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氮化鎵膜厚儀輪廓測(cè)量應(yīng)用

來源: 發(fā)布時(shí)間:2020-02-13

F60 系列

包含的內(nèi)容:集成平臺(tái)/光譜儀/光源裝置(不含平臺(tái))4", 6" and 200mm 參考晶圓TS-SiO2-4-7200 厚度標(biāo)準(zhǔn)真空泵備用燈

型號(hào)厚度范圍*波長(zhǎng)范圍

F60-t:20nm-70μm 380-1050nm

F60-t-UV:5nm-40μm 190-1100nm

F60-t-NIR:100nm-250μm 950-1700nm

F60-t-EXR:20nm-250μm 380-1700nm

F60-t-UVX:5nm-250μm 190-1700nm

F60-t-XT0:2μm-450μm 1440-1690nm

F60-t-s980:4μm-1mm 960-1000nm

F60-t-s1310:7μm-2mm 1280-1340nm

F60-t-s1550:10μm-3mm 1520-1580nm

額外的好處:每臺(tái)系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫(kù), 隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助(周一 - 周五)網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級(jí)計(jì)劃 所有的 Filmetrics 型號(hào)都能通過精確的光譜反射建模來測(cè)量厚度 (和折射率)。氮化鎵膜厚儀輪廓測(cè)量應(yīng)用

自動(dòng)厚度測(cè)量系統(tǒng)幾乎任何形狀的樣品厚度和折射率的自動(dòng)測(cè)繪。人工加載或機(jī)器人加載均可。

在線厚度測(cè)量系統(tǒng)監(jiān)測(cè)控制生產(chǎn)過程中移動(dòng)薄膜厚度。高達(dá)100 Hz的采樣率可以在多個(gè)測(cè)量位置得到。

附件Filmetrics 提供各種附件以滿足您的應(yīng)用需要。

F20 系列世界上****的臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)只需按下一個(gè)按鈕,您在不到一秒鐘的同時(shí)測(cè)量厚度和折射率。設(shè)置同樣簡(jiǎn)單, 只需插上設(shè)備到您運(yùn)行Windows?系統(tǒng)計(jì)算機(jī)的USB端口, 并連接樣品平臺(tái) , F20已在世界各地有成千上萬的應(yīng)用被使用. 事實(shí)上,我們每天從我們的客戶學(xué)習(xí)更多的應(yīng)用.

選擇您的F20主要取決於您需要測(cè)量的薄膜的厚度(確定所需的波長(zhǎng)范圍)

研究所膜厚儀國(guó)內(nèi)用戶F50-EXR測(cè)厚范圍:20nm-250μm;波長(zhǎng):380-1700nm。

非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在, 在兩級(jí)之間是部分結(jié)晶硅。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅。


非晶硅和多晶硅的光學(xué)常數(shù)(n和k)對(duì)不同沉積條件是獨(dú)特的,必須有精確的厚度測(cè)量。 測(cè)量厚度時(shí)還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風(fēng)化。

Filmetrics 設(shè)備提供的復(fù)雜的測(cè)量程序同時(shí)測(cè)量和輸出每個(gè)要求的硅薄膜參數(shù), 并且“一鍵”出結(jié)果。

測(cè)量范例多晶硅被***用于以硅為基礎(chǔ)的電子設(shè)備中。這些設(shè)備的效率取決于薄膜的光學(xué)和結(jié)構(gòu)特性。隨著沉積和退火條件的改變,這些特性隨之改變,所以準(zhǔn)確地測(cè)量這些參數(shù)非常重要。監(jiān)控晶圓硅基底和多晶硅之間,加入二氧化硅層,以增加光學(xué)對(duì)比,其薄膜厚度和光學(xué)特性均可測(cè)得。F20可以很容易地測(cè)量多晶硅薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù),以及二氧化硅夾層厚度。Bruggeman光學(xué)模型被用來測(cè)量多晶硅薄膜光學(xué)特性。


F54包含的內(nèi)容:

