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湖南納米壓印競爭力怎么樣

來源: 發(fā)布時(shí)間:2020-07-14

為了優(yōu)化工藝鏈,HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造,這是大批量生產(chǎn)的基石,不需要額外的壓印印章制造設(shè)備。作為一項(xiàng)特殊功能,該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境,以確保比較低的缺 陷率和比較高質(zhì)量的原版復(fù)制。

通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案,HERCULES NIL增強(qiáng)了EVG在***積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導(dǎo)地位。

*根據(jù)ISO 14644


HERCULES ® NIL特征:

批量生產(chǎn)**小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu)

聯(lián)合預(yù)處理(清潔/涂層/烘烤/寒意)和SmartNIL ®

體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度

全自動壓印和受控的低力分離,可很大程度地重復(fù)使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源,固化時(shí)間**快

優(yōu)化的模塊化平臺可實(shí)現(xiàn)高吞吐量


*分辨率取決于過程和模板 EVG的納米壓印光刻(NIL) - SmartNIL ? 是用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。湖南納米壓印競爭力怎么樣

EVG ® 520 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應(yīng)用

自動化壓花工藝

EVG專有的**對準(zhǔn)工藝,用于光學(xué)對準(zhǔn)的壓印和壓印

氣動壓花選項(xiàng)

軟件控制的流程執(zhí)行


EVG ® 520 HE技術(shù)數(shù)據(jù)

加熱器尺寸:150毫米,200毫米

比較大基板尺寸:150毫米,200毫米

**小基板尺寸:單芯片,100毫米

比較大接觸力:10、20、60、100 kN

比較高溫度:標(biāo)準(zhǔn):350°C;可選:550°C

粘合卡盤系統(tǒng)/對準(zhǔn)系統(tǒng)

150毫米加熱器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200

200毫米加熱器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT

真空:

標(biāo)準(zhǔn):0.1毫巴

可選:0.00001 mbar 晶片納米壓印競爭力怎么樣HERCULES NIL 300 mm提供市場上**納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速高功率曝光和平滑壓模分離。

IQ Aligner UV-NIL 自動化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)

應(yīng)用:用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)

IQ Aligner UV-NIL系統(tǒng)允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進(jìn)行微成型和納米壓印工藝,非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統(tǒng)從從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開始,提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應(yīng)。此外,EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識。EV Group專有的卡盤設(shè)計(jì)可為高產(chǎn)量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機(jī)制。


EVG ® 6200 NT特征:

頂部和底部對準(zhǔn)能力

高精度對準(zhǔn)臺

自動楔形補(bǔ)償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機(jī)版


EVG ® 6200 NT附加功能:

鍵對準(zhǔn)

紅外對準(zhǔn)

智能NIL ®

μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑(基板尺寸)

標(biāo)準(zhǔn)光刻:75至200 mm

柔軟的UV-NIL:75至200毫米

SmartNIL ®:**多至150mm

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:軟UV-NIL&SmartNIL

®


曝光源:汞光源或紫外線LED光源

對準(zhǔn):軟NIL:≤±0.5 μm;SmartNIL ®:≤±3微米

自動分離:柔紫外線NIL:不支持;SmartNIL

®:支持


工作印章制作:柔軟的UV-NIL:外部;SmartNIL ®:支持


納米壓印設(shè)備哪個(gè)好?預(yù)墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。

SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù),可對小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化,并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。

注:*分辨率取決于過程和模板


如果需要詳細(xì)的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 高 效,強(qiáng)大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度,擁有高度均勻圖案層和**少殘留層,易于擴(kuò)展的晶圓尺寸和產(chǎn)量。中國香港納米壓印競爭力怎么樣

岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。湖南納米壓印競爭力怎么樣

UV納米壓印光刻系統(tǒng)

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)

■高精度對準(zhǔn)臺

■自動楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制

■電動和程序控制的曝光間隙

■支持***的UV-LED技術(shù)

■**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求


EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自動化的全場納米壓印解決方案,適用于第3代基材

■體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度

■專有的SmartNIL®技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù)

■集成式壓印,UV固化,脫模和工作印模制作

■盒帶間自動處理以及半自動研發(fā)模式


■適用于所有市售壓印材料的開放平臺


湖南納米壓印競爭力怎么樣

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加太路39號第五層六十五部位,是一家磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】的公司。岱美儀器技術(shù)服務(wù)深耕行業(yè)多年,始終以客戶的需求為向?qū)В瑸榭蛻籼峁?**的磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)繼續(xù)堅(jiān)定不移地走高質(zhì)量發(fā)展道路,既要實(shí)現(xiàn)基本面穩(wěn)定增長,又要聚焦關(guān)鍵領(lǐng)域,實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)型再突破。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注儀器儀表市場,以敏銳的市場洞察力,實(shí)現(xiàn)與客戶的成長共贏。