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微接觸納米壓印推薦廠家

來源: 發(fā)布時間:2020-03-01

納米壓印應用二:面板尺寸的大面積納米壓印

EVG專有的且經(jīng)過大量證明的SmartNIL技術的***進展,已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為Gen 3(550 mm x 650 mm)的基板上實現(xiàn)。對于不能減小尺寸的顯示器,線柵偏振器,生物技術和光子元件等應用,至關重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟、高 效的方法,因為它不受光學系統(tǒng)的限制,并且可以為**小的結構提供比較好的圖案保真度。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。


EVG的納米壓印設備括不同的單步壓印系統(tǒng),大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。微接觸納米壓印推薦廠家

       通過中心提供的試驗生產(chǎn)線基礎設施,WaveOptics將超越其客戶對下個季度的預期需求,并有一條可靠的途徑將大批量生產(chǎn)工藝和設備轉(zhuǎn)移至能夠大規(guī)模生產(chǎn)波導的指定設施適用于全球前列OEM品牌。

      WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實現(xiàn)的價格提供高性能,商用波導來幫助客戶將AR顯示器推向市場的承諾。利用EVG在批量生產(chǎn)設備和工藝技術方面的專業(yè)知識,到2019年,AR終端用戶產(chǎn)品將以不到600美元的價格進入市場,這是當今行業(yè)中的*低價位。 納米壓印優(yōu)惠價格EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻(UV-NIL)產(chǎn)品線。

EVG ® 720自動SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米,設有EVG's專有SmartNIL ®技術


EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術和材料專業(yè)知識,能夠大規(guī)模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技術的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結構,具有****的吞吐量,非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件,例如衍射光學元件( DOEs)。

*分辨率取決于過程和模板


如果需要詳細的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術服務有限公司。也可以訪問官網(wǎng),獲得更多信息。

NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的相當有成本效益的方法,因為它不受光學光刻所需的復雜光學器件的限制,并且它可以為極小尺寸(小于100分)提供比較好圖案保真度nm)結構。

EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術,可提供功能強大的下一代光刻技術,幾乎具有無限的結構尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間。

新應用程序的開發(fā)通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動化的全場域納米壓印解決方案,適用于第3代基材。

EVG ® 620 NT特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG ® 620 NT附加功能:

鍵對準

紅外對準

SmartNIL

μ接觸印刷技術數(shù)據(jù)

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL:比較大150毫米的碎片

SmartNIL ®:在100毫米范圍

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:軟UV-NIL&SmartNIL

®

曝光源:汞光源或紫外線LED光源

對準:

軟NIL:≤±0.5 μm

SmartNIL ®:≤±3微米

自動分離:柔紫外線NIL:不支持;SmartNIL

®:支持


工作印章制作:柔軟的UV-NIL:外部:SmartNIL ®:支持


NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟、高 效的方法。福建納米壓印美元報價

EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。微接觸納米壓印推薦廠家

    據(jù)外媒報道,美國威斯康星大學麥迪遜分校(UWMadison)的研究人員們,已經(jīng)同合作伙伴聯(lián)手實現(xiàn)了一種突破性的方法。不僅**簡化了低成本高性能、無線靈活的金屬氧化物半導體場效應晶體管(MOSFET)的制造工藝,還克服了許多使用標準技術制造設備時所遇到的操作上的問題。該技術可用于制造大卷的柔性塑料印刷線路板,并在可穿戴電子設備和彎曲傳感器等領域派上大用場。研究人員稱,這項突破性的納米壓印平板印刷制造工藝,可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管。由于出色的低電流需求和更好的高頻性能,MOSFET已經(jīng)迅速取代了電子電路中常見的雙極晶體管。為了滿足不斷縮小的集成電路需求,MOSFET尺寸也在不斷變小,然而這也引發(fā)了一些問題。微接觸納米壓印推薦廠家

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