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國產輪廓儀高性價比選擇

來源: 發(fā)布時間:2021-01-31

輪廓儀在晶圓的IC封裝中的應用:

晶圓的IC制造過程可簡單看作是將光罩上的電路圖通過UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過程,其中由于光罩中電路結構尺寸極小,任何微小的黏附異物和下次均會導致制造的晶圓IC表面存在缺 陷,因此必須對光罩和晶圓的表面輪廓進行檢測,檢測相應的輪廓尺寸。



白光輪廓儀的典型應用:

對各種產品,不見和材料表面的平面度,粗糙度,波溫度,面型輪廓,表面缺 陷,磨損情況,腐蝕情況,孔隙間隙,臺階高度,完全變形情況,加工情況等表面形貌特征進行測量和分析。


共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉多***盤、帶有壓電驅動器的物鏡和CCD相機。國產輪廓儀高性價比選擇

輪廓儀對所測樣品的尺寸有何要求?

答:輪廓儀對載物臺xy行程為140*110mm(可擴展),Z向測量范圍比較大可達10mm,但由于白光干涉儀單次測量區(qū)域比較小(以10X鏡頭為例,在1mm左右),因而在測量大尺寸的樣品時,全檢的方式需要進行拼接測量,檢測效率會比較低,建議尋找樣品表 面的特征位置或抽取若干區(qū)域進行抽點檢測,以單點或多點反映整個面的粗糙度參數(shù);

4.測量的**小尺寸是否可以達到12mm,或者能夠測到更小的尺寸?


如果需要了解更多,請訪問官網。 臺式輪廓儀競爭力怎么樣表面三維評定參數(shù)由于能更***,更真實的反應零件表面的特征。

輪廓儀的物鏡知多少?  

白光干涉輪廓儀是基于白光干涉原理,以三維非接觸時方法測量分析樣片表面形貌的關鍵參數(shù)和尺寸,典型結果包括:

表面形貌(粗糙度,平面度,平行度,臺階高度,錐角等)

幾何特征(關鍵孔徑尺寸,曲率半徑,特征區(qū)域的面積和集體,特征圖形的位置和數(shù)量等)

白光干涉系統(tǒng)基于無限遠顯微鏡系統(tǒng),通過干涉物鏡產生干涉條紋,使基本的光學顯微鏡系統(tǒng)變?yōu)榘坠飧缮鎯x。  

因此物鏡是輪廓儀****的部件,

物鏡的選擇根據功能和檢測的精度提出需求,為了滿足各種精度的需求,需要提供各種物鏡,例如標配的10×, 還有2.5×,5×,20×,50×,100×,可選。  

不同的鏡頭價格有很大的差別,因此需要量力根據需求選配對應的鏡頭哦。

輪廓儀的性能 

測量模式

移相干涉(PSI),白光垂直掃描干涉(VSI),單色光垂直掃描干涉(CSI)

樣 品 臺

150mm/200mm/300mm 樣品臺(可選配)

XY 平移:±25mm/150mm/200mm/300mm,傾斜:±5°

可選手動/電動樣品臺

CCD 相機像素

標配:1280×960

視場范圍

560×750um(10×物鏡)

具體視場范圍取決于所配物鏡及 CCD 相機

光學系統(tǒng)

同軸照明無限遠干涉成像系統(tǒng)

光 源

高 效 LED

Z 方向聚焦 80mm 手動聚焦(可選電動聚焦)

Z 方向掃描范圍 精密 PZT 掃描(可選擇高精密機械掃描,拓展達 10mm )

縱向分辨率 <0.1nm

RMS 重復性* 0.005nm,1σ

臺階測量** 準確度 ≤0.75%;重復性 ≤0.1%,1σ

橫向分辨率 ≥0.35um(100 倍物鏡)

檢測速度 ≤ 35um/sec , 與所選的 CCD  NanoX-8000隔振系統(tǒng):集成氣浮隔振 + 大理石基石。

輪廓儀的技術原理

被測表面(光)與參考面(光)之間的光程差(高度差)形成干涉

移相法(PSI)  高度和干涉相位

f = (2p/l ) 2 h

形貌高度: < 120nm

精度: < 1nm

RMS重復性: 0.01nm

垂直掃描法

(VSI+CSI)  

精度: ?/1000   干涉信號~光程差位置

形貌高度: nm-mm,

精度: >2nm

干涉測量技術:快速靈活、超納米精度、測量精度不受物鏡倍率影響


以下來自網絡:

輪廓儀,能描繪工件表面波度與粗糙度,并給出其數(shù)值的儀器,采用精密氣浮導軌為直線基準。輪廓測試儀是對物體的輪廓、二維尺寸、二維位移進行測試與檢驗的儀器,作為精密測量儀器在汽車制造和鐵路行業(yè)的應用十分***。


由于光罩中電路結構尺寸極小,任何微小的黏附異物和下次均會導致制造的晶圓IC表面存在缺 陷。晶片輪廓儀可以試用嗎

在結構上,輪廓儀基本上都是臺式的,而粗糙度儀以手持式的居多,當然也有臺式的。國產輪廓儀高性價比選擇

1)白光輪廓儀的典型應用:

對各種產品,不見和材料表面的平面度,粗糙度,波溫度,面型輪廓,表面缺 陷,磨損情況,腐蝕情況,孔隙間隙,臺階高度,完全變形情況,加工情況等表面形貌特征進行測量和分析。  

2)共聚焦顯微鏡方法 

共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉多***盤、帶有壓電驅動器的物鏡和CCD相機。LED光源通過多***盤(MPD)和物鏡聚焦到樣品表面上,從而反射光。反射光通過MPD的***減小到聚焦的部分落在CCD相機上。傳統(tǒng)光學顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細節(jié),但是在共焦圖像中,通過多***盤的操作濾除模糊細節(jié)(未聚焦),只有來自聚焦平面的光到達CCD相機。因此,共聚焦顯微鏡能夠在納米范圍內獲得高 分辨率。 每個共焦圖像是通過樣品的形貌的水平切片,在不同的焦點高度捕獲圖像產生這樣的圖像的堆疊,共焦顯微鏡通過壓電驅動器和物鏡的精確垂直位移來實現(xiàn)。200到400個共焦圖像通常在幾秒內被捕獲,之后軟件從共焦圖像的堆棧重建精確的三維高度圖像。





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