市場**的產(chǎn)品組合包括EVG®770自動UV-納米壓印光刻(UV-NIL)步進(jìn)器,用于步進(jìn)重復(fù)式主圖章制造,用于晶圓級透鏡成型和堆疊的IQAligner®UV壓印系統(tǒng)以及EVG ®40NT自動測量系統(tǒng),用于對準(zhǔn)驗(yàn)證。EVG的WLO解決方案由該公司的NILPhotonics®能力中心提供支持。
使用** 欣的壓印光刻技術(shù)和鍵合對準(zhǔn)技術(shù)在晶圓級制造微透鏡,衍射光學(xué)元件和其他光學(xué)組件可帶來諸多好處。這些措施包括通過高度并行的制造工藝降低擁有成本,以及通過堆疊使**終器件的外形尺寸更小。EVG是納米壓印光刻和微成型領(lǐng)域的先驅(qū)和市場***,擁有全球比較大的工具安裝基礎(chǔ)。
EVG®610 掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)
■ 晶圓規(guī)格
:100 mm / 150 mm / 200 mm
■ 頂/底部對準(zhǔn)精度達(dá)到 ± 0.5 μm / ± 1.0 μm
■ 用于雙面對準(zhǔn)高/分辨率頂部和底部分裂場顯微鏡
■ 軟件,硬件,真空和接近式曝光
■ 自動楔形補(bǔ)償
■ 鍵合對準(zhǔn)和NIL可選
■ 支持**/新的UV-LED技術(shù)
EVG®620 NT / EVG®6200 NT
掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)(自動化和半自動化)
■ 晶圓產(chǎn)品規(guī)格
:150 mm / 200 mm
■ 接近式楔形錯誤補(bǔ)償
■ 多種規(guī)格晶圓轉(zhuǎn)換時間少于5分鐘
■ 初次印刷高達(dá)180 wph / 自動對準(zhǔn)模式為140 wph
■ 可選**的抗震型花崗巖平臺
■ 動態(tài)對準(zhǔn)實(shí)時補(bǔ)償偏移
■ 支持**/新的UV-LED技術(shù) IQ Aligner NT 光刻機(jī)系統(tǒng)使用零輔助橋接工具-雙基片,支持200mm和300mm尺寸的晶圓。
EVG120特征:
晶圓尺寸可達(dá)200毫米
超緊湊設(shè)計(jì),占用空間**小
**多2個涂布/顯影室和10個加熱/冷卻板
用于旋涂和噴涂,顯影,烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應(yīng)用領(lǐng)域提供了巨大的機(jī)會
化學(xué)柜,用于化學(xué)品的外部存儲
EV集團(tuán)專有的OmniSpray ®超聲波霧化技術(shù)提供了****的處理結(jié)果,當(dāng)涉及到極端地形的保形涂層
CoverSpin TM旋轉(zhuǎn)蓋可降低光刻膠消耗并優(yōu)化光刻膠涂層的均勻性
Megasonic技術(shù)用于清潔,聲波化學(xué)處理和顯影,可提高處理效率并將處理時間從數(shù)小時縮短至數(shù)分鐘
EVG?620 NT / EVG?6200 NT 掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)(自動化和半自動化)支持的晶圓尺寸 :150 mm / 200 mm。晶片光刻機(jī)試用
研發(fā)設(shè)備與EVG的**技術(shù)平臺無縫集成,這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈。甘肅光刻機(jī)國內(nèi)代理
HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)技術(shù)數(shù)據(jù):
對準(zhǔn)方式:
上側(cè)對準(zhǔn):≤±0.5 μm;
底側(cè)對準(zhǔn):≤±1,0 μm;
紅外校準(zhǔn):≤±2,0 μm /具體取決于基材
先進(jìn)的對準(zhǔn)功能:
手動對準(zhǔn);
自動對準(zhǔn);
動態(tài)對準(zhǔn)。
對準(zhǔn)偏移校正:
自動交叉校正/手動交叉校正;
大間隙對準(zhǔn)。
工業(yè)自動化功能:盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,彎曲,翹曲,邊緣晶圓處理
曝光源:汞光源/紫外線LED光源
曝光設(shè)定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式
楔形補(bǔ)償:全自動軟件控制;非接觸式
曝光選項(xiàng):
間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光
系統(tǒng)控制
操作系統(tǒng):Windows
文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)
多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR
實(shí)時遠(yuǎn)程訪問,診斷和故障排除 甘肅光刻機(jī)國內(nèi)代理
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司致力于儀器儀表,以科技創(chuàng)新實(shí)現(xiàn)***管理的追求。岱美儀器技術(shù)服務(wù)深耕行業(yè)多年,始終以客戶的需求為向?qū)В瑸榭蛻籼峁?**的磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)繼續(xù)堅(jiān)定不移地走高質(zhì)量發(fā)展道路,既要實(shí)現(xiàn)基本面穩(wěn)定增長,又要聚焦關(guān)鍵領(lǐng)域,實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)型再突破。岱美儀器技術(shù)服務(wù)創(chuàng)始人陳玲玲,始終關(guān)注客戶,創(chuàng)新科技,竭誠為客戶提供良好的服務(wù)。