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中國香港本地光刻機

來源: 發(fā)布時間:2021-01-24

光刻膠處理系統(tǒng)


EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新標準。EVG100系列的設計旨在提供**廣/泛的工藝變革,其模塊化功能可提供旋涂和噴涂,顯影,烘烤和冷卻模塊,以滿足個性化生產(chǎn)需求。這些系統(tǒng)可處理各種材料,例如正性和負性光刻膠,聚酰亞胺,薄光刻膠層的雙面涂層,高粘度光刻膠和邊緣保護涂層。這些系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板,直徑從2寸到300 mm,矩形,正方形甚至不規(guī)則形狀的基板,而無需或只需很短的加工時間。


HERCULES 全電動頂部和底部分離場顯微鏡支持實時、大間隙、晶圓平面或紅外對準,在可編程位置自動定位。中國香港本地光刻機

IQ Aligner®NT技術(shù)數(shù)據(jù):

產(chǎn)能:

全自動:首/次生產(chǎn)量印刷:每小時200片

全自動:吞吐量對準:每小時160片晶圓

工業(yè)自動化功能:盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,彎曲,翹曲,晶圓邊緣處理


智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能(框架SW平臺)

用于過程和機器控制的集成分析功能

并行任務/排隊任務處理功能

設備和過程性能跟/蹤功能

智能處理功能

事/故和警報分析/智能維護管理和跟/蹤


晶圓直徑(基板尺寸):高達300毫米

對準方式:

頂部對準:≤±0,25 μm

底側(cè)對準:≤±0.5 μm

紅外對準:≤±2,0 μm /取決于基材 四川EVG620 NT光刻機研發(fā)設備與EVG的**技術(shù)平臺無縫集成,這些平臺涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個制造鏈。

EVG ® 101--先進的光刻膠處理系統(tǒng)

主要應用:研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工


EVG101光刻膠處理系統(tǒng)在單腔設計中執(zhí)行研發(fā)類型的工藝,與EVG的自動化系統(tǒng)完全兼容。EVG101光刻膠處理機支持**/大300 mm的晶圓,并可配置用于旋涂或噴涂以及顯影應用。通過EVG先進的OmniSpray涂層技術(shù),在互連技術(shù)的3D結(jié)構(gòu)晶圓上獲得了光致光刻膠或聚合物的保形層。這確保了珍貴的高粘度光刻膠或聚合物的材料消耗降低,同時提高了均勻性和光刻膠鋪展選擇。這**地節(jié)省了用戶的成本。


IQ Aligner特征:

晶圓/基板尺寸從小到200 mm /

8''

由于外部晶圓楔形測量,實現(xiàn)了非接觸式接近模式

增強的振動隔離,有效減少誤差

各種對準功能提高了過程靈活性

跳動控制對準功能,提高了效率

多種晶圓尺寸的易碎,薄或翹曲的晶圓處理

高地表形貌晶圓加工經(jīng)驗

手動基板裝載能力

遠程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性


IQ Aligner附加功能:

紅外對準–透射和/或反射


IQ Aligner技術(shù)數(shù)據(jù):

楔形補償:全自動軟件控制

非接觸式

先進的對準功能:自動對準;大間隙對準;跳動控制對準;動態(tài)對準 所有系統(tǒng)均支持原位對準驗證的軟件,可以提高手動操作系統(tǒng)的對準精度和可重復性。

EVG曝光光學:專門開發(fā)的分辨率增強型光學元件(REO)可提供高出50%的強度,并顯著提高/分辨率,在接近模式下可達到小于3μm的分辨率。REO的特殊設計有助于控制干涉效應以獲得分辨率。EVG**/新的曝光光學增強功能是LED燈設置。低能耗和長壽命是UV-LED光源的**/大優(yōu)勢,因為不需要預熱或冷卻。在用戶軟件界面中可以輕松、實際地完成曝光光譜設置。此外,LED需要*在曝光期間供電,并且該技術(shù)消除了對汞燈經(jīng)常需要的額外設施(廢氣,冷卻氣體)和更換燈的需要。這種理想的組合不僅可以**/大限度地降低運行和維護成本,還可以增加操作員的安全性和環(huán)境友好性。HERCULES對準精度:上側(cè)對準:≤±0.5 μm;底側(cè)對準:≤±1,0 μm;紅外校準:≤±2,0 μm /具體取決于基材。中國澳門光刻機LED應用

EVG100光刻膠處理系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板,直徑從2寸到300 mm。中國香港本地光刻機

     EV Group企業(yè)技術(shù)總監(jiān)Thomas Glinsner博士證實:“我們看到支持晶圓級光學器件的設備需求正在急劇增加?!?“*從今年年初開始,我們就向大型WLO制造商交付了多個用于透鏡成型和堆疊以及計量的系統(tǒng),以進行大批量生產(chǎn)。此類訂單進一步鞏固了EVG在該領域市場***的地位,同時創(chuàng)造了新興應用程序中有大量新機會?!?

      業(yè)界**的設備制造商**近宣布了擴大其傳感領域業(yè)務目標的計劃,以幫助解決客戶日益激進的上市時間窗口。根據(jù)市場研究和策略咨詢公司YoleDéveloppement的說法,下一代智能手機中正在設計十多種傳感器。其中包括3D感測相機,指紋傳感器,虹膜掃描儀,激光二極管發(fā)射器,激光測距儀和生物傳感器??傮w而言,光纖集線器預計將從2016年的106億美元增長到2021年的180億美元,復合年增長率超過11%*。 中國香港本地光刻機

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