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官方授權(quán)分銷膜厚儀芯片行業(yè)

來源: 發(fā)布時間:2020-03-26

平臺和平臺附件標(biāo)準(zhǔn)和**平臺。

CS-1可升級接觸式SS-3樣品臺,可測波長范圍190-1700nm

SS-36“×6” 樣品平臺,F(xiàn)20 系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)配置。 可調(diào)節(jié)鏡頭高度,103 mm 進(jìn)深。 適用所有波長范圍。

SS-3-88“×8” 樣品平臺??烧{(diào)節(jié)鏡頭高度,139mm 進(jìn)深。 適用所有波長范圍。

SS-3-24F20 的 24“×24” 樣品平臺。 可調(diào)節(jié)鏡頭高度,550mm 進(jìn)深。 適用所有波長范圍。

SS-56" x 6" 吋樣品臺,具有可調(diào)整焦距的反射光學(xué)配件,需搭配具有APC接頭的光纖,全波長范圍使用

樣品壓重-SS-3-50

樣品壓重 SS-3 平臺, 50mm x 50mm

樣品壓重-SS-3-110

樣品壓重 SS-3 平臺, 110mm x 110mm

F50測厚范圍:20nm-70μm;波長:380-1050nm。官方授權(quán)分銷膜厚儀芯片行業(yè)

Total Thickness Variation (TTV) 應(yīng)用

規(guī)格:

測量方式:

紅外干涉(非接觸式)

樣本尺寸:

50、75、100、200、300 mm, 也可以訂做客戶需要的產(chǎn)品尺寸

測量厚度:

15 — 780 μm (單探頭)

     3 mm (雙探頭總厚度測量)

掃瞄方式:

半自動及全自動型號,

 另2D/3D掃瞄(Mapping)可選

襯底厚度測量: TTV、平均值、*小值、*大值、公差...

可選粗糙度: 20 — 1000? (RMS)

重復(fù)性:

0.1 μm (1 sigma)單探頭*

  0.8 μm

(1 sigma)雙探頭*

分辨率:

 10 nm

請訪問我們的中文官網(wǎng)了解更多關(guān)于本產(chǎn)品的信息。

原裝進(jìn)口膜厚儀實惠價格監(jiān)測控制生產(chǎn)過程中移動薄膜厚度。高達(dá)100 Hz的采樣率可以在多個測量位置得到。

集成電路故障分析故障分析 (FA) 技術(shù)用來尋找并確定集成電路內(nèi)的故障原因。

故障分析中需要進(jìn)行薄膜厚度測量的兩種主要類型是正面去層(用于傳統(tǒng)的面朝上的電路封裝) 和背面薄化(用于較新的覆晶技術(shù)正面朝下的電路封裝)。正面去層正面去層的工藝需要了解電介質(zhì)薄化后剩余電介質(zhì)的厚度。背面故障分析背面故障分析需要在電路系統(tǒng)成像前移除大部分硅晶粒的厚度,并了解在每個薄化步驟后剩余的硅厚度是相當(dāng)關(guān)鍵的。 Filmetrics F3-sX是為了測量在不同的背面薄化過程的硅層厚度而專門設(shè)計的系統(tǒng)。 厚度從5微米到1000微米能夠很容易的測量,另外可選配模組來延伸**小測量厚度至0.1微米,同時具有單點和多點測繪的版本可供選擇。

測量范例現(xiàn)在我們使用我們的 F3-s1550 系統(tǒng)測量在不同的背面薄化過程的硅層厚度.具備特殊光學(xué)設(shè)計之 F3-S1550利用比直徑更小於10μm的光斑尺寸得以測量拋光以及粗糙或不均勻表面的硅層厚度

光源用于一般用途應(yīng)用之光源

***T2可用在Filmetrics設(shè)備的光源具有氘燈-鎢絲與遠(yuǎn)端控制的快門來取代舊款Hamamatsu D2光源LS-LED1具有高亮度白光LED的光源

光纖配件:CP-RepairToolKitCP-1-1.3 接觸探頭是相當(dāng)堅固的,但是光纖不能經(jīng)常被抽屜碰撞或者被椅子壓過。該套件包括指令,以及簡單的維修工具,新的和舊風(fēng)格的探頭。FO-PAT-SMA-SMA-200-22 米長,直徑 200um 的光纖, 兩端配備 SMA 接頭。FO-RP1-.25-SMA-200-1.32 米長,分叉反射探頭。 可選的厚度和折射率模塊讓您能夠充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。

技術(shù)介紹:

紅外干涉測量技術(shù), 非接觸式測量。采用Michaelson干涉方法,紅外波段的激光能更好的穿透被測物體,準(zhǔn)確的得到測試結(jié)果。


產(chǎn)品簡介:FSM 413EC 紅外干涉測量設(shè)備

適用于所有可讓紅外線通過的材料:硅、藍(lán)寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石  英、聚合物…………

應(yīng)用:

   襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)

   平整度   

溝槽深度

   過孔尺寸、深度、側(cè)壁角度

   粗糙度

薄膜厚度

硅片厚度

   環(huán)氧樹脂厚度

   襯底翹曲度

   晶圓凸點高度(bump height)

MEMS 薄膜測量

TSV 深度、側(cè)壁角度...


紅外干涉測量技術(shù), 非接觸式測量。穿透率膜厚儀**

可選粗糙度: 20 — 1000? (RMS)。官方授權(quán)分銷膜厚儀芯片行業(yè)

F50 系列自動化薄膜測繪Filmetrics F50 系列的產(chǎn)品能以每秒測繪兩個點的速度快速的測繪薄膜厚度。一個電動R-Theta 平臺可接受標(biāo)準(zhǔn)和客制化夾盤,樣品直徑可達(dá)450毫米。(耐用的平臺在我們的量產(chǎn)系統(tǒng)能夠執(zhí)行數(shù)百萬次的量測!)

測繪圖案可以是極座標(biāo)、矩形或線性的,您也可以創(chuàng)造自己的測繪方法,并且不受測量點數(shù)量的限制。內(nèi)建數(shù)十種預(yù)定義的測繪圖案。

不同的 F50 儀器是根據(jù)波長范圍來加以區(qū)分的。 標(biāo)準(zhǔn)的 F50是很受歡迎的產(chǎn)品。 一般較短的波長 (例如, F50-UV) 可用于測量較薄的薄膜,而較長的波長則可以用來測量更厚、更不平整以及更不透明的薄膜。 官方授權(quán)分銷膜厚儀芯片行業(yè)

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司致力于儀器儀表,是一家其他型的公司。公司自成立以來,以質(zhì)量為發(fā)展,讓匠心彌散在每個細(xì)節(jié),公司旗下磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)深受客戶的喜愛。公司從事儀器儀表多年,有著創(chuàng)新的設(shè)計、強大的技術(shù),還有一批**的專業(yè)化的隊伍,確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實”的經(jīng)營理念,全力打造公司的重點競爭力。