集成光譜儀/光源裝置

MA-Cmount 安裝轉(zhuǎn)接器 

顯微鏡轉(zhuǎn)接器光纖連接線BK7 

參考材料TS-Focus-SiO2-4-10000 

厚度標(biāo)準(zhǔn) 聚焦/厚度標(biāo)準(zhǔn)4", 6" and 200mm 

參考晶圓真空泵備用燈

型號(hào)厚度范圍*波長(zhǎng)范圍

F54:20nm-40μm 380-850nm

F54-UV:4nm-30μm 190-1100nm

F54-NIR:40nm-100μm 950-1700nm

F54-EXR:20nm-100μm 380-1700nm

F54-UVX:4nm-100μm190-1700nm

*取決于材料與顯微鏡

額外的好處:每臺(tái)系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫(kù), 隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助(周一 - 周五)網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級(jí)計(jì)劃 監(jiān)測(cè)控制生產(chǎn)過程中移動(dòng)薄膜厚度。高達(dá)100 Hz的采樣率可以在多個(gè)測(cè)量位置得到。

F54自動(dòng)化薄膜測(cè)繪Filmetrics F54 系列的產(chǎn)品能以一個(gè)電動(dòng)R-Theta 平臺(tái)自動(dòng)移動(dòng)到選定的測(cè)量點(diǎn)以每秒測(cè)繪兩個(gè)點(diǎn)的速度快速的測(cè)繪薄膜厚度, 樣品直徑達(dá)450毫米

可選擇數(shù)十種內(nèi)建之同心圓,矩形,或線性圖案模式,或自行建立無數(shù)量限制之測(cè)量點(diǎn).*需具備基本電腦技能的任何人可在數(shù)分鐘內(nèi)自行建立配方

F54 自動(dòng)化薄膜測(cè)繪只需聯(lián)結(jié)設(shè)備到您運(yùn)行Windows?系統(tǒng)計(jì)算機(jī)的USB端口, 可在幾分鐘輕松設(shè)置

不同的型號(hào)主要是由厚度和波長(zhǎng)范圍作為區(qū)別。通常較薄的膜需要較短波長(zhǎng)作測(cè)量(如F54-UV) 用來測(cè)量較薄的膜,而較長(zhǎng)的波長(zhǎng)可以用來測(cè)量更厚,更粗糙,或更不透明的薄膜 系統(tǒng)測(cè)試應(yīng)力的精度小于15mpa (0.03cm-1) ,全自動(dòng)的200mm和300mm硅片檢查,自動(dòng)檢驗(yàn)和聚焦的能力。NK值膜厚儀推薦產(chǎn)品

采用Michaelson干涉方法,紅外波段的激光能更好的穿透被測(cè)物體,準(zhǔn)確得到測(cè)試結(jié)果。氮化鎵膜厚儀輪廓測(cè)量應(yīng)用

光源用于一般用途應(yīng)用之光源

***T2可用在Filmetrics設(shè)備的光源具有氘燈-鎢絲與遠(yuǎn)端控制的快門來取代舊款Hamamatsu D2光源LS-LED1具有高亮度白光LED的光源

光纖配件:CP-RepairToolKitCP-1-1.3 接觸探頭是相當(dāng)堅(jiān)固的,但是光纖不能經(jīng)常被抽屜碰撞或者被椅子壓過。該套件包括指令,以及簡(jiǎn)單的維修工具,新的和舊風(fēng)格的探頭。FO-PAT-SMA-SMA-200-22 米長(zhǎng),直徑 200um 的光纖, 兩端配備 SMA 接頭。FO-RP1-.25-SMA-200-1.32 米長(zhǎng),分叉反射探頭。 氮化鎵膜厚儀輪廓測(cè)量應(yīng)用

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司專注技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā),發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大。一批專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì),是實(shí)現(xiàn)企業(yè)戰(zhàn)略目標(biāo)的基礎(chǔ),是企業(yè)持續(xù)發(fā)展的動(dòng)力。公司以誠(chéng)信為本,業(yè)務(wù)領(lǐng)域涵蓋磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測(cè)試儀器的批發(fā),我們本著對(duì)客戶負(fù)責(zé),對(duì)員工負(fù)責(zé),更是對(duì)公司發(fā)展負(fù)責(zé)的態(tài)度,爭(zhēng)取做到讓每位客戶滿意。公司深耕磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測(cè)試儀器的批發(fā),正積蓄著更大的能量,向更廣闊的空間、更寬泛的領(lǐng)域拓展